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公开(公告)号：CN111381452B
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN201811643254.X
申请日：2018-12-29
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种掩模板冷却装置及光刻设备。该掩模板冷却装置包括支撑架和支撑架限定的镂空区域，支撑架包括至少一个出风口以及与每个出风口对应设置且连接的进风口；支撑架包括用于支撑掩模板的第一表面以及用于限定出镂空区域的内侧面，出风口位于第一表面与内侧面的交界处，出风口为长条形，当支撑架上支撑有掩模板时，出风口喷出的气流所形成的风幕平行于所述掩模板，其中，出风口喷出的气流沿支撑架指向所述镂空区域的方向流动。本发明实施例提供的掩模板冷却装置，可以提高掩模板的冷却降温效果。
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公开(公告)号：CN110554570A
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201810548633.4
申请日：2018-05-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种污染控制装置及方法、物镜系统及光刻机设备。该污染控制装置包括至少一个风腔，风腔具有至少一个入风口，以及至少两个第一出风口和至少一组第二出风口；每组第二出风口包括两个相对于风腔的中轴线对称的第二出风口；第一出风口设置在第二出风口的外圈；第一出风口的出风方向背向至少一个风腔的中心，且与至少一个风腔的中轴线呈第一夹角，第二出风口的出风方向朝向至少一个风腔的中心，且与中轴线呈第二夹角。本发明实施例提供的污染控制装置，通过设置至少两个第一出风口和至少一组第二出风口，在污染控制装置工作时可以形成半封闭空间，进而阻止污染物进入半封闭空间内。
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公开(公告)号：CN112748641A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201911056658.3
申请日：2019-10-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种镜片底部气帘防护装置，气体通过设置在镜片底部一定空间内的斜向出气口，向镜片出射并在距离镜片一定距离处相遇，以在镜片底部形成防护气帘，有效防止污染物接触镜片，提高镜片的成像质量。进一步的，本发明采用斜向送风的方式，使镜片底部形成的防护气体的流场更加稳定，长时间使用受环境波动的影响较小，降低了设备的维护频率，提高设备的可靠性。而且，本发明中气体在通孔的中心相遇后自上而下扩散，使装置有较大的供气量使用范围，相应减少现场调试时间，提高镜片底部环境的稳定性。
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公开(公告)号：CN109283797B
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN201710602722.8
申请日：2017-07-21
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种物镜保护装置、物镜系统以及光刻设备，所述物镜保护装置包括一主体结构，所述主体结构具有送气单元和抽排单元，所述送气单元输出气体，所述抽排单元对所述送气单元输出的气体进行抽排，从而在所述送气单元和所述抽排单元之间形成至少一层风幕。在本发明提供的物镜保护装置中，利用送气单元和抽排单元形成风幕，当装置运行时，在横向细密均匀的送风口作用下，可以有效控制出风流速，将风控制在层流状态，保证风幕的流场均匀，同时，在第一抽风口的作用下，形成了一层覆盖整个镜片的风幕，可以有效将由下而上挥发的有机物阻挡，消除其与镜片直接接触的机会，防止物镜镜片受到光刻胶的有机物挥发污染，保证物镜的成像质量。
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公开(公告)号：CN107783283B
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201610767140.0
申请日：2016-08-30
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G02B27/00
摘要： 本发明提供了一种镜片防污染装置及方法，包括第一装置及第二装置，所述第一装置靠近所述镜片，所述第二装置远离所述镜片；其中，所述第一装置输出保护层气体，通过喷嘴使保护层气体紧贴镜片下表面均匀流过，可以清洁已污染的镜片并形成保护层以防止再次污染；所述第二装置带离污染源附近气体，污染气体通过小孔进入环形腔体，并由排气通道的抽排动力排到远离的环境中。曝光前，先开启第一装置，再开启第二装置，曝光结束12小时后可关闭第二装置。本发明方案可更好解决光刻胶有机物挥发污染镜片，安装实施简便，使用寿命长，成本低廉，可靠性高，并保证污染物完全清除，不进入物镜内部。
