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公开(公告)号：CN112505915A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN202011296003.6
申请日：2020-11-18
Abstract: 本发明公开了一种激光束漂移实时探测与快速校正装置及方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、压电调节镜架、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件；通过纳米位移台与直角棱镜反射镜的组合，实现光束位置漂移的独立调控，通过压电调节镜架实现光束指向角度的独立调控。本发明通过光束指向位置漂移与角度漂移的独立调控，避免了常规光束指向系统中的解耦操作，实现小型化、高精度、快速度的光束稳定控制。利用本发明装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN111983892A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010909777.5
申请日：2020-09-02
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种光诱导抗氧阻聚飞秒激光光刻胶及制备方法，该光刻胶包括改性富勒烯C60、活性单体、飞秒激光引发剂及溶剂。本发明在飞秒激光光刻胶体系中引入表面具有巯基的改性富勒烯C60，改性富勒烯C60可以在飞秒激光的诱导下，将飞秒激光曝光区光刻胶内的三线态氧分子转化为单线态氧分子，从而抑制三线态氧分子对活性自由基的淬灭作用，达到抗氧阻聚的作用。本发明解决飞秒激光光刻胶中三线态氧气分子对活性自由基的阻聚问题，降低飞秒激光光刻胶的聚合阈值，提高飞秒激光光刻胶的灵敏度和分辨率。
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公开(公告)号：CN111856892A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010843633.4
申请日：2020-08-20
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种并行超分辨三维直写装置，该装置利用实心光斑对光刻胶的聚合效应与空心光斑的抑制聚合效应，实现超衍射极限的光刻能力；将两束不同波长的光束分别经过数字微镜器件入射到相位衍射微透镜阵列上，分别形成等间距的实心光斑阵列与空心光斑阵列，且实心光斑与空心光斑的中心相重合，利用数字微镜器件的快速开关能力，对实心光斑阵列与空心光斑阵列进行快速、特异性调控，实现复杂结构的并行超分辨三维直写。本发明为基于受激辐射损耗的高通量光刻技术提供高速、可独立调控的实心光斑与空心光斑阵列；具有高分辨三维加工能力、复杂结构加工能力和快速加工能力；可以推动高速、超分辨、具有复杂结构刻写能力的三维直写技术的发展。
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公开(公告)号：CN110568650B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201910853082.7
申请日：2019-09-10
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335 , G02B26/10
Abstract: 本发明公开了一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置。由淬灭光束或去交联光束构成第一光束，由激发光束或交联光束构成第二光束；光束合束后依次透过第一光学薄膜、玻璃基板、第二光学薄膜，第一光束经第二光学薄膜、透明电极进入液晶层，经反射层反射，第二次进入液晶层，经液晶层相位调制后，最终从第一光学薄膜出射；第二光束经第二光学薄膜反射后最终经第一光学薄膜出射。上述方法使两束光束合束后再经过同一光调制模块，而仅对淬灭光束或去交联光束相位调制，这大大简化了光学成像和光刻系统的结构，并且由于使共路系统，其稳定性更好，本发明装置可以大大降低成像与光刻系统的搭建成本并且提高了系统的抗干扰能力，光学效率较高。
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公开(公告)号：CN118466124A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410325977.4
申请日：2024-03-21
Abstract: 一种基于多通道独立控制的激光并行直写装置及方法；该装置包括光提供源、位于光源输出光路上的微透镜阵列MLA、多通道声光调制器AOMC、第一凸透镜、反射镜、二向色镜、位于二向色镜透射光路上的物镜、精密位移台、以及位于二向色镜反射光路上的第二凸透镜、CCD10；MLA包含m×n个微透镜，用于生成m×n的激光焦点阵列，AOMC包含m×n个通道，可对m×n光束阵列的各子光束进行独立开关和强度调控。本发明装置结构简洁，可产生独立可控的m×n个光束，可实现高通量并行加工，能高速加工高精度的三维微结构，可应用于超分辨激光直写等领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116300310B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202310020668.1
