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公开(公告)号：CN102253534B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201110120314.1
申请日：2011-05-10
Applicant: 株式会社日本显示器西
Inventor： 永泽耕一
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/13394 , G02F1/136209 , G02F2201/40
Abstract: 本发明公开了显示装置制造方法和显示装置。所述方法包括如下步骤：在第一透明基板的表面上方形成正型光致抗蚀剂，所述第一透明基板设有形成在所述第一透明基板的所述表面上的晶体管，所述正型光致抗蚀剂覆盖所述晶体管；将光从所述第一透明基板的背面侧照射至在上方形成有所述正型光致抗蚀剂的所述第一透明基板，对所述正型光致抗蚀剂进行曝光；对这样曝光后的所述正型光致抗蚀剂进行显影，选择性地留下位于所述晶体管上方的所述正型光致抗蚀剂，由此形成隔离件；以及在所述第一透明基板的所述表面上方层叠第二透明基板，且所述隔离件位于所述第一透明基板与所述第二透明基板之间。本发明在抑制了因隔离件引起的漏光的同时，能够增大开口率。
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