公开(公告)号：CN118791973A

公开(公告)日：2024-10-18

申请号：CN202410792194.7

申请日：2024-06-19

Applicant: 中国矿业大学(北京)

Inventor： 程洁 ,  苗钦华 ,  葛世荣 ,  邓久帅 ,  任小勇

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明公开了一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液及化学机械抛光方法，所述化学机械抛光液由1‑10wt.％的磨料、0.5‑5wt.％的氧化剂、10‑150mmol/L的络合剂、pH调节剂以及余量的水组成，所述络合剂为柠檬酸或柠檬酸盐。本发明的化学机械抛光液选用合适的氧化剂、络合剂种类和浓度配比，在抛光液中化学物质的化学反应和磨粒的机械磨损协同作用下，提高金属钛的材料去除速率，并获得优质光滑的表面在钴互连阻挡层钛的CMP工艺中具有广阔的应用前景。

公开(公告)号：CN117305843A

公开(公告)日：2023-12-29

申请号：CN202311065679.8

申请日：2023-08-23

Applicant: 中国矿业大学(北京)

Inventor： 苗钦华 ,  程洁 ,  葛世荣 ,  邓久帅 ,  吕雅然

IPC: C23F3/04

Abstract: 本发明公开了一种用于Co互连粗抛阶段的化学机械抛光液及其化学机械抛光方法，所述化学机械抛光液包括0.1‑5wt.％的氧化剂、0.1‑5wt.％的络合剂、0.005‑5wt.％的缓蚀剂、0.01‑0.5wt.％的pH调节剂、0.1‑5wt.％的磨料和余量的水，所述缓蚀剂为2,2’‑[[(甲基‑1H‑苯并三唑‑1‑基)甲基]亚氨基]双乙醇、油酸钾或十二烷基苯磺酸。本发明的化学机械抛光液，可以用于Co互连粗抛阶段的化学机械抛光，通过提高化学反应和机械磨损的协同作用，化学机械抛光液在Co抛光过程中能够获得较高的材料去除速率、较低的静态腐蚀速率、较低的表面粗糙度以及均匀的腐蚀后表面形貌，在Co互连结构的CMP工艺中具有广阔的应用前景。