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公开(公告)号:CN115725239B
公开(公告)日:2024-02-27
申请号:CN202211442202.2
申请日:2022-11-18
Applicant: 无锡市恒利弘实业有限公司
Inventor: 梁振
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明提供了一种清香型抛光液组合物的制备方法,所述抛光液由硅溶胶研磨介质、络合剂、表面活性剂、pH调节剂、香精和去离子水组成,其中络合剂选自对‑羟基苯‑β‑D‑吡喃葡萄糖苷,抛光液具更高的材料去除率和更低的表面粗糙度,获得的抛光材料表面光滑,无划伤,且表面抛光介质残留率低,抛光后处理方便,抛光液组合物具有柠檬气味。
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公开(公告)号:CN117923443A
公开(公告)日:2024-04-26
申请号:CN202311784540.9
申请日:2023-12-23
Applicant: 无锡市恒利弘实业有限公司
Inventor: 梁振
IPC: C01B25/32 , C25B1/01 , C25B1/50 , A61K8/24 , A61K8/19 , A61K8/25 , A61K8/73 , A61K8/34 , A61K8/46 , A61K8/368 , A61Q11/00 , A61P1/02 , A61P29/00 , A61P31/02 , A61P31/04
Abstract: 本发明提供了一种多功能牙膏中HA材料的制备方法,以双级羟基磷灰石为牙膏主功效成分的前提下,牙膏其抗致龋菌性能、抑菌性能、促进釉质再矿化性能方面显示出优良性质,且以离子液体+水为电解液下,电化学制备双级羟基磷灰石还具有工艺简单,性价比高,无毒无环境污染,便于工业化的特点。
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公开(公告)号:CN115725240B
公开(公告)日:2024-03-01
申请号:CN202211442203.7
申请日:2022-11-18
Applicant: 无锡市恒利弘实业有限公司
Inventor: 梁振
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明提供了一种晶片抛光液组合物,所述抛光液由硅溶胶研磨介质、络合剂、表面活性剂、pH调节剂和去离子水组成,其中络合剂选自对‑羟基苯‑β‑D‑吡喃葡萄糖苷,抛光液具更高的材料去除率和更低的表面粗糙度,获得的抛光材料表面光滑,无划伤,且表面抛光介质残留率低,抛光后处理方便。
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公开(公告)号:CN116656243B
公开(公告)日:2024-03-29
申请号:CN202310608081.2
申请日:2023-05-26
Applicant: 无锡市恒利弘实业有限公司
Inventor: 梁振
Abstract: 本发明提供了一种碳化硅晶圆抛光液,采用的抛光液为中性试剂,存储稳定性高,且其中不含有任何的氧化剂,绿色无污染,性价比高。
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公开(公告)号:CN115725239A
公开(公告)日:2023-03-03
申请号:CN202211442202.2
申请日:2022-11-18
Applicant: 无锡市恒利弘实业有限公司
Inventor: 梁振
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明提供了一种清香型抛光液组合物的制备方法,所述抛光液由硅溶胶研磨介质、络合剂、表面活性剂、pH调节剂、香精和去离子水组成,其中络合剂选自对‑羟基苯‑β‑D‑吡喃葡萄糖苷,抛光液具更高的材料去除率和更低的表面粗糙度,获得的抛光材料表面光滑,无划伤,且表面抛光介质残留率低,抛光后处理方便,抛光液组合物具有柠檬气味。
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公开(公告)号:CN118345495A
公开(公告)日:2024-07-16
申请号:CN202410509402.8
申请日:2024-04-26
Applicant: 无锡市恒利弘实业有限公司
Inventor: 梁振
IPC: C25F3/16
Abstract: 本发明提供了一种TC4钛合金表面抛光工艺,脉冲电源使抛光效果更稳定,工件表面抛光质量好,对应的性价比高。
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公开(公告)号:CN117883297A
公开(公告)日:2024-04-16
申请号:CN202311784590.7
申请日:2023-12-23
Applicant: 无锡市恒利弘实业有限公司
Inventor: 梁振
IPC: A61K8/25 , A61K8/24 , A61K8/46 , A61K8/368 , A61K8/73 , A61K8/49 , A61K8/34 , A61K8/19 , A61Q11/00 , A61P1/02 , A61P29/00 , A61P31/04 , A61P31/02
Abstract: 本发明提供了一种美白牙膏制备方法,其中双组份的羟基磷灰石具有促进牙釉质表面再矿化、增强釉质的抗龋力,提高硬度的效果,牙膏在菌斑指数和龈炎指数的减少具有显著性的效果。
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公开(公告)号:CN116657231A
公开(公告)日:2023-08-29
申请号:CN202310608067.2
申请日:2023-05-26
Applicant: 无锡市恒利弘实业有限公司
Inventor: 梁振
IPC: C25F3/16
Abstract: 本发明提供了一种碳化硅基材抛光方法,采用电化学+化学机械抛光处理碳化硅表面,通过阳极电化学氧化和阴极活性氧氧化,有效的提高碳化硅表面的氧化层程度,进行提高碳化硅的抛光效果。
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公开(公告)号:CN116656243A
公开(公告)日:2023-08-29
申请号:CN202310608081.2
申请日:2023-05-26
Applicant: 无锡市恒利弘实业有限公司
Inventor: 梁振
Abstract: 本发明提供了一种碳化硅晶圆抛光液,采用的抛光液为中性试剂,存储稳定性高,且其中不含有任何的氧化剂,绿色无污染,性价比高。
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公开(公告)号:CN118345498A
公开(公告)日:2024-07-16
申请号:CN202410509507.3
申请日:2024-04-26
Applicant: 无锡市恒利弘实业有限公司
Inventor: 梁振
IPC: C25F3/26
Abstract: 本发明提供了一种抛光液组合物及其制备方法和应用,所述抛光液能够显著的提高钛合金的电抛光效果,获得的钛合金表面的粗糙度低,抛光液的抛光稳定性好,抛光粗糙度一致性优良,保证了抛光质量,工件表面镜面光滑,呈现一定光泽度。
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