专利检索 ap:("ASML荷兰有限公司") AND inv:"J·M·芬德什" 第 1 页

1.

发明授权
衬底曝光方法和光刻投影设备失效

公开(公告)号：CN1595300B

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：CN200410079133.9

申请日：2004-09-09

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·M·芬德什 , J·M·D·斯托伊德赖杰 , J·W·德克勒克

IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/00

CPC分类号： G03F7/70333 , G03F7/70425

摘要： 公开了一种把掩模(MA)图案的图像曝光到涂有抗蚀剂层的衬底(W)的方法，其中，在开始曝光后及曝光完成前，控制器(100)通过在曝光时改变衬底承载台位置(WT)而在抗蚀剂层的图像中引入受控数量的对比度损失。对比度损失影响光刻投影设备分辨率的间距依赖性，因而把对它的控制用于匹配不同光刻投影设备之间分辨率的间距依赖性。

2.

发明公开
衬底曝光方法和光刻投影设备失效

公开(公告)号：CN1595300A

公开(公告)日：2005-03-16

申请号：CN200410079133.9

申请日：2004-09-09

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·M·芬德什 , J·M·D·斯托伊德赖杰 , J·W·德克勒克

IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/00

CPC分类号： G03F7/70333 , G03F7/70425

摘要： 公开了一种把掩模(MA)图案的图像曝光到涂有抗蚀剂层的衬底(W)的方法，其中，在开始曝光后及曝光完成前，控制器(100)通过在曝光时改变衬底承载台位置(WT)而在抗蚀剂层的图像中引入受控数量的对比度损失。对比度损失影响光刻投影设备分辨率的间距依赖性，因而把对它的控制用于匹配不同光刻投影设备之间分辨率的间距依赖性。