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公开(公告)号：CN106423772A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610622092.6
申请日：2016-08-01
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明提供改善了木纹状不均和由宽度方向的不均匀性引起的宽度方向的颜色不均的光学反射膜的制造方法。在使用滑动料斗涂布装置同时多层涂布10层～40层的层的工序中，以如下的条件进行同时多层涂布，即，将各挡料块上的各界面的滑动面上的流下液膜的与滑动面平行的速度成分的高粘度液侧的剪切速率设为d，将界面的各挡料块流下时间设为t时，各界面的(d×t)这个数值的从界面形成到涂布为止的累积值Σ(d×t)≤50。
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公开(公告)号：CN105899978B
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：CN201480072452.9
申请日：2014-11-11
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
CPC classification number: G02B5/26
Abstract: 本发明提供涂布面几乎不产生或者完全不产生不均的具有良好外观的光学反射膜的制造方法。该光学反射膜的制造方法包括在连续行进的基材膜上使用滑动料斗涂布装置将高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液同时多层涂布10～40层的层的工序，上述高折射率层用涂布液和上述低折射率层用涂布液在40℃的粘度为5～200mPa·s，上述滑动料斗型涂布装置的滑动面相对于水平面的角度为2～15°，上述滑动料斗型涂布装置的每一个挡料块的厚度为15～40mm，通过上述同时多层涂布形成的高折射率层和低折射率层中，除最下层以外的邻接的高折射率层和低折射率层的湿润膜厚度比(高折射率层/低折射率层)为0.8～1.2。
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公开(公告)号：CN106423772B
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201610622092.6
申请日：2016-08-01
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明提供改善了木纹状不均和由宽度方向的不均匀性引起的宽度方向的颜色不均的光学反射膜的制造方法。在使用滑动料斗涂布装置同时多层涂布10层～40层的层的工序中，以如下的条件进行同时多层涂布，即，将各挡料块上的各界面的滑动面上的流下液膜的与滑动面平行的速度成分的高粘度液侧的剪切速率设为d，将界面的各挡料块流下时间设为t时，各界面的(d×t)这个数值的从界面形成到涂布为止的累积值Σ(d×t)≤50。
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公开(公告)号：CN105228755A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201480028070.6
申请日：2014-05-12
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供涂布面几乎不产生或者完全不产生不均、具有良好外观的红外屏蔽膜的制造方法。本发明的红外屏蔽膜的制造方法包括在连续行进的基材膜上使用滑斗涂布装置将高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液同时复层涂布10层～40层的工序，上述高折射率层用涂布液和上述低折射率层用涂布液在40℃的粘度为5～200mPa·s，上述滑斗型涂布装置的滑动面相对于水平面的角度为2～15°，上述滑斗型涂布装置的每一个挡料块的厚度为15～40mm。
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公开(公告)号：CN105899978A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201480072452.9
申请日：2014-11-11
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
CPC classification number: G02B5/26
Abstract: 本发明提供涂布面几乎不产生或者完全不产生不均的具有良好外观的光学反射膜的制造方法。该光学反射膜的制造方法包括在连续行进的基材膜上使用滑动料斗涂布装置将高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液同时多层涂布10～40层的层的工序，上述高折射率层用涂布液和上述低折射率层用涂布液在40℃的粘度为5～200mPa·s，上述滑动料斗型涂布装置的滑动面相对于水平面的角度为2～15°，上述滑动料斗型涂布装置的每一个挡料块的厚度为15～40mm，通过上述同时多层涂布形成的高折射率层和低折射率层中，除最下层以外的邻接的高折射率层和低折射率层的湿润膜厚度比(高折射率层/低折射率层)为0.8～1.2。
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