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公开(公告)号：CN112748641B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN201911056658.3
申请日：2019-10-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种镜片底部气帘防护装置，气体通过设置在镜片底部一定空间内的斜向出气口，向镜片出射并在距离镜片一定距离处相遇，以在镜片底部形成防护气帘，有效防止污染物接触镜片，提高镜片的成像质量。进一步的，本发明采用斜向送风的方式，使镜片底部形成的防护气体的流场更加稳定，长时间使用受环境波动的影响较小，降低了设备的维护频率，提高设备的可靠性。而且，本发明中气体在通孔的中心相遇后自上而下扩散，使装置有较大的供气量使用范围，相应减少现场调试时间，提高镜片底部环境的稳定性。
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公开(公告)号：CN112748642B
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN201911056713.9
申请日：2019-10-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及光刻设备技术领域，公开一种导流均流装置。所述导流均流装置包括均流组件和导流组件，均流组件包括罩壳，罩壳安装于风机末端空间壁面上，导流组件设置于罩壳内，且罩壳的表面上开设有多个均流孔。风机出风从风机末端空间壁面流入罩壳内，并在导流组件的导流下，从多个均流孔中流出，使得该导流均流装置实现导流和均流的双重作用，保持风机末端静压腔压力和温度均匀，提高光路的均匀性，且提高换热效率，保护光刻设备中部件不受损坏，延长部件的使用寿命。本发明中的导流组件包括导流板，导流板角度可调地设置于风机末端空间壁面上，可以根据不同的工况调整导流板的角度，不需重新设计导流均流装置，提高了其适用性。
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公开(公告)号：CN113584428A
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202010368201.2
申请日：2020-04-30
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
摘要： 本发明提供一种掩模夹持模块、掩模拉伸装置及张网机，掩模夹持模块包括驱动组件、第一动块、第二动块以及夹持组件；第一动块在驱动组件的驱动下沿第一方向平移运动；第一动块包括第一接触面，第二动块包括与第一接触面相对布置的第二接触面，第一动块与第二动块通过第一接触面与第二接触面连接，且第一接触面和第二接触面被限制在垂直于第一接触面和第二接触面方向上的移动自由度，第二动块在第一动块平移运动的带动下沿第二方向平移运动；夹持组件与第二动块连接，并随第二动块运动，用于夹持掩模。如此配置，传动机构结构简单，减小了夹持力传动的误差，传动稳定可靠，运动精度高，提高对掩模的夹紧质量。
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公开(公告)号：CN113579604B
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202010368194.6
申请日：2020-04-30
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： B23K37/04
摘要： 本发明涉及一种掩模板夹持装置以及包括所述掩模板夹持装置的张网设备。所述掩模板夹持装置在夹持块上设置有至少两个沟槽，所述沟槽的深度方向和长度方向均与所述掩模板的厚度方向垂直，所述沟槽沿所述掩模板的厚度方向排列且在所述深度方向相互交叠。沟槽的设置使得夹持块具有一定的柔性，柔性夹持块在夹持过程中可以根据应力情况进行自适应调整，使作用于掩模板上的夹持力更加均衡，减小所夹持的掩模板的变形量，在夹持精密掩模板时，可以提高像素套合精度。
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公开(公告)号：CN111435221B
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN201910032440.8
申请日：2019-01-14
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种污染防护装置及参数确定方法、物镜防护系统、光刻机。该污染防护装置包括包括至少一组防护组件；待清洁物体与防护组件沿第一方向依次设置，且待清洁物体的待清洁表面靠近防护组件；防护组件包括至少一组清洁结构和至少一个对置物；同一防护组件中，清洁结构和对置物沿第二方向间隔排列；清洁结构中设置有供气通道；对置物、清洁结构和待清洁表面共同围成第一清洁气体传输通道，供气通道包括出风口，供气通道通过出风口与第一清洁气体传输通道连通；第一方向与第二方向交叉。本发明实施例提供的污染防护装置，可以避免污染物质与待清洁表面接触，同时保证第一清洁气体传输通道的光学透过率。
