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发明公开
一种利用等离子体进行粉末沉积的成膜方法及装置审中-实审

公开(公告)号：CN118256869A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202410382992.2

申请日：2024-04-01

申请人： 上海恒芯金属制品制造有限公司

发明人： 颜杨逸 , 潘无忌 , 刘名笙 , 余宜璠 , 杨鑫

IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/22

摘要： 本发明公开了利用等离子体进行粉末沉积的成膜方法及装置，涉及气溶胶沉积技术领域，首先将粒度为50～5000nm氧化物粉末进行脱气处理，然后利用载流气体对粉末进行鼓吹直至生成气溶胶；母材基板所处环境为真空环境，并且临近母材基板表面位置设有若干平行或近平行的磁感线，然后将载流气体和气溶胶共同沿磁感线的中轴线方向喷射至母材基板表面，沉积成膜。该方法降低了载气速度和颗粒速度，成膜均匀致密，且提高了沉积成膜的原料粒度范围。