公开(公告)号：CN100407017C

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN200610083374.X

申请日：2006-06-06

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 野口知功 ,  菅原英男 ,  梨木智刚 ,  吉武秀敏

IPC: G02F1/1343 ,  G02F1/13 ,  G06K11/06

CPC classification number: G06F3/041 ,  H03K17/962 ,  H03K17/9625 ,  Y10T428/26 ,  Y10T428/31504

Abstract: 本发明提供透明导电性层叠体，其是在厚度为2～200μm的透明薄膜基材的一侧表面，从前述薄膜基材侧开始，按照第一透明电介质薄膜、第二透明电介质薄膜和透明导电性薄膜的顺序依次形成膜的透明导电性层叠体，其特征在于：第一透明电介质薄膜是通过真空蒸镀法、溅射法或离子镀覆法形成的，并且第一透明电介质薄膜包含相对于氧化铟100重量份含有氧化锡0～20重量份、氧化铈10～40重量份的复合氧化物，当设第一透明电介质薄膜的折射率为n1、第二透明电介质薄膜的折射率为n2、透明导电性薄膜的折射率为n3时，满足n2＜n3≤n1的关系。

公开(公告)号：CN101196654A

公开(公告)日：2008-06-11

申请号：CN200710196991.5

申请日：2007-12-07

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 梨木智刚 ,  菅原英男

IPC: G02F1/1343 ,  B32B7/02 ,  H01B5/14

CPC classification number: C23C14/08 ,  Y10T428/24942

Abstract: 本发明提供一种透明导电性叠层体，是在透明的薄膜基材的一方的面上，从上述薄膜基材侧开始依次形成第一透明电介质薄膜、第二透明电介质薄膜及透明导电性薄膜的透明导电性叠层体，其透过率高，并且生产性良好，而且除了具有笔输入耐久性以外，还具有表面压力耐久性。本发明是在厚2～200μm的透明的薄膜基材的一方的面上，从上述薄膜基材侧开始依次形成第一透明电介质薄膜、第二透明电介质薄膜及透明导电性薄膜，在透明的薄膜基材的另一方的面上，经由透明的粘接剂层贴合有透明基体的透明导电性叠层体，第一透明电介质薄膜被利用真空蒸镀法、溅射法或离子镀法形成，并且第一透明电介质薄膜由在氧化铟100重量份中含有氧化锡0～20重量份、氧化铈10～40重量份的复合氧化物构成，在将第一透明电介质薄膜的折射率设为n1，将第二透明电介质薄膜的折射率设为n2，将透明导电性薄膜的折射率设为n3时，满足n2＜n3≤n1的关系，透明基体是至少将2张透明的基体薄膜经由透明的粘接剂层叠层的叠层透明基体。

公开(公告)号：CN101010601A

公开(公告)日：2007-08-01

申请号：CN200580028853.5

申请日：2005-09-27

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 梨木智刚 ,  菅原英男 ,  安藤豪彦 ,  吉武秀敏

IPC: G02B1/10 ,  B32B9/00 ,  C23C14/06 ,  G06F3/041 ,  H01B5/14

CPC classification number: G02B1/116 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18 ,  G02B27/0006 ,  G06F3/045 ,  Y10S428/917 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31504

Abstract: 本发明的透明导电性膜在透明膜基材的一个侧面有硬涂层，进而在该硬涂层上有通过干法工艺形成的10～300nm厚的SiOX膜，在透明膜基材的另一个侧面有20～35nm厚的透明导电性薄膜。所述的透明导电性膜具有良好的耐湿热性，笔输入耐久性优异，在冲压加工时能抑制裂纹的产生，良好的耐湿热性，即使在高温高湿的环境下，也能抑制膨胀或卷曲的产生。

公开(公告)号：CN111747642B

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202010229301.7

申请日：2020-03-27

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 西森才将 ,  梨木智刚

IPC: C03B35/16 ,  C03B35/18 ,  C03C17/00

Abstract: 玻璃基材(1)的输送装置(11)具有：送出辊(21)，其将具有玻璃基材(1)和第1保护材料(5)的输送基材(4)送出；保护材料卷取辊(23)，其从玻璃基材(1)卷取第1保护材料(5)；卷取辊(41)，其配置于送出辊(21)的输送方向下游侧，卷取玻璃基材(1)；以及除电部(15)，其配置于送出辊(21)与卷取辊(41)之间。

公开(公告)号：CN114761834B

公开(公告)日：2023-05-30

申请号：CN202080082356.8

申请日：2020-11-20

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 高见佳史 ,  山崎由佳 ,  宫本幸大 ,  梨木智刚

IPC: G02B1/115 ,  B32B7/023 ,  B32B9/00 ,  B32B27/18 ,  G02B1/14 ,  G02F1/1335 ,  G09F9/00 ,  H05B33/02 ,  H10K59/124 ,  H10K59/126 ,  H10K50/856

公开(公告)号：CN115943327A

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN202180042137.1

申请日：2021-06-10

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 中岛一裕 ,  田中一生 ,  梨木智刚

IPC: G02B5/08 ,  B32B7/02 ,  B32B7/023 ,  B32B15/08 ,  C09J7/29 ,  C09J7/38 ,  C09J201/00

Abstract: 本发明涉及薄膜镜层叠体和镜构件，所述薄膜镜层叠体依次具有粘合剂层、基材薄膜、金属反射层和光学调整层，且前述粘合剂层在25℃下的储能模量为1.3×105Pa以上。

公开(公告)号：CN115916528A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202180046973.7

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚 ,  角田丰

IPC: B32B27/00

Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)朝着厚度方向(T)依次具备透明基材(10)和防污层(30)。防污层(30)的与透明基材(10)相反的表面(31)侧的、通过利用X射线光电子能谱法进行的元素分析而检测到的F相对于Si的比率在分析深度为1nm时为20以上。

公开(公告)号：CN115812035A

公开(公告)日：2023-03-17

申请号：CN202180049616.6

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚

IPC: B32B27/00

Abstract: 带防污层的光学薄膜朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层、由无机层形成的光学功能层、以及防污层。防污层的表面粗糙度Ra为2nm以上且15nm以下。

公开(公告)号：CN115803194A

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN202180049523.3

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚

IPC: B32B27/00

Abstract: 本发明的光学薄膜(F)是一种带防污层的光学薄膜，其依次具备透明基材(10)、光学功能层(20)和防污层(30)。防污层(30)的与光学功能层(20)相反一侧的外表面(31)具有110°以上的水接触角。

公开(公告)号：CN111183374B

公开(公告)日：2022-05-03

申请号：CN201880065087.7

申请日：2018-10-26

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 高见佳史 ,  横井辽太郎 ,  梨木智刚

IPC: G02B1/14 ,  G02B1/115 ,  G02B1/18 ,  B32B7/023 ,  B32B27/00 ,  B32B27/18

Abstract: 硬涂薄膜(1)在薄膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)。硬涂层包含粘结剂树脂及无机填料，相对于粘结剂树脂100重量份，上述无机填料的含量为20～80重量份。填料的平均一次粒径优选为25～70nm。硬涂层的表面的算术平均粗糙度优选为2nm以上。硬涂层的扩散反射光的b﹡优选为‑0.2以上。