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公开(公告)号：CN114054964B
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202010764691.8
申请日：2020-07-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： B23K26/362 , B23K26/70 , G03F7/20
摘要： 本发明的一种镜片保护装置和光刻机，其中，镜片保护装置通过在第一保护结构和镜片之间设有第二保护结构，并使第二保护结构输出的第二保护气体中的惰性气体的比例大于第一保护结构输出的第一保护气体中惰性气体的比例。如此，通过在镜片与第一保护气膜之间形成有第二保护气膜，且使第二保护气膜比第一保护气膜更纯净，则在第一保护结构输出的第一保护气体朝向镜片方向扩散时，第二保护气膜可有效的阻挡第一保护气体扩散至镜片，以防止第一保护气体在扩散过程中造成镜片的污染。
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公开(公告)号：CN114967352A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202110220311.9
申请日：2021-02-26
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种防污装置，属于光刻技术领域。防污装置能够置于待光刻件与物镜之间，具体包括：防污本体，呈环形结构，防污本体具有沿第一方向间隔设置的第一侧和第二侧，且第一侧相对于第二侧更靠近待光刻件；防污本体的第一侧与待光刻件之间为间隙配合；透光件，防污本体的中心形成有中空的透光部，透光件封闭透光部，物镜的光通过透光件透射至待光刻件上；抽排组件，包括开设于防污本体的第一侧的多个抽风孔和设于防污本体内部的抽排通道，抽风孔与抽排通道相连通，待光刻件周围的污染物依次经由抽风孔和抽排通道被抽至外界。本发明的防污装置能够有效隔离镜片与待光刻件，同时进行污染物的抽离，提升防污效果。
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公开(公告)号：CN112748641B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN201911056658.3
申请日：2019-10-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种镜片底部气帘防护装置，气体通过设置在镜片底部一定空间内的斜向出气口，向镜片出射并在距离镜片一定距离处相遇，以在镜片底部形成防护气帘，有效防止污染物接触镜片，提高镜片的成像质量。进一步的，本发明采用斜向送风的方式，使镜片底部形成的防护气体的流场更加稳定，长时间使用受环境波动的影响较小，降低了设备的维护频率，提高设备的可靠性。而且，本发明中气体在通孔的中心相遇后自上而下扩散，使装置有较大的供气量使用范围，相应减少现场调试时间，提高镜片底部环境的稳定性。
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公开(公告)号：CN110554570B
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201810548633.4
申请日：2018-05-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种污染控制装置及方法、物镜系统及光刻机设备。该污染控制装置包括至少一个风腔，风腔具有至少一个入风口，以及至少两个第一出风口和至少一组第二出风口；每组第二出风口包括两个相对于风腔的中轴线对称的第二出风口；第一出风口设置在第二出风口的外圈；第一出风口的出风方向背向至少一个风腔的中心，且与至少一个风腔的中轴线呈第一夹角，第二出风口的出风方向朝向至少一个风腔的中心，且与中轴线呈第二夹角。本发明实施例提供的污染控制装置，通过设置至少两个第一出风口和至少一组第二出风口，在污染控制装置工作时可以形成半封闭空间，进而阻止污染物进入半封闭空间内。
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公开(公告)号：CN111381452A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201811643254.X
申请日：2018-12-29
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种掩模板冷却装置及光刻设备。该掩模板冷却装置包括支撑架和支撑架限定的镂空区域，支撑架包括至少一个出风口以及与每个出风口对应设置且连接的进风口；支撑架包括用于支撑掩模板的第一表面以及用于限定出镂空区域的内侧面，出风口位于第一表面与内侧面的交界处，出风口为长条形，当支撑架上支撑有掩模板时，出风口喷出的气流所形成的风幕平行于所述掩模板，其中，出风口喷出的气流沿支撑架指向所述镂空区域的方向流动。本发明实施例提供的掩模板冷却装置，可以提高掩模板的冷却降温效果。
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