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公开(公告)号：CN1188795A
公开(公告)日：1998-07-29
申请号：CN98110031.7
申请日：1998-01-20
申请人： 山东大学
摘要： 本发明涉及半导体或金属、液晶的清洗方法,具体涉及电子工业用清洗剂。其组成为:5—10%脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠,10—20%壬基酚聚氧乙烯醚,10—15%椰子油酰二乙醇胺或烷基醇酰胺磷酸酯,1—10%乙二醇烷基醚,5—10%直链或支链低级脂肪醇,0.1—0.2%络合剂,1—4%聚醚及余量去离子水。本发明的清洗剂能代替氟里昂清洗剂,无毒无腐蚀性,不污染环境,不破坏高空臭氧层,不引起温室效应,并可降低清洗成本。
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公开(公告)号：CN1069694C
公开(公告)日：2001-08-15
申请号：CN98110031.7
申请日：1998-01-20
申请人： 山东大学
摘要： 本发明涉及一种电子工业用清洗剂。其组成为：5-10%脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠，10-20%壬基酚聚氧乙烯醚，10-15%椰子油酰二乙醇胺或烷基醇酰胺磷酸酯，1-10%乙二醇烷基醚，5-10%直链或支链低级脂肪醇，0.1-0.2%络合剂，1-4%聚醚及余量去离子水。本发明的清洗剂能代替氟里昂清洗剂，无毒无腐蚀性，不污染环境，不破坏高空臭氧层，不引起温室效应，并可降低清洗成本。
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公开(公告)号：CN1335382A
公开(公告)日：2002-02-13
申请号：CN01115162.5
申请日：2001-07-23
申请人： 山东大学
IPC分类号： C11D1/90
摘要： 一种用于超大规模集成电路芯片的清洗剂组合物及其制备方法,属于化学品制备领域。由壬基酚聚氧乙烯醚、椰子油二乙醇酰胺、氧丙烯氧乙烯甘油醚(3000～3600)甜菜碱型表面活性剂、氨基酸型表面活性剂乙二胺四乙酸、柠檬酸、碘、异丙醇、乙醇、乙醇胺、去离子水。将有关组分通过离子交换提纯达到MOS纯,混合,复配,常压下,搅拌,消泡,过滤。使用本发明清洗剂组合物完全可以代替传统清洗技术中使用的硫酸、硝酸、盐酸、双氧水和氨水等化学试剂,清洗效果相当于或略优于传统清洗技术,清洗成本低于或大大低于传统清洗技术且无毒、无腐蚀性、对人体无危害、对环境无污染,操作简单。
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公开(公告)号：CN1025441C
公开(公告)日：1994-07-13
申请号：CN89106865.1
申请日：1989-12-02
申请人： 山东大学
摘要： 一种用于电子工业的清洗剂及其制备方法，属于化学清洗技术领域。本发明清洗剂一套两个型号I和II，选用中性表面活性剂，添加适量助剂，与超纯去离子水配成均匀透明的液体，复配温度50-90℃，PH值为6.4-8.5，经灭菌处理，浓缩后进行成品检验包装。本发明的清洗剂清洗成本低，效果好，清洗工作温度60-80℃。
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公开(公告)号：CN1181173C
公开(公告)日：2004-12-22
申请号：CN01115162.5
申请日：2001-07-23
申请人： 山东大学
IPC分类号： C11D1/94
摘要： 一种用于超大规模集成电路芯片的清洗剂组合物及其制备方法，属于化学品制备领域。由壬基酚聚氧乙烯醚、椰子油二乙醇酰胺、氧丙烯氧乙烯甘油醚(3000～3600)甜菜碱型表面活性剂、氨基酸型表面活性剂乙二胺四乙酸、柠檬酸、碘、异丙醇、乙醇、乙醇胺、去离子水。将有关组分通过离子交换提纯达到MOS纯，混合，复配，常压下，搅拌，消泡，过滤。使用本发明清洗剂组合物完全可以代替传统清洗技术中使用的硫酸、硝酸、盐酸、双氧水和氨水等化学试剂，清洗效果相当于或略优于传统清洗技术，清洗成本低于或大大低于传统清洗技术且无毒、无腐蚀性、对人体无危害、对环境无污染，操作简单。
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