含氧化铈废磨料的再生方法

    公开(公告)号:CN104619462B

    公开(公告)日:2017-08-01

    申请号:CN201380047554.0

    申请日:2013-09-11

    Abstract: 本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法,可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质,实现包括清洗工艺在内的再生工艺的效率化,而且能够抑制清洗工艺中含氧化铈磨料的再凝聚。所述含氧化铈废磨料的再生方法,包括以下步骤:将含氧化铈废浆料与包含氟类化合物的溶剂溶液进行混合,以便有选择地溶解掉包含在所述废浆料中的含氧化硅杂质;使所述含氧化铈废浆料通过交叉流过滤系统进行清洗,以便有选择地去除所述含氧化硅杂质;以及对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行干燥及烧结。

    含氧化铈废磨料的再生方法

    公开(公告)号:CN104619433B

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201380047642.0

    申请日:2013-09-11

    Abstract: 本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法,可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质,并再生为显示出适宜的粒度分布和结晶尺寸、以及由此带来的较佳抛光率等的含氧化铈再生磨料。所述含氧化铈废磨料的再生方法,包括以下步骤:将含氧化铈(CeO2)废浆料溶解于包含强碱和氢氟酸的溶剂溶液;对所述含氧化铈废浆料进行清洗,以去除含氧化硅(SiO2)杂质;对所述清洗过的含氧化铈废浆料用CD干燥机进行干燥;以及在包含铵盐、碱金属盐、金属氧化物、金属含氧酸或碱土金属盐的助熔剂存在下,对所述废浆料以800℃以上的温度进行烧结。

    含氧化铈废磨料的再生方法

    公开(公告)号:CN104619806A

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201380047601.1

    申请日:2013-09-17

    Abstract: 本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法,可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质,而且能够确保再生工艺的稳定性,使含氧化铈废磨料适当地再生。所述含氧化铈废磨料的再生方法包括以下步骤:将含氧化铈(CeO2)废浆料溶解于溶剂溶液,所述溶剂溶液包含(a)NaHF2、(NH4)HF2或KHF2等氟类化合物或者包含(b)NaF、(NH4)F或KF等氟化盐和非氢氟酸类酸的混合物;对所述含氧化铈废浆料进行清洗,以去除溶解在溶剂溶液中的含氧化硅(SiO2)杂质;以及对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行再分散及过滤或者干燥及烧结。

    含氧化铈废磨料的再生方法

    公开(公告)号:CN104619462A

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201380047554.0

    申请日:2013-09-11

    CPC classification number: B24B57/00 B24C11/00

    Abstract: 本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法,可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质,实现包括清洗工艺在内的再生工艺的效率化,而且能够抑制清洗工艺中含氧化铈磨料的再凝聚。所述含氧化铈废磨料的再生方法,包括以下步骤:将含氧化铈废浆料与包含氟类化合物的溶剂溶液进行混合,以便有选择地溶解掉包含在所述废浆料中的含氧化硅杂质;使所述含氧化铈废浆料通过交叉流过滤系统进行清洗,以便有选择地去除所述含氧化硅杂质;以及对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行干燥及烧结。

    含氧化铈废磨料的再生方法

    公开(公告)号:CN104619433A

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201380047642.0

    申请日:2013-09-11

    Abstract: 本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法,可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质,并再生为显示出适宜的粒度分布和结晶尺寸、以及由此带来的较佳抛光率等的含氧化铈再生磨料。所述含氧化铈废磨料的再生方法,包括以下步骤:将含氧化铈(CeO2)废浆料溶解于包含强碱和氢氟酸的溶剂溶液;对所述含氧化铈废浆料进行清洗,以去除含氧化硅(SiO2)杂质;对所述清洗过的含氧化铈废浆料用CD干燥机进行干燥;以及在包含铵盐、碱金属盐、金属氧化物、金属含氧酸或碱土金属盐的助熔剂存在下,对所述废浆料以800℃以上的温度进行烧结。

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