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发明公开
一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液及化学机械抛光方法审中-实审

公开(公告)号：CN118791973A

公开(公告)日：2024-10-18

申请号：CN202410792194.7

申请日：2024-06-19

Applicant: 中国矿业大学(北京)

Inventor： 程洁 , 苗钦华 , 葛世荣 , 邓久帅 , 任小勇

IPC: C09G1/02 , H01L21/306

Abstract: 本发明公开了一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液及化学机械抛光方法，所述化学机械抛光液由1‑10wt.％的磨料、0.5‑5wt.％的氧化剂、10‑150mmol/L的络合剂、pH调节剂以及余量的水组成，所述络合剂为柠檬酸或柠檬酸盐。本发明的化学机械抛光液选用合适的氧化剂、络合剂种类和浓度配比，在抛光液中化学物质的化学反应和磨粒的机械磨损协同作用下，提高金属钛的材料去除速率，并获得优质光滑的表面在钴互连阻挡层钛的CMP工艺中具有广阔的应用前景。

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