公开(公告)号：CN105340375A

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：CN201480036725.4

申请日：2014-04-17

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 川边茂寿 ,  斋藤笃志

IPC: H05K9/00 ,  B05D1/26 ,  B05C5/00

CPC classification number: H05K9/0094 ,  B05C5/007 ,  B05C9/06 ,  H05K9/0088

Abstract: 本发明提供一种即使增加层数也可以良好地实施同时复层涂布的电磁波屏蔽膜的制造方法。在具有高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的结构的电磁波屏蔽膜的制造方法中，具有涂布工序：使用具有多个层叠的挡杆40的滑动式模涂机，使构成高折射率层的第1涂布液L1的涂布层与构成低折射率层的第2涂布液L2的涂布层交替地层叠，对膜基材进行同时复层涂布。挡杆40具有：前端部56，其与邻接的另一挡杆40之间形成间隙58；基端部50，与另一挡杆4抵接；以及袋部53，其位于前端部56与基端部50之间且具有作为涂布液积存部的凹部54。袋部53的厚度D4为15mm以下，涂布工序中，供给第2涂布液L2的挡杆40的袋部53的凹部54的内压P2与供给第1涂布液L1的挡杆40的袋部53的凹部54的内压P1的压力差ΔP被设定为0.1MPa以下。

公开(公告)号：CN105228755A

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201480028070.6

申请日：2014-05-12

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 坂田和彦 ,  斋藤笃志

IPC: B05D1/26 ,  B05D1/34 ,  B05D7/00 ,  B05C5/00

CPC classification number: G02B5/282 ,  B05C5/007 ,  B05C9/06 ,  G02B5/208 ,  G02B5/285

Abstract: 本发明的目的在于提供涂布面几乎不产生或者完全不产生不均、具有良好外观的红外屏蔽膜的制造方法。本发明的红外屏蔽膜的制造方法包括在连续行进的基材膜上使用滑斗涂布装置将高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液同时复层涂布10层～40层的工序，上述高折射率层用涂布液和上述低折射率层用涂布液在40℃的粘度为5～200mPa·s，上述滑斗型涂布装置的滑动面相对于水平面的角度为2～15°，上述滑斗型涂布装置的每一个挡料块的厚度为15～40mm。