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公开(公告)号：CN101497786B
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN200910078711.X
申请日：2009-03-02
Applicant: 北京化工大学
CPC classification number: C09K11/06 , C09K2211/1408 , H01L51/0038 , H01L51/5032 , H01L51/5278 , H05B33/10
Abstract: 本发明公开了属于无机有机复合发光材料领域的一种聚2，5-二(3-磺酰化丙氧基)-1，4-苯撑-联-1，4-苯撑(简称磺化聚联苯)与水滑石复合蓝光发光薄膜及其制备方法。其制备方法可简要概括为以下步骤：制备用甲酰胺溶剂剥离的水滑石胶体溶液；配制磺化聚联苯水溶液；用亲水处理后的基底在两种溶液中进行交替组装后得到磺化聚联苯/水滑石多层复合薄膜。本发明的优点在于：薄膜制备过程简单，所制得的薄膜厚度可在纳米级别精确可控，同时由于利用了水滑石的空间限域作用和主客体之间的相互作用，实现了发光高分子磺化聚联苯的固定化，并有效地提高了其热稳定性，降低了因聚集而产生的荧光淬灭。
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公开(公告)号：CN102139212A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN201110008493.X
申请日：2011-01-14
Applicant: 北京化工大学
IPC: B01J23/66 , C07D303/04 , C07D301/12 , C07C47/54 , C07C47/228 , C07C45/28
Abstract: 本发明公开了属于催化剂制备技术领域的一种以水滑石为载体的低负载量高活性的负载型银催化剂的制备方法。本发明选用水滑石为载体，利用水滑石均匀的羟基点阵以及不同的晶面取向，将具有催化活性的银原子高度分散并且紧密锚定在水滑石的高能晶面，从而暴露出了更多的活性银颗粒。本发明提供一种负载型银催化剂的制备方法，该方法具有设备工艺简单、产率高、便于工业化生产，制备的银粒度小，重现性好的优点。并将该催化剂应用于苯乙烯催化氧化合成苯基环氧乙烷，反应物转化率高，产物的选择性高。
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公开(公告)号：CN102127425A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN201010620420.1
申请日：2010-12-31
Applicant: 北京化工大学
IPC: C09K11/06
Abstract: 本发明公开了属于无机有机复合发光材料领域的一种8-羟基-1，3，6-三磺酸基芘阴离子和辛烷磺酸根阴离子共插层水滑石复合发光材料及其制备方法。其具体操作步骤为：配制二价、三价金属阳离子溶液A和8-羟基-1，3，6-三磺酸基芘三钠盐和辛烷磺酸钠的溶液B；将配制的NaOH溶液缓慢滴加到A、B混合溶液中；滴加完成后调节pH值，得到浆液D；将浆液D在水热条件下反应；将得到的产物离心洗涤后真空干燥。该方法实现了8-羟基-1，3，6-三磺酸基芘阴离子的固定化，有效地提高了该发光染料分子的荧光效率，降低了该发光染料分子因聚集而产生的荧光淬灭。
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公开(公告)号：CN100998872B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200710062769.6
申请日：2007-01-16
Applicant: 北京化工大学
Abstract: 一种多肽药物插层水滑石的制备方法，属于多肽类药物技术领域。其化学式为：(M2+)1-x(M3+)x(OH)a(L-alanyl-L-glutamine)b·mH2O。其制备方法分为共沉淀法和离子交换法。其中共沉淀法的晶化阶段和离子交换法的反应过程均采用了微波水热的方法。本发明的优点在于：制备力肽插层水滑石的过程中采用了微波水热的方法，显著缩短了共沉淀法的晶化时间和离子交换法的反应时间；所制得的多肽药物——力肽插层水滑石复合材料由于利用了水滑石的空间限域作用和主客体之间的相互作用，因而在通常情况下具有较好的热稳定性和一定的缓释性能，有利于其存贮和开拓新的给药途径。
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公开(公告)号：CN101775277A
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN200910217554.6
申请日：2009-12-31
Applicant: 北京化工大学
IPC: C09K9/02
Abstract: 本发明公开了属于光功能复合材料制备技术领域的一种光敏复合薄膜材料及其制备方法。其技术方案为：首先制备出水滑石前体，然后采用离子交换法制备希夫碱类染料与表面活性剂两组份共插层的水滑石复合材料，利用溶剂蒸发法组装成光敏薄膜材料。该复合薄膜材料利用主客体的相互作用，层间水、表面活性剂的协同作用使之具有超快响应的光敏性能，应用背景广阔。与传统光致变色材料相比具有制备简单易行，环境友好，对光热稳定性高，存储时间长的优点。该方法工艺简单，产品性能良好，适宜工业化生产。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101768435A
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200910217552.7
