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公开(公告)号：CN1316290A
公开(公告)日：2001-10-10
申请号：CN00137230.0
申请日：2000-11-30
申请人： 日本派欧尼股份株式会社
IPC分类号： B01D53/86
CPC分类号： B01D53/8668 , B01D2251/102
摘要： 公开了一种有害气体的净化方法，该方法包括：将从使用有机金属化合物作反应原料的反应过程中排出的有害气体，与氧气或空气混合，然后在100℃－800℃的温度下，使混合物与通过在一种无机载体上附载一种贵金属得到的催化剂；含选自氧化钒、氧化铬、氧化锰、氧化铁、氧化铜、氧化银、氧化钴和氧化镍的至少一种金属氧化物的催化剂；或者在一种无机载体上附载该金属氧化物得到的催化剂接触，以净化该有害气体。同时，公开了一种该方法使用的装置。本发明能够确保以有效的方式净化有害气体，在将有害气体净化后，没有排出有机化合物和大量的二氧化碳，不需要后处理。
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公开(公告)号：CN1213794C
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN00137230.0
申请日：2000-11-30
申请人： 日本派欧尼股份株式会社
IPC分类号： B01D53/86
CPC分类号： B01D53/8668 , B01D2251/102
摘要： 公开了一种有害气体的净化方法，该方法包括：将从使用有机金属化合物作反应原料的反应过程中排出的有害气体，与氧气或空气混合，然后在100℃-800℃的温度下，使混合物与通过在一种无机载体上附载一种贵金属得到的催化剂；含选自氧化钒、氧化铬、氧化锰、氧化铁、氧化铜、氧化银、氧化钴和氧化镍的至少一种金属氧化物的催化剂；或者在一种无机载体上附载该金属氧化物得到的催化剂接触，以净化该有害气体。同时，公开了一种该方法使用的装置。本发明能够确保以有效的方式净化有害气体，在将有害气体净化后，没有排出有机化合物和大量的二氧化碳，不需要后处理。
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公开(公告)号：CN1335259A
公开(公告)日：2002-02-13
申请号：CN01124353.8
申请日：2001-07-27
申请人： 日本派欧尼股份株式会社
CPC分类号： C23C16/4402 , C01C1/024 , Y02P20/52
摘要： 本发明公开了一种纯化氨的方法,包括,将粗氨接触一种包含氧化锰作为有效成分的催化剂以去除作为杂质包含在氨中的氧气和/或二氧化碳;以及一种纯化氨的方法,包括,将粗氨接触一种包含氧化锰作为有效成分的催化剂,并随后接触一种孔径为4－10埃的合成沸石,以去除至少一种选自包含在所述粗氨中的氧气、二氧化碳和水分的杂质。通过上述方法,可从工业用途的市售粗氨和来自氮化镓化合物半导体的粗氨中去除杂质至极低浓度而不会将氨分解生成氢气。
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公开(公告)号：CN1341473A
公开(公告)日：2002-03-27
申请号：CN01125837.3
申请日：2001-08-29
申请人： 日本派欧尼股份株式会社
CPC分类号： B01D50/002 , B01D46/10 , B01D46/30 , B01D53/70
摘要： 用干法净化气体的净化柱包括水平板和直立管,前者装在净化剂床上面的位置,位于气体入口的下面,后者穿过水平板的中心,用于将有害气体从气体入口引导到水平板的下面,净化柱的内壁表面、水平板的上表面和直立管的外壁表面形成构成粉末物质收集器的空间。因此提供了一种净化装置,该装置有利于净化从例如半导体制造工艺中放出的包含粉末物质的有害气体,不会造成净化设备的堵塞,因而使得装置的净化和维护操作变得更为容易,同时可使净化剂完全发挥其净化能力。
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