一种光阴极材料光电子发射性能评测装置及其评测方法

    公开(公告)号:CN104330430B

    公开(公告)日:2017-01-25

    申请号:CN201410446840.0

    申请日:2014-09-02

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种光阴极材料光电子发射性能评测装置及其评测方法。本发明的评测装置包括:真空腔室、真空抽气系统、真空度测量系统、光阴极组件、电源系统、光电子成像系统、数据采集系统、激光激发系统以及聚焦面镜。本发明通过在真空腔室内部设置聚焦面镜,聚焦面镜的焦点位于光阴极材料的表面,通过调节激光束的入射位置,实现激光入射角度的连续变化,并且可以改变激光的波长和偏振态,可原位测量得到光电子发射特性的全部参数。本发明的方法省去分立角度入射激光激发模式中频繁在真空腔室外部调节激光光路的一系列繁琐步骤,仅需要改变激光束的入射位置便可改变入射角度,且克服了分立角度入射带来的角度不连续问题。

    一种光阴极材料光电子发射性能评测装置及其评测方法

    公开(公告)号:CN104330430A

    公开(公告)日:2015-02-04

    申请号:CN201410446840.0

    申请日:2014-09-02

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种光阴极材料光电子发射性能评测装置及其评测方法。本发明的评测装置包括:真空腔室、真空抽气系统、真空度测量系统、光阴极组件、电源系统、光电子成像系统、数据采集系统、激光激发系统以及聚焦面镜。本发明通过在真空腔室内部设置聚焦面镜,聚焦面镜的焦点位于光阴极材料的表面,通过调节激光束的入射位置,实现激光入射角度的连续变化,并且可以改变激光的波长和偏振态,可原位测量得到光电子发射特性的全部参数。本发明的方法省去分立角度入射激光激发模式中频繁在真空腔室外部调节激光光路的一系列繁琐步骤,仅需要改变激光束的入射位置便可改变入射角度,且克服了分立角度入射带来的角度不连续问题。

    一种规模化制备超精细纳米结构的方法及其应用

    公开(公告)号:CN101357749A

    公开(公告)日:2009-02-04

    申请号:CN200810119931.8

    申请日:2008-09-10

    Applicant: 北京大学

    Inventor: 张敬民 俞大鹏

    Abstract: 本发明公开了一种规模化制备超精细纳米结构的方法与应用。该方法包括:1)将待加工物放入加速电压大于200kV的场发射透射电镜中,将该场发射透射电镜的放大倍数调至100KX,将透射电镜电子束会聚成1-10nm的束斑;2)将束斑移动至待加工物表面需制备超精细纳米结构的位置进行曝光,得到该位置的超精细纳米结构;3)移动步骤2)的束斑至下一需制备超精细纳米结构的位置;重复上述步骤得到超精细纳米结构,包括纳米孔和纳米光栅狭缝。该方法的加工精度为1nm,穿透深度可达300纳米,可控性及可重复性很高,可排列出任意二维阵列,在制备DNA测序器件、原子波衍射器件和单粒子探测器件中具有广泛应用。

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