申请日：2009-12-31
Applicant: 北京化工大学
IPC: C09K11/06
Abstract: 本发明公开了属于无机/有机复合发光材料技术领域的一种三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子插层水滑石的蓝光发射材料及其制备方法。本发明选取与三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子相似分子长度的表面活性剂，通过共沉淀的方法得到均匀分散于水滑石层间的三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子插层水滑石的复合发光材料。该方法实现了三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子的固定化，有效地提高了该金属配合物发光分子的热稳定性，实现了绿光发光材料三(8-羟基喹啉-5-磺酸钠)合铝到其水滑石插层产物的蓝光发光材料的转变。
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公开(公告)号：CN100595153C
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200810101931.5
申请日：2008-03-14
Applicant: 北京化工大学
Abstract: 一种萘乙酸插层锌铝水滑石膜的层间分子取向确定方法，属于分子取向确定技术领域。萘乙酸插层水滑石的分子式为：(M1)x(M2)1-x(NO3)y(NAA)z(OH)2·mH2O；其中M1为Mg2+、Zn2+、Ni2+二价金属离子其中的任何一种；M2为三价金属离子Fe3+或Al3+其中的任何一种；NAA为萘乙酸(C12H10O2)，(M1)x(M2)1-x(NO3)y-LDHs为硝酸根水滑石。利用荧光偏振技术确定制备的膜其萘乙酸分子在水滑石层间的取向。优点在于，水滑石的超分子层状结构特点使其可提供层内纳米量级二维空间。将荧光探针分子萘乙酸引入层间则可以利用荧光偏振技术得到水滑石层间分子的最优取向。
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公开(公告)号：CN101649195A
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200910092273.2
申请日：2009-09-08
Applicant: 北京化工大学
IPC: C09K9/02
Abstract: 本发明公开了属于热功能复合材料制备技术领域的一种热致变色复合薄膜材料及其制备方法。其技术方案为：首先制备出酸性橙5与表面活性剂两组份共插层的水滑石复合材料，再利用溶剂蒸发法组装成热致变色复合薄膜材料。该复合薄膜材料利用水滑石材料主客体的相互作用，层间水、表面活性剂与酸性橙5的协同作用，使之具有任何单一组份均不具备的热致变色性能，且可逆性好，可视程度强，变色区间在35-65℃，可应用性强。与传统热致变色材料相比具有制备简单易行，环境友好，对光热稳定性高，存储时间长的优点。该方法工艺简单，产品性能良好，适宜工业化生产。
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公开(公告)号：CN101597490A
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200910089295.3
申请日：2009-07-15
Applicant: 北京化工大学
IPC: C09K11/06
Abstract: 本发明公开了属于复合发光材料领域的一种(1，10－邻菲啰啉－4，7－二苯磺酸)钌(II)配合物(简称邻菲啰啉钌配合物)与水滑石复合的红光发光超薄膜及其制备方法。具体步骤为：制备用甲酰胺溶剂剥离的水滑石胶体溶液；配制邻菲啰啉钌配合物水溶液；用亲水处理后的基底在两种溶液中进行交替组装后得到多层邻菲啰啉钌配合物与水滑石复合发光超薄膜。本发明的优点在于：利用水滑石层板的刚性结构和二维空间的限域作用，实现了光活性配合物的固定化以及在分子尺度上的有序排列，降低了因分子间聚集而产生的红移和荧光淬灭；该薄膜制备过程易于操作，薄膜的发光强度以及薄膜厚度均可通过改变组装次数实现精确可控。
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公开(公告)号：CN101440281A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200810227218.5
申请日：2008-11-25
Applicant: 北京化工大学
IPC: C09K11/06
CPC classification number: C09K11/06 , C07D209/82 , C09K2211/1011 , C09K2211/1029 , C09K2211/186
Abstract: 本发明公开了属于无机有机复合发光材料领域的一种2－羟基苯并咔唑－3－羧酸根阴离子插层水滑石复合发光材料及其制备方法。其具体操作步骤为：配制二价、三价金属阳离子溶液A和2－羟基苯并咔唑－3－羧酸钠的乙二醇溶液B；将A，B溶液混合得到溶液C；将配制的NaOH溶液缓慢滴加到溶液C中；滴加完成后用NaOH调节pH值，得到浆液D；将浆液D在水浴或微波控温加热条件下反应；将得到的产物离心洗涤后真空干燥，得到2－羟基苯并咔唑－3－羧酸根阴离子插层水滑石的复合材料。该方法实现了2－羟基苯并咔唑－3－羧酸钠的固定化，有效地提高了该发光染料分子的热稳定性，降低了该发光染料分子因聚集而产生的荧光淬灭。
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