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公开(公告)号：CN118926190A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411079574.2
申请日：2024-08-07
申请人： 黄山格立特磁业有限公司
摘要： 本发明涉及球形磁性材料加工技术领域，且公开了一种球形磁性材料加工用超声清洗设备，包括底座、超声清洗箱，超声清洗箱固定连接在底座的上表面，超声清洗箱的外部连接有超声设备，底座的上表面对称固定连接有固定箱，两个固定箱相靠近的一侧均与超声清洗箱固定连接，超声清洗箱的内部转动连接有清洗框，清洗框的外壁开设有呈圆周阵列排布的清洗网孔；通过球形磁性材料在充满清洗剂的超声清洗箱中晃动力使球形磁性材料的各个部位都能充分接触到清洗液，确保没有遗漏的未清洗区域，提高整体清洁度，而球形磁性材料旋转产生的力增加了球形磁性材料与清洗液以及清洗框内壁之间的摩擦，而增加的摩擦力对球形磁性材料表面的顽固污渍和杂质更有效地去除，进一步提高对球形磁性材料清洗的效果。
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公开(公告)号：CN118923894A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411019026.0
申请日：2024-07-29
申请人： 济宁市明汇食品有限公司
摘要： 本发明提供一种粽子全流程生产制造装置及制造方法，涉及粽子生产技术领域。该粽子全流程生产制造装置，包括工作板，所述工作板的上侧开设有滑槽，所述滑槽的内侧滑动连接有滑板，所述滑板的上侧设置有清洗单元，所述工作板的上侧固定连接有两个清洗池、预糊化箱与蒸煮箱，所述清洗单元包括固定架，所述固定架固定连接在滑板的上侧，所述固定架的上侧固定连接有液压缸，所述液压缸下侧的输出端固定连接有升降板。通过设置有固定架、升降板、固定板、底板、糯米放置箱、粽叶放置箱、安装杆、升降块、转轴，便于对糯米与粽叶同时进行清洗操作，并通过电动推杆、固定架，方便对糯米进行预糊化与蒸煮处理，操作简单，减少工作人员工作量。
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公开(公告)号：CN118919397A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410946585.X
申请日：2024-07-15
申请人： 赣南医科大学
摘要： 本发明提供一种用于去除半导体表面残胶的方法及其应用。所述方法包括：S1：对具有残胶的半导体材料进行表面撕胶处理，包括在半导体材料表面覆设胶水层，所述胶水层至少覆盖残胶的位置，在所述胶水层干燥的状态下将所述胶水层撕去；S2：对经过S1处理的半导体材料进行刮擦处理；S3：将经过S2处理的半导体材料置于第一清洗剂中并使第一清洗剂没过半导体材料具有残胶的表面，从而对半导体材料进行清洗，获得表面基本洁净的半导体材料；S4：对经过S3处理的半导体材料进行退火处理，获得表面洁净的半导体材料。本发明提供的方法能够彻底清除半导体材料表面的残胶以及其他杂质，且不造成半导体材料的损伤。
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公开(公告)号：CN118908225A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410947790.8
申请日：2024-07-15
申请人： 蕲春欣泰石英有限公司
发明人： 余妙圣
摘要： 本发明公开了石英砂光电功能材料制备方法，涉及石英砂光电功能材料技术领域。本发明包括以下步骤：S1：原料准备：选取高纯度的石英砂作为原料，需要经过研磨和筛分，以得到粒径均匀且适合制备工艺的石英粉末；S2：清洗处理：将石英砂放入酸性溶液中进行清洗处理，以去除表面的杂质和有机物，包括酸液包括盐酸、硝酸，清洗过程中需控制时间和温度，以避免对石英砂颗粒造成不利影响。本发明在清洗处理步骤中，控制酸性溶液浓度与石英砂之间的浓度比有效去除石英砂表面的氧化物、有机物和其它杂质，同时，在清洗过程中，根据石英砂粒径密度特性，采用不同的搅拌器进行搅拌，保护石英砂表面的同时加快了反应速率。
