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公开(公告)号：CN101840193A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN201010142320.2
申请日：2010-03-25
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/32 , G02B5/1857 , G02B26/0825 , G03H1/04 , G03H2001/0439
Abstract: 本发明公开了一种在有像差光栅基底上制作低衍射波像差光栅的方法。由一平行光记录光束和另一波面可调的平行光记录光束组成全息干涉记录光场，在全息记录基板上进行全息曝光，经显影后，获得所需光栅。其特征在于：在其中一束记录光束的发散光路中放入一个变形镜，通过控制变形镜，获得用于补偿全息光栅基底像差的全息记录干涉光场。在此过程中，由变形镜、变形镜控制器与干涉仪三者构成全息记录干涉光场的闭环控制和检测系统；利用经过上述对变形镜调整后获得的全息干涉记录光场对涂有感光材料的全息记录基板曝光，记录全息光栅，经显影，完成所需低衍射像差光栅的制作。
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公开(公告)号：CN101377413A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810156859.6
申请日：2008-09-28
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法，其特征在于：采用TE/TM线偏振光为入射光，入射角为被测掩模的闪耀角，分别测量标准反射片的反射光的光谱分布D0(λ)；被测掩模的反射衍射零级复色光的光谱分布D(λ)；采用比较法，计算出介质膜光栅掩模实际的反射衍射零级的光谱分布Rg(λ)，对其进行光谱反演，得到掩模的槽形参数：光刻胶的剩余厚度、槽深和占宽比。本发明实现了对于面积、重量均较大的待测掩模的槽形参数的无损检测；且可以避免测量系统的误差，对光谱仪测量系统以及光源没有特别要求，测量方法简单易行。
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公开(公告)号：CN100437392C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200610039967.6
申请日：2006-04-24
Applicant: 苏州大学
Abstract: 一种用控制装置稳定全息干涉条纹的方法及装置，外界的扰动常造成干涉条纹的随机漂移，从而使拍摄的全息光栅质量下降，利用线阵CCD采集干涉条纹图像信息并传送给控制装置，控制装置计算条纹漂移量，控制装置控制与反射镜连接在一起的压电陶瓷移动进行位相补偿，可使干涉条纹的漂移大大的减小，达到稳定曝光区域干涉条纹，曝光时间将允许大大延长。
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公开(公告)号：CN1786748A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510095775.2
申请日：2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种衍射光变图像的高速激光直写方法，入射平行光经光阑、透镜成像到分束元件上，分束光分别经透镜组会聚，产生干涉条纹光场，依次光刻不同取向的干涉条纹形成不同取向的微光栅图像，其特征在于：由采用半导体泵浦的固态紫外激光器生成所述激光束，利用TTL信号控制，实现激光束的脉冲输出，两组分束光束具有零光程差；光学系统和光刻胶干板分别在相互垂直的两个一维方向上运动，采用连续运动、连续脉冲曝光方式进行光刻。本发明并以此实现了高速激光直写光刻系统，使大面积具有微米级条纹结构的衍射光变图像的原版制作缩短到数小时到17小时之间，真正进入工业化应用阶段，是激光全息技术领域数字化先进制造技术的重要突破。
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公开(公告)号：CN1182445C
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：CN01134127.0
申请日：2001-10-29
Applicant: 苏州大学
Abstract: 一种光学可变图像的制作方法，由一光源经成像系统将形状光阑成像到全息光学元件上，产生一对衍射光束；将衍射光束会聚在记录材料上，产生一定形状的干涉条纹点；移动记录材料的位置；记录下一个干涉条纹点；重复上述步骤，直至完成。本发明的光学可变图像照排系统，包括由光源、衍射前成像系统、全息光学元件、衍射后成像系统组成的光路系统、工作台及控制部分，全息光学元件设置在转台上，工作台可以沿X轴和Y轴运动，记录材料位于衍射后成像系统的焦面上。本发明能有效利用入射光的能量，完成全息衍射光栅的制作，速度快，且图像具有加密和更丰富的信息表达特征。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN209513047U
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201920206331.9
申请日：2019-02-18
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本实用新型公开了一种用于静态傅里叶变换光谱仪的微阶梯反射镜和光谱仪，包括第一直角棱镜和第二直角棱镜；所述第一直角棱镜具有第一斜面，所述第二直角棱镜具有第二斜面，所述第一斜面与第二斜面贴合设置且所述第一斜面与第二斜面的贴合面为半透面；所述第一直角棱镜包括互相垂直的第一平面和第二平面，所述第二直角棱镜包括互相垂直的第三平面和第四平面；所述第二平面与第三平面相邻设置，所述第一平面与第四平面相邻设置；所述第二平面上设置有阶梯表面，所述阶梯表面和第三平面上皆镀有反射膜。其结构简单紧凑，而且具有更好的稳定性，精度高。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN204854960U
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201520522053.X
申请日：2015-07-17
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本实用新型公开了一种用于拉曼光谱仪荧光抑制的多波长外腔激光发射装置，其特征在于通过电源切换电路连接并驱动二个以上的激光二极管独立通断，各激光二极管均通过相应的准直透镜输出准直光束，相邻的准直光束之间预设有夹角δ。这些准直光束最终均通过同一光栅衍射后以不同衍射角形成直接出射的输出光束和沿原路返回相应激光二极管内部参与谐振腔内部模式竞争的衍射光束；所述输出光束最后经光纤耦合透镜汇聚至光纤合路器进行波长输出。本实用新型采用电路切换波长输出，消除了常规机械调节的不可靠性和可能引入的误差，使得调谐结构更加简单稳固，保证了输出波长的高稳定性，实际操作时波长输出的重复性强，能够大大提高调谐精度。
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公开(公告)号：CN204195071U
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201420666197.8
申请日：2014-11-10
Applicant: 苏州大学
IPC: B23K26/382
Abstract: 本实用新型公开了一种激光打孔装置。激光器产生的激光束依次经扩束器、偏振器后入射到LCOS 上；LCOS的反射光经变焦系统和光阑后入射聚焦到待加工基材上， LCOS 通过视频数据接口与图象处理器联接。激光打孔时，先在图象处理器上依据待加工孔的直径等参数设计若干幅圆弧图像的灰度图，再依次转换为相位全息图，经视频数据接口逐幅加载到LCOS上；LCOS的反射光经变焦系统和光阑后入射聚焦到基材上，在基材上得到用于加工的聚焦圆弧，对基材进行打孔加工。本新型采用LCOS衍射器件进行光束扫描，克服了激光打孔现有技术采用的振镜扫描或光学元件转动部件移动存在的不足，保证了激光打孔加工的精度。
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公开(公告)号：CN209214768U
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201920154347.X
申请日：2019-01-29
Applicant: 苏州大学
IPC: G01J3/45
Abstract: 本实用新型公开了一种法布里-珀罗干涉型成像光谱仪，包括依次设置的聚焦透镜、第一微透镜阵列、F-P谐振腔、第二微透镜阵列和探测相机；目标物体放置在所述聚焦透镜一侧，目标物体发出的光经过所述聚焦透镜聚焦在所述第一微透镜阵列的前焦面上；所述探测相机位于所述第二微透镜阵列的后焦面处；所述聚焦透镜将入射光聚焦在所述第一微透镜阵列的前焦面上，再通过所述第一微透镜阵列将入射光平行入射到所述F-P谐振腔上，从所述F-P谐振腔出射的平行光再入射到第二微透镜阵列上，最后所述第二微透镜阵列的出射光聚焦在所述探测相机上。其结构简单，分辨率高，精确度高，成像性能好。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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