公开(公告)号：CN101218174B

公开(公告)日：2012-02-29

申请号：CN200680023766.5

申请日：2006-09-27

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 南波洋一 ,  茂利敬 ,  中崎晋

IPC: C01B31/08 ,  C01B31/12 ,  H01G9/058

CPC classification number: H01G11/24 ,  C01B32/342 ,  C01B32/348 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/14 ,  C01P2006/17 ,  H01G11/34 ,  H01G11/86 ,  Y02E60/13 ,  Y02P20/133 ,  Y02P20/134

Abstract: 本发明涉及活性炭及其制造方法。一种活性炭，其在通过BJH法由在77.4K下的N2吸附等温线计算的孔径分布，具有在1.0纳米至1.5纳米范围内的最高峰D，其中该峰D为0.012至0.050立方厘米/克，并且为总孔体积的2％至32％。包含含有该活性炭、碳纤维、炭黑和粘合剂的可极化电极的双电层电容器。

公开(公告)号：CN101218174A

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200680023766.5

申请日：2006-09-27

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 南波洋一 ,  茂利敬 ,  中崎晋

IPC: C01B31/08 ,  C01B31/12 ,  H01G9/058

CPC classification number: H01G11/24 ,  C01B32/342 ,  C01B32/348 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/14 ,  C01P2006/17 ,  H01G11/34 ,  H01G11/86 ,  Y02E60/13 ,  Y02P20/133 ,  Y02P20/134

Abstract: 本发明涉及活性炭及其制造方法。一种活性炭，其在通过BJH法由在77.4K下的N2吸附等温线计算的孔径分布，具有在1.0纳米至1.5纳米范围内的最高峰D，其中该峰D为0.012至0.050立方厘米/克，并且为总孔体积的2％至32％。包含含有该活性炭、碳纤维、炭黑和粘合剂的可极化电极的双电层电容器。

公开(公告)号：CN113302269A

公开(公告)日：2021-08-24

申请号：CN201980089054.0

申请日：2019-10-31

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 中崎晋 ,  宫原邦明 ,  福世知行

IPC: C11D1/62 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/50 ,  H01L21/304

Abstract: 提供具有高的蚀刻速度，抑制了对器件晶圆等的基材与固定胶带等的粘着层的接触界面的浸入的粘接性聚合物的分解清洗组合物。一个实施方式的分解清洗组合物是包含氟化烷基季铵或氟化烷基季铵的水合物、和非质子性溶剂的、粘接性聚合物的分解清洗组合物，非质子性溶剂包含(A)氮原子上不具有活性氢的N‑取代酰胺化合物、和(B)选自亚砜化合物和砜化合物中的至少1种有机硫氧化物。

公开(公告)号：CN112602174A

公开(公告)日：2021-04-02

申请号：CN201980053784.5

申请日：2019-09-26

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 中崎晋 ,  宫原邦明 ,  福世知行

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50

Abstract: 本申请提供一种与粘接剂表面亲和性高、且长期保存稳定性优异的组合物。一种组合物，其含有非质子性溶剂和氟化烷基季铵或氟化烷基季铵的水合物，所述非质子性溶剂含有：(A)氮原子上不具有活性氢且碳原子数4以上的N‑取代酰胺化合物、和(B)醚化合物。

公开(公告)号：CN115427547A

公开(公告)日：2022-12-02

申请号：CN202180027510.6

申请日：2021-03-24

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 林宏太朗 ,  中崎晋

IPC: C11D7/28 ,  B08B3/08 ,  C11D7/50 ,  H01L21/304

Abstract: 提供抑制了经时的蚀刻速度的降低的组合物。一种组合物，其包含：氟化烷基季铵和氟化烷基季铵的水合物中的至少1种；作为非质子性溶剂的(A)在氮原子上不具有活性氢的N‑取代酰胺化合物、和(B)双丙甘醇二甲基醚；以及抗氧化剂。

公开(公告)号：CN114746536A

公开(公告)日：2022-07-12

申请号：CN202080081816.5

申请日：2020-10-23

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 中崎晋 ,  宫原邦明

IPC: C11D7/26 ,  C11D7/30 ,  C11D7/32 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供改善蚀刻速度的保持率的分解清洗组合物的制造方法。一种分解清洗组合物的制造方法，所述分解清洗组合物含有(A)氢原子未直接键合于氮原子的N‑取代酰胺化合物、及(B)氟化烷基季铵或其水合物，所述制造方法具有在非活性气体气氛下将上述(A)及(B)进行混合的调制工序。