公开(公告)号：CN101864552A

公开(公告)日：2010-10-20

申请号：CN201010161616.9

申请日：2010-04-14

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 高政佑 ,  李相信 ,  姜择教 ,  洪承柱

IPC: C23C14/04 ,  C23C16/04 ,  H01L51/56

CPC classification number: B05C11/00 ,  C23C14/042 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/56 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T29/49885 ,  Y10T156/10

Abstract: 本发明提供了一种用于薄膜沉积的掩模框架组件，所述组件包括：框架，包括开口部分和支撑部分；掩模，具有在与所述开口部分对应的位置处的沉积区，其中，所述掩模包括第一层和第二层，所述第一层包括所述沉积区和设置在所述沉积区外部的外围部分，所述第二层包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述第二层的第一表面的至少一部分面向所述第一层并接触所述外围部分，所述第二表面被焊接到所述框架的支撑部分。

公开(公告)号：CN101824591A

公开(公告)日：2010-09-08

申请号：CN201010123804.2

申请日：2010-02-25

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 李相信 ,  高政佑 ,  姜泽教 ,  洪承柱

IPC: C23C14/04 ,  C23C16/04

CPC classification number: C23C16/042 ,  C23C14/042

Abstract: 本发明公开了一种沉积掩模，所述沉积掩模包括掩模板以及支撑掩模板的周边的框架。所述框架包括附于掩模板的接触表面以及面对掩模板并与之隔开的非接触表面，非接触表面从接触表面延伸至形成在框架的中心的开口。非接触表面可以相对于掩模板形成锐角。