公开(公告)号：CN104047025B

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201410093321.0

申请日：2014-03-13

申请人： 美铝美国公司

发明人： 刘兴华 ,  小D·A·韦劳奇 ,  F·E·菲尔普斯 ,  J·M·戴尼斯 ,  J·克尔克霍夫 ,  R·A·迪米利亚

IPC分类号： C25C3/00 ,  C25C7/00 ,  C25C3/06 ,  C25C3/08

CPC分类号： C25C3/08 ,  C25C3/085 ,  C25C3/14 ,  C25C3/20

摘要： 本发明涉及电解池、电解池组件、电解池系统和保护电解池侧壁的方法。电解池系统包括：被设置用于保留熔融电解液的电解池，所述电解液包括至少一种电解液成分，所述电解池包括底部和基本上由所述至少一种电解液成分构成的侧壁；以及进料系统，被设置用于向熔融电解液提供包括所述至少一种电解液成分的进料，以使所述至少一种电解液成分处于约2％的饱和度以内，其中，侧壁通过进料而在熔融电解液内保持稳定。

公开(公告)号：CN105401170B

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201510881834.2

申请日：2015-09-10

申请人： 美铝美国公司

发明人： 刘兴华 ,  J·沃德 ,  D·A·威劳克 ,  F·E·菲尔普斯 ,  J·M·迪尼斯 ,  J·克尔克霍夫 ,  R·A·迪米利亚

IPC分类号： C25C3/08 ,  C25C7/00

CPC分类号： C25C3/20 ,  C25C3/08 ,  C25C3/085 ,  C25C3/14

摘要： 本申请涉及保护电解槽侧壁的系统与方法。提供了种系统,包括电解槽,该电解槽被配置为保持熔融电解液槽浴,该槽浴包含至少种槽浴成分,该电解槽包括:底部,和基本上由所述至少种槽浴成分构成的侧壁;和进料,所述进料包括熔融电解液槽浴中的所述至少种槽浴成分,使得所述至少种槽浴成分在饱和度的30%之内,其中通过所述进料,该侧壁在熔融电解液槽浴中稳定。

公开(公告)号：CN105506671B

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201510916128.7

申请日：2015-09-10

申请人： 美铝美国公司

发明人： 刘兴华 ,  R·A·迪米利亚 ,  J·M·迪尼斯 ,  J·S·马特洛

IPC分类号： C25C3/08 ,  C25C7/00

摘要： 本申请涉及保护电解槽侧壁的系统与方法。广义上，本公开涉及电解槽侧壁特征(例如内部侧壁或热表面)，其在电解槽操作时(例如在电解槽中生产金属)保护侧壁不受电解槽浴影响。