一种纳米α-Al2O3晶体材料的制备方法

    公开(公告)号:CN118811841A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202310416439.1

    申请日:2023-04-19

    IPC分类号: C01F7/30 C01F7/441

    摘要: 本发明公开了一种纳米α‑Al2O3晶体材料的制备方法,属于无机材料制备技术领域。该方法首先将拟薄水铝石加入到异丙醇和助剂的混合液中,均匀混合后经球磨或高速搅拌后,在水热环境中静置24h,所得产物过滤后进行干燥,再进行焙烧处理,即得到纳米α‑Al2O3晶体材料。本发明通过简单的醇铝法同时使用沉淀法修饰手段,制备出纳米α‑Al2O3晶体材料,并可以提升纳米α‑Al2O3晶体生产纯度。本发明合成设备简单,原料简单易得,晶体尺寸可控。

    一种添加剂调控纳米氧化铝粒径与晶相的方法

    公开(公告)号:CN118529762A

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN202310156427.X

    申请日:2023-02-23

    IPC分类号: C01F7/442 B82Y30/00 B82Y40/00

    摘要: 本发明公开了一种添加剂调控纳米氧化铝粒径与晶相的方法,属于纳米Al2O3晶相调控技术领域。该方法是将水合氢氧化铝、添加剂与溶剂按重量比例为(10‑20):100:(1‑5)混合后获得混合溶液,然后将混合溶液在800‑1200℃温度下进行煅烧处理,制备出纳米氧化铝;通过调节混合溶液中添加剂的质量分数、种类,并对煅烧温度进行控制,能够调控所得纳米氧化铝的晶相和粒径尺寸。该方法通过调节添加剂种类与含量,修饰勃姆石颗粒表面基团,调整能量分布,促进焙烧时颗粒外表面电子场能量提高,抑制煅烧过程中热效应的诱发团聚,实现了氧化铝纳米颗粒制备的工艺控制。

    一种溅射残靶的处理系统
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117259290A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202210672246.8

    申请日:2022-06-14

    摘要: 本发明公开一种溅射残靶的处理系统,包括材料架、转运装置、酸洗单元、水洗单元、喷淋单元、以及干燥处理单元,所述材料架,用于码放溅射残靶;所述转运装置,用于移动所述材料架,以使溅射残靶和材料架一起进出所述酸洗单元、所述水洗单元、所述喷淋单元、以及所述干燥处理单元;所述酸洗单元,用于对溅射残靶进行酸洗,以溶解溅射残靶上的焊料;所述水洗单元,用于接收酸洗单元处理后的溅射残靶并对其进行超声清洗;所述喷淋单元,用于接收水洗单元处理后的溅射残靶并对其进行高压水喷淋;所述干燥处理单元,用于接收喷淋单元处理后的溅射残靶并对其进行风切烘干。本发明清除效率高,操作简单,能够实现对溅射残靶的高品质、高效率回收。