申请日：2023-01-06
Abstract: 一种利用光引发剂实现超分辨激光直写与成像的方法，通过在光刻胶单体中加入的光引发剂7‑二乙基氨‑3‑(2‑噻吩基)香豆素(DETC)，利用边缘光抑制效应(PPI)，可以实现高精度激光直写；同时，利用其本身的荧光发光特性，及其存在的本征受激辐射效应，还可以实现超分辨受激辐射损耗显微成像(STED)。本发明利用DETC这些特性，在同一个装置中同时构建激光直写系统和显微成像系统，同时实现高精度刻写与超分辨成像。相比于掺杂荧光染料的方式，简化了光刻胶的成分，在一个系统中同时实现高精度刻写与超分辨成像，将刻写系统中的抑制光光路复用于成像系统中的损耗光路，有效简化了系统。本发明还包括一种利用光引发剂实现超分辨激光直写与成像的装置。
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公开(公告)号：CN113960892B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202111248690.9
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的高速并行激光直写光刻的方法与装置，本发明装置利用像旋转器对多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明基于上述五种不同扫描策略，有效解决了现有并行激光直写由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。本发明针对不同应用，使用不同扫描策略，实现扫描速度与扫描质量的双重提升。
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公开(公告)号：CN117177086B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202311442067.6
申请日：2023-11-01
Applicant: 之江实验室
IPC: H04N25/703 , H04N25/708
Abstract: 本申请涉及探测技术领域，特别是涉及一种高锐度探测器的像素电路、高锐度探测器和控制方法。所述电路包括由光敏探测单元、行扫描开关单元、电流控制单元组成的分压支路，由负载单元、电压放大单元组成的放大支路以及输出开关单元。在探测阶段，所述电流控制单元接收第一电流控制信号，所述行扫描开关单元以及所述输出开关单元接收行扫描信号，所述分压支路控制所述放大支路输出放大信号，经过所述输出开关单元输出探测信号；其中，所述行扫描开关单元以及所述输出开关单元处于线性状态，所述电流控制单元、所述负载单元以及所述电压放大单元处于饱和状态，以得到更加清晰的细节对比度，更大的图像锐度。
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公开(公告)号：CN113703170B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202110886687.3
申请日：2021-08-03
Abstract: 本发明公开了一种新型三维中空形光场调控方法和装置，属于光学工程领域。该方法使用两种旋向相反的0‑2π涡旋相位板对偏振光的两个分量分别调至，在转化成圆偏光，两个分量的光干涉形成一种复杂的柱状矢量偏振光，聚焦形成新型三维中空光场。该装置，包括起偏器、半波片、滤波透镜、滤波小孔、准直透镜、第一锥透镜、第二锥透镜、DMD、SLM，第一1/4波片、反射镜和第二1/4波片。相对于传统的方法产生更高质量的3D HLF，并且利用SLM的偏振选择特性，可以采用单路光形成3D HLF且不产生相干缺陷。本发明采用SLM调控光束可以同时实现像差优化，采用环形光束可以挡掉中心低频部分进一步提高光束质量。
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公开(公告)号：CN113093480B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110403505.2
申请日：2021-04-15
Abstract: 本发明公开了一种并行曝光抑制超衍射极限激光直写物镜。该物镜由12片正光焦度镜片，8片负光焦度镜片共20片镜片构成，其中5片镜片采用火石玻璃、15片镜片采用冕牌玻璃构，且8片为超低色散镜片。该物镜数值孔径约为1.4、波长522nm‑790nm范围内光的垂轴色差小于5.1nm、物方视场角±4.2°，像方线视场约1mm，可将用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写的两波长激光聚焦在直径1μm以内，且两波长焦点在全视场范围内重合，达到边缘曝光抑制的效果，最终实现特征线宽小于衍射极限的超衍射极限激光直写。利用本发明聚焦得到的激光光斑，可广泛应用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写。
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