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公开(公告)号：CN118906306A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202411208907.7
申请日：2024-08-30
申请人： 江西格林循环材料有限公司 , 江西格林循环产业股份有限公司 , 格林循环(无锡)塑料科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种塑料碎屑热洗系统，包括热洗机构、沉料分离机构、浮料分离机构及配液机构，热洗机构包括至少一热洗罐，热洗罐包括罐体及内筒，内筒固定于罐体内，内筒与罐体之间形成一环空，热洗罐的下端开设有与内筒连通的沉料出口以及与环空连通的浮料出口。本发明的有益效果是：通过配液机构配制清洗液，并不断注入内筒内，使内筒顶部悬浮的悬浮杂质随水流出到环空内，悬浮杂质与水的混合物再从浮料出口排出，进入浮料分离机构内，浮料分离机构分离出悬浮杂质，并将分离得到的水注入配液机构内，为配液机构供水，实现水的循环利用，通过本系统能够实现塑料碎屑的连续性清洗，且能有效去除悬浮杂质，提高了塑料碎屑的清洗效果及清洗效率。
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公开(公告)号：CN118874934A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202411384572.4
申请日：2024-09-30
申请人： 广东韩研活性炭科技股份有限公司
IPC分类号： B08B3/08 , B08B15/00 , B08B3/10 , C01B32/378
摘要： 本发明涉及活性炭碱洗技术领域，更具体地说，它涉及一种高纯级活性炭用碱洗装置，包括碱洗池、盖板、料框、换气结构和搅拌结构，碱洗池顶部开口，盖板升降设置于碱洗池顶部，料框设置于盖板底部，换气结构包括风机、进气口和出气口，进气口和出气口开设于碱洗池的侧壁，风机设置于进气口，出气口连接排放管，搅拌结构包括电机、安装支架、传动组件和搅拌筒，电机设置在盖板顶部，安装支架设置在盖板底部，搅拌筒转动设置在安装支架上，传动组件设置在安装支架内且传动组件连接在电机的输出端与搅拌筒之间，本发明能够避免活性炭碱洗过程中产生的有害气体被直接释放，以及使活性炭与碱液充分反应。
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公开(公告)号：CN118874932A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202411187198.9
申请日：2024-08-28
申请人： 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种针对半导体化学气相沉积喷淋头的清洗方法，包括将喷淋头放置于含有甲缩醛、双氧水、丙酮清洗液中浸泡、氧气等离子清洗、氮气等离子清洗、超微纳米气泡工艺清洗、纯水超声处理等步骤。本发明采用化学等离子结合超微纳米气泡工艺的方式，对半导体化学气相沉积设备进行清洗。这种方法能够对产品表面和孔洞内部进行深层次清洗，有效去除表面和孔洞的污染物，提高清洗效果和产品质量；本发明方法不仅能够对产品表面和孔洞内部进行深层次清洗，同时，因为不涉及酸碱化学品，因此对母材的损伤较小，这一优势将大大提高半导体制造设备的清洗效率和质量，从而提高半导体产品的整体性能和使用寿命。
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公开(公告)号：CN118558657B
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202411050537.9
申请日：2024-08-01
申请人： 山东亚洪新材料科技有限公司
摘要： 一种金属彩钢板生产的基板清洗装置，涉及彩钢板生产设备技术领域，为了能够解决水资源的浪费的问题，通过清洗液输送件向空腔二输送清洗液，水泵启动通过输入管将空腔二中的水通过输出管输入到空腔一中，待空腔一与空腔二注满后，关闭清洗液输送件，此时循环组件使得空腔一与空腔二的清洗液循环流动，进而对基板的两侧进行流动清洗，水泵使得流动的水有一定的冲击力，可将打磨清理后的基板表面污渍清理，保证清理效果，而且水循环可以减少清洗液的使用量，避免浪费。
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