公开(公告)号：CN1341473A

公开(公告)日：2002-03-27

申请号：CN01125837.3

申请日：2001-08-29

申请人： 日本派欧尼股份株式会社

发明人： 大塚健二 ,  岛田孝 ,  池田友久 ,  铃木规广

IPC分类号： B01D45/02 ,  B01D53/82

CPC分类号： B01D50/002 ,  B01D46/10 ,  B01D46/30 ,  B01D53/70

摘要： 用干法净化气体的净化柱包括水平板和直立管,前者装在净化剂床上面的位置,位于气体入口的下面,后者穿过水平板的中心,用于将有害气体从气体入口引导到水平板的下面,净化柱的内壁表面、水平板的上表面和直立管的外壁表面形成构成粉末物质收集器的空间。因此提供了一种净化装置,该装置有利于净化从例如半导体制造工艺中放出的包含粉末物质的有害气体,不会造成净化设备的堵塞,因而使得装置的净化和维护操作变得更为容易,同时可使净化剂完全发挥其净化能力。

公开(公告)号：CN1286644A

公开(公告)日：2001-03-07

申请号：CN99801645.4

申请日：1999-08-04

申请人： 日本派欧尼股份株式会社

发明人： 大冢健二 ,  荒川秩 ,  长谷见隆司 ,  网岛丰 ,  铃木规广

IPC分类号： B01D53/68 ,  B01J20/20

CPC分类号： B01D53/685 ,  B01J20/04 ,  B01J20/041 ,  B01J20/20 ,  B01J20/223 ,  B01J20/28004 ,  B01J20/2803 ,  B01J20/28066 ,  B01J20/3007 ,  B01J20/3014 ,  B01J20/3042 ,  B01J20/3204 ,  B01J20/3236 ,  B01J2220/42 ,  B01J2220/485 ,  B01J2220/58 ,  Y10S95/901

摘要： 能够从半导体制造过程中产生的废气中将有毒的卤素系气体如氟、氯、三氟化硼、三氯化硼及六氟化钨加以有效去除的净化剂及净化方法,通过将碱金属的甲酸盐和/或碱土金属的甲酸盐添加附着至活性炭上,或者将碱金属的氢氧化物和/或碱土金属的氢氧化物同碱金属的甲酸盐和/或减土金属的甲酸盐一起添加附着至活性炭上,来制备所述净化剂,通过将废气暴露于所述净化剂中,就可以将所述废气中的有毒的卤素系气体加以有效去除,而且已吸附在所述净化剂上的卤素系气体的脱附程度很小。另外,借助一种包含金属氧化物或金属的氢氧化物的预处理净化剂和一种通过将钠的甲酸盐添加附着至金属氧化物上制备而成的后处理净化剂,所述净化处理的安全性和有效性可得到进一步改善。