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公开(公告)号：CN114879415B
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN202210469280.5
申请日：2022-04-28
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1339 , G02F1/1335
摘要： 本公开实施例提供了一种曲面显示基板、曲面显示屏及电子设备，曲面显示基板包括：设置在曲面显示基板上第一区域中的支撑结构，第一区域包括曲面显示基板的曲面区域；设置在第一区域中的支撑结构的设置位置相对于支撑结构左右相邻两侧的一列像素开口部的距离不相等，其中，支撑结构与第一侧的第一列像素开口部之间的距离小于支撑结构与第二侧的第二列像素开口部之间的距离，第一列像素开口为支撑结构相邻的两列像素开口部中更靠近曲面显示基板中心线的一列像素开口部；像素开口部为根据第一区域中调整支撑结构位置减少的总距离而扩大开口面积后的像素开口部。本公开实施例增加了像素开口部的开口面积，提升了光的透过率，提升了产品性能。
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公开(公告)号：CN106054539B
公开(公告)日：2018-10-30
申请号：CN201610412727.X
申请日：2016-06-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及曝光机技术领域，提供了一种承载工作台。该承载工作台包括用于自动清洗台面的擦拭设备和用于干燥台面的干燥设备。通过擦拭设备可清除较顽固污渍，清洁效果好；通过干燥设备可加快清洁剂的蒸发速度，实现即擦即干，可在短时间内完成自动清洁，不影响设备及产线的正常运营。
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公开(公告)号：CN106853644A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：CN201710003133.8
申请日：2017-01-03
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及显示装置制备技术领域，公开了一种机械手臂，该机械手臂包括：呈柱状设置的臂部；平行设置的多个手部，该多个手部沿臂部的延伸方向上依次排列；每一个手部为包括至少两个侧面的柱状结构，且每一个侧面设有多个吸附孔，每一个侧面的吸附孔位置分布不同；每一个所述手部可拆卸地安装于所述臂部上。上述机械手臂可以通过沿臂部的延伸方向上并行设置的多个手部将基板吸附固定；利用上述机械手臂进行基板传送时，针对不同类型显示面板的制备基板，可以选择吸附孔分布位置与基板的显示面板区分布相匹配的手部吸附面来对该基板进行吸附固定、以避免基板的显示面板区产生条纹；因此，上述机械手臂可以适用于多种显示面板基板的传送操作。
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公开(公告)号：CN106054539A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610412727.X
申请日：2016-06-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70716
摘要： 本发明涉及曝光机技术领域，提供了一种承载工作台。该承载工作台包括用于自动清洗台面的擦拭设备和用于干燥台面的干燥设备。通过擦拭设备可清除较顽固污渍，清洁效果好；通过干燥设备可加快清洁剂的蒸发速度，实现即擦即干，可在短时间内完成自动清洁，不影响设备及产线的正常运营。
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公开(公告)号：CN104991424A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201510444202.X
申请日：2015-07-23
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70775 , G02F1/1303 , G03F7/7055 , G03F9/703 , G03F9/7038
摘要： 本发明涉及液晶显示器制备工艺技术领域，公开了一种黑矩阵曝光图案的补正方法和装置以及曝光系统，用以提高补正精度，进而提高显示面板的显示效果。其中黑矩阵曝光图案的补正方法，包括：获得曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与掩模板之间距离的间隙调整参数，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面内，回转方向为工作台绕支撑掩模板的基台的中心轴旋转的方向；根据第一方向和第二方向上的位移调整参数、角度调整参数以及间隙调整参数控制工作台移动。
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公开(公告)号：CN103639153A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201310686918.1
申请日：2013-12-13
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种靶材缝隙清洁装置和方法，涉及半导体制造领域，能够避免缝隙清洁过程中粉尘的散落。该靶材缝隙清洁装置，包括：靶材正面吹气单元、靶材侧面吹气单元和靶材侧面吸尘器。该靶材缝隙清洁方法，包括：向靶材正面的缝隙吹气；向靶材第一侧面的缝隙吹气；从靶材第二侧面的缝隙吸取粉尘，所述第一侧面为与所述第二侧面相对的面。
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公开(公告)号：CN107104072B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201710279296.9
申请日：2017-04-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L21/683
摘要： 本发明公开了一种吸球，包括：具有通气孔的吸盘；弹性的气囊，所述吸盘的通气孔通过气道与所述气囊的内腔相连通；弹性的吸头，所述吸头罩在所述气囊的外侧，且所述吸头和所述气囊之间形成夹层；其中，所述夹层内未注入液体时，所述夹层的容积为初始容积，外力挤压所述吸球后在所述吸盘处的吸附力为初始吸附力；所述夹层内注入体积大于初始容积的液体后，所述气囊受到液体的压力作用体积变小带动所述气囊的内腔的容积变小，外力挤压所述吸球后在所述吸盘处的吸附力小于初始吸附力。本发明的吸球，与现有技术相比，解决了现有的吸球因吸附力固定不变导致影响被吸附装置的品质的技术问题。
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公开(公告)号：CN104991424B
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201510444202.X
申请日：2015-07-23
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70775 , G02F1/1303 , G03F7/7055 , G03F9/703 , G03F9/7038
摘要： 本发明涉及液晶显示器制备工艺技术领域，公开了一种黑矩阵曝光图案的补正方法和装置以及曝光系统，用以提高补正精度，进而提高显示面板的显示效果。其中黑矩阵曝光图案的补正方法，包括：获得曝光装置中用于支撑基板的工作台在第一方向和第二方向上的位移调整参数、回转方向上的回转角度调整参数以及与掩模板之间距离的间隙调整参数，其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面内，回转方向为工作台绕支撑掩模板的基台的中心轴旋转的方向；根据第一方向和第二方向上的位移调整参数、角度调整参数以及间隙调整参数控制工作台移动。
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公开(公告)号：CN107104072A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710279296.9
申请日：2017-04-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/683
摘要： 本发明公开了一种吸球，包括：具有通气孔的吸盘；弹性的气囊，所述吸盘的通气孔通过气道与所述气囊的内腔相连通；弹性的吸头，所述吸头罩在所述气囊的外侧，且所述吸头和所述气囊之间形成夹层；其中，所述夹层内未注入液体时，所述夹层的容积为初始容积，外力挤压所述吸球后在所述吸盘处的吸附力为初始吸附力；所述夹层内注入体积大于初始容积的液体后，所述气囊受到液体的压力作用体积变小带动所述气囊的内腔的容积变小，外力挤压所述吸球后在所述吸盘处的吸附力小于初始吸附力。本发明的吸球，与现有技术相比，解决了现有的吸球因吸附力固定不变导致影响被吸附装置的品质的技术问题。
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公开(公告)号：CN108388076A
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201810181739.5
申请日：2018-03-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F1/00
摘要： 本发明公开了一种掩膜版及其掩膜方法、制造方法、掩膜系统，该掩膜版包括本体和位于本体上的第一曝光图案、第二曝光图案和位于所述第一曝光图案和所述第二曝光图案之外的遮光图案，第一曝光图案用于当第一光线照射时透光且当第二光线照射时不透光，第二曝光图案用于当第二光线照射时透光且当第一光线照射时不透光。本发明仅通过单张掩膜版即可实现多条产线的掩膜功能，有效降低了生产成本。
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