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公开(公告)号：CN112748642A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201911056713.9
申请日：2019-10-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及光刻设备技术领域，公开一种导流均流装置。所述导流均流装置包括均流组件和导流组件，均流组件包括罩壳，罩壳安装于风机末端空间壁面上，导流组件设置于罩壳内，且罩壳的表面上开设有多个均流孔。风机出风从风机末端空间壁面流入罩壳内，并在导流组件的导流下，从多个均流孔中流出，使得该导流均流装置实现导流和均流的双重作用，保持风机末端静压腔压力和温度均匀，提高光路的均匀性，且提高换热效率，保护光刻设备中部件不受损坏，延长部件的使用寿命。本发明中的导流组件包括导流板，导流板角度可调地设置于风机末端空间壁面上，可以根据不同的工况调整导流板的角度，不需重新设计导流均流装置，提高了其适用性。
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公开(公告)号：CN110941146A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201811107683.5
申请日：2018-09-21
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明属于光刻技术领域，具体公开了一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机。本发明提供的栅格板设计方法包括：S1：确定栅格板的初始的设计参数，所述栅格板包括多个栅格；S2：根据设计参数，建立气浴装置的流体仿真模型；S3：计算获得流体出口的流体数据；S4：判断流体数据是否满足预设条件，如果是，执行S5，如果否，执行S6；S5：根据流体数据调整每个栅格或部分栅格的通风面积，更新设计参数并返回至S2；S6：获取每个栅格的最优通风面积。栅格板采用上述的栅格板设计方法形成，气浴装置包括上述的栅格板，光刻机包括上述的气浴装置。本发明提供的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机，提高了流体出口的流动均匀性和稳定性。
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公开(公告)号：CN116074994A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202111275975.1
申请日：2021-10-29
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： H05B1/00
摘要： 本发明公开了一种隔热结构及光配向设备，属于半导体技术领域。一种隔热结构包括隔热本体和防变形气冷槽，隔热本体包括受热面，所述受热面用于朝向发热件；防变形气冷槽设置于所述隔热本体内且与所述隔热本体的侧壁面贯通，所述防变形气冷槽的槽口与所述受热面贯通。开设防变形气冷槽，不仅能起到降温功能，同时槽口处用于接收受热面受热膨胀的形变量，即使受热面受热膨胀，隔热本体整体的热变形也较小，提高了光配向设备整体结构的稳定性。
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公开(公告)号：CN113584428B
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202010368201.2
申请日：2020-04-30
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
摘要： 本发明提供一种掩模夹持模块、掩模拉伸装置及张网机，掩模夹持模块包括驱动组件、第一动块、第二动块以及夹持组件；第一动块在驱动组件的驱动下沿第一方向平移运动；第一动块包括第一接触面，第二动块包括与第一接触面相对布置的第二接触面，第一动块与第二动块通过第一接触面与第二接触面连接，且第一接触面和第二接触面被限制在垂直于第一接触面和第二接触面方向上的移动自由度，第二动块在第一动块平移运动的带动下沿第二方向平移运动；夹持组件与第二动块连接，并随第二动块运动，用于夹持掩模。如此配置，传动机构结构简单，减小了夹持力传动的误差，传动稳定可靠，运动精度高，提高对掩模的夹紧质量。
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公开(公告)号：CN112748641A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201911056658.3
申请日：2019-10-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种镜片底部气帘防护装置，气体通过设置在镜片底部一定空间内的斜向出气口，向镜片出射并在距离镜片一定距离处相遇，以在镜片底部形成防护气帘，有效防止污染物接触镜片，提高镜片的成像质量。进一步的，本发明采用斜向送风的方式，使镜片底部形成的防护气体的流场更加稳定，长时间使用受环境波动的影响较小，降低了设备的维护频率，提高设备的可靠性。而且，本发明中气体在通孔的中心相遇后自上而下扩散，使装置有较大的供气量使用范围，相应减少现场调试时间，提高镜片底部环境的稳定性。
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