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公开(公告)号:CN110431455B
公开(公告)日:2022-07-19
申请号:CN201880017986.X
申请日:2018-03-13
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种λ/4相位差膜,是含有纤维素醚衍生物和木质素衍生物的λ/4相位差膜,由溶液制膜时的发泡引起的缺陷部位少,并且着色得到抑制。本发明的λ/4相位差膜含有纤维素醚衍生物、木质素衍生物和酸或其盐,所述纤维素醚衍生物具有含芳香族的基团。
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公开(公告)号:CN110431455A
公开(公告)日:2019-11-08
申请号:CN201880017986.X
申请日:2018-03-13
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种λ/4相位差膜,是含有纤维素醚衍生物和木质素衍生物的λ/4相位差膜,由溶液制膜时的发泡引起的缺陷部位少,并且着色得到抑制。本发明的λ/4相位差膜含有纤维素醚衍生物、木质素衍生物和酸或其盐,所述纤维素醚衍生物具有含芳香族的基团。
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公开(公告)号:CN105451984A
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201480037866.8
申请日:2014-06-30
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor: 后藤良孝
CPC classification number: C23C16/48 , C23C16/22 , C23C16/30 , H01L51/0097 , H01L51/5253
Abstract: 本发明提供一种具有优异的阻气性、高温高湿条件环境下的保存稳定性、特别密合性或耐弯曲性优异的阻气性膜。本发明涉及一种阻气性膜,其含有:基材、在所述基材的至少一面由无机化合物的气相成膜形成的阻隔层、和在所述基材的、至少与所述形成由无机化合物的气相成膜形成的阻隔层相同侧的面上所形成的、涂布含有聚硅氮烷化合物的溶液而形成的阻隔层,其特征在于,所述涂布含有聚硅氮烷化合物的溶液而形成的阻隔层含有选自由长周期型周期表的第2族、第13族及第14族的元素构成的组中的至少1种(其中,不包括硅及碳)的元素,所述涂布含有聚硅氮烷化合物的溶液而形成的阻隔层的厚度为0.1nm以上且低于150nm。
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