可逆热敏记录介质及其制备方法

    公开(公告)号:CN102642420B

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201210034225.X

    申请日:2012-02-15

    IPC分类号: G06K19/077

    摘要: 可逆热敏记录介质,包括:可逆热敏记录层;第一片形基底;第二片形基底;第一树脂层;第二树脂层;和电子信息记录模块,包含模块衬底和布置在衬底上的电子信息记录元件和天线电路,其中,记录层邻近所述第一片形基底设置;第一或第二片形基底具有凹入部分,其中,元件在其深度方向上布置;模块设置在第一和第二片形基底之间,其中,第一树脂层设置在模块和具有凹入部分的片形基底之间,而第二树脂层设置在模块和没有凹入部分的片形基底之间;和所述凹入部分的内侧表面是锥形表面,其中,凹入部分的最大开口直径从其开口边缘朝向其底面减小。

    热敏记录体
    118.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102361761B

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201080012991.5

    申请日:2010-03-19

    IPC分类号: B41M5/337

    摘要: 本发明提供一种当使用于室外时对雨等水分或湿气具有充分耐水性,高速打印时的打印行进性(抗粘性)、发色感度、耐擦拭性、耐增塑剂性、耐溶剂性出色的热敏记录体。通过在支撑体上设置热敏记录层,使在该热敏记录层上设置的保护层中含有玻璃化转变温度高于50℃且95℃以下的丙烯酸系树脂作为粘合剂,可获得具有充分的耐水性,且高速打印时的打印行进性(抗粘性)等出色的热敏记录体。

    图像擦除方法和图像擦除装置

    公开(公告)号:CN102079175B

    公开(公告)日:2013-07-17

    申请号:CN201010515607.5

    申请日:2010-10-19

    IPC分类号: B41J2/455 B41M5/26

    摘要: 本发明的名称是图像擦除方法和图像擦除装置。图像擦除装置包括半导体激光器阵列,其中多个半导体激光光源是线性排列的;宽度方向校准单元,其被提供在半导体激光器阵列的输出表面上,并且被配置来在宽度方向上校准从半导体激光器阵列发射出的激光束加宽以形成线性光束;和长度方向光分布控制单元,其被配置来控制线性光束的长轴的长度大于半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度并且在线性光束的长度方向获得均匀的光分布,其中长轴长度大于半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度并且在其长度方向上具有均匀的光分布的线性光束被施加到热可逆记录介质并加热热可逆记录介质,其中其透明度和色调的任何一个根据温度可逆地变化,以擦除在热可逆记录介质上记录的图像。