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公开(公告)号：CN114019765A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111240501.3
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制的双光束共路相位调制激光直写方法与装置，包括引发光刻胶产生聚合反应的激发光源和抑制（或中断）光刻胶聚合的抑制光源。两束准直光以互相垂直的线偏振态进行合束，合束后的两束光经过同一个空间光调制器（SLM）进行相位调制。将所述SLM分成两部分，对应偏振的激发光被SLM第一部分调制相位进行像差校正，最后经过物镜聚焦形成圆形实心光斑；与激发光偏振相垂直的抑制光被SLM第二部分调制相位，最后经过物镜聚焦形成环形空心光斑。激发光的圆形实心光斑与抑制光环形空心光斑中心重合。本发明通过将SLM进行区分复用，对基于边缘光抑制的激光直写技术的双光束同时进行光场调控，实现共路相位调制。
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公开(公告)号：CN113835296A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202111140604.2
申请日：2021-09-28
Abstract: 本发明属于光刻胶及激光直写技术领域，公开了一种适用于飞秒激光直写的光刻胶组合物，所述光刻胶组合物由单体、光引发剂和聚合物组成，其技术特征在于所述光刻胶组合物具有双色光敏性，可以被特定波长的飞秒激光引发聚合，同时又可以被另一束连续激光抑制聚合，抑制光束减小了飞秒激光的直写区域，从而提高了飞秒激光直写精度，本发明所提供的光刻胶组合物通过特定结构的单体和聚合物，不仅提高了飞秒激光直写精度，同时降低了飞秒激光直写阈值、增强了机械强度。
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公开(公告)号：CN113703170A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202110886687.3
申请日：2021-08-03
Abstract: 本发明公开了一种新型三维中空形光场调控方法和装置，属于光学工程领域。该方法使用两种旋向相反的0‑2π涡旋相位板对偏振光的两个分量分别调至，在转化成圆偏光，两个分量的光干涉形成一种复杂的柱状矢量偏振光，聚焦形成新型三维中空光场。该装置，包括起偏器、半波片、滤波透镜、滤波小孔、准直透镜、第一锥透镜、第二锥透镜、DMD、SLM，第一1/4波片、反射镜和第二1/4波片。相对于传统的方法产生更高质量的3D HLF，并且利用SLM的偏振选择特性，可以采用单路光形成3D HLF且不产生相干缺陷。本发明采用SLM调控光束可以同时实现像差优化，采用环形光束可以挡掉中心低频部分进一步提高光束质量。
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公开(公告)号：CN113654656A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202111209478.1
申请日：2021-10-18
IPC: G01J1/42
Abstract: 本发明公开了一种基于三光束干涉的光束漂移检测装置与方法，该装置包括分束镜、反射镜、道威棱镜、图像传感器等部件。装置将入射光束均分成三束光束，然后让三光束进行干涉形成干涉图案，将入射光束的微小角度与位置的变化转换为干涉图案的变化，位置角度变化将引起光栅条纹周期的变化，光束位置变化将引起干涉图案能量分布的变化。装置将结合图像传感器与分析算法，获得高精度光束漂移的检测，为高精密光学系统中光束的实时校正提供技术支持，可以广泛用于超分辨显微成像、高精度激光直写光刻等高精密激光技术中。
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公开(公告)号：CN113515016A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110388077.0
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于DMD数字掩膜的双光束激光直写方法和装置，该装置包括两路光，每路光各含一个DMD加载相应的数字图形，其中一路光中的DMD加载待刻写的实心图形，用于引发光刻胶的聚合反应；另一路光中的DMD加载所述实心图形对应边缘的空心图形，用于抑制光刻胶的聚合反应；将两路光进行合束后使两个图形投影到样品面上并实现严格对准。本发明通过DMD产生数字掩膜在实现快速面直写的基础上，通过双路激光分别进行引发和抑制光刻胶聚合可提高直写分辨率。利用本发明，有望实现高速高分辨激光直写，为纳米加工技术实现大批量生产提供新思路。
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公开(公告)号：CN113253572A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN202110529681.0
申请日：2021-05-14
IPC: G03F7/027
Abstract: 本发明公开了一种智能可逆光敏性飞秒激光光刻胶及光刻加工方法，其特征在于智能可逆光敏性飞秒激光光刻胶组份中包含一种可逆光敏引发剂，其具有可逆光敏性，在350‑550nm波长光源的刺激下，可逆光敏引发剂可以发生结构构象转变，失去对700‑1000nm飞秒激光的非线性吸收能力，变成失活状态，从而控制光刻胶的光化学反应，以获得更高的光刻精度，智能可逆光敏性飞秒激光光刻胶，按质量百分比计，包括0.1‑6wt%可逆光敏引发剂A和94‑99.9wt%树脂B。
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公开(公告)号：CN112904526A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202110082908.1
申请日：2021-01-21
Abstract: 本发明提出一种基于差动共焦探测具有抗噪能力的高精度自动对焦方法及装置，该方法包括：产生对焦光束，经由凹透镜和电控变焦透镜组成的透镜组，与光学系统工作光束合束；对焦光束经对焦对象中的对焦平面反射，由原光路返回，再由分束镜反射入差分共焦探测机构进行光强测量；在测量过程中，对电控变焦透镜偏置高频周期性变化信号，将差分共焦探测机构测量到的静态差分信号转换为具有抗噪性能的动态差动信号；根据差动信号变化，产生反馈调整信号，自动补偿离焦量，实现自动对焦。本发明将静态光强信号差分共焦探测转化为动态光强信号差动共焦探测。通过此方法减少了系统的随机误差，提高了系统的抗噪性能，进一步增加了对焦精度。
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公开(公告)号：CN112731776A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN202110048105.4
申请日：2021-01-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置，包括偏振控制模块、准直扩束系统、激发光束阵列掩膜、偏振分光镜、四光束干涉形成的抑制光虚拟掩膜、聚焦高数值孔径物镜以及三维可控精密位移台等主要装置，所述的空间光调制器实时连续加载不同的计算全息图实现激发光束阵列子光束的开光，从而实现不同图案的直写。四光束两两呈一定角度干涉形成光学掩膜作为抑制光阵列，从而提高直写分辨率。这使得该系统的直写效果更加丰富，直写效率与分辨率进一步提高，有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
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公开(公告)号：CN112666698A
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：CN202110108456.X
申请日：2021-01-27
Abstract: 本发明公开了一种基于色散超表面的光纤束多方位三维共聚焦成像装置及方法，属于光纤显微内窥领域，主要包括宽带光源模组、振镜扫描系统、耦合物镜、微型探头模块、探测模块和计算机控制系统。其中微型探头模块包含侧向成像模式下将光纤束远端出射光反射到侧面的微型直角棱镜，以及用于三维成像的色散超表面，通过以上各模块的配合可以得到样品的三维图像。本发明提出了利用光纤束共聚焦原理结合超表面设计实现多方位三维成像的新方法，既可以前向成像也可以侧向成像，其成像速度快、分辨率高且视场范围大；装置无需装载电动机械扫描探头，极大地简化了成像元件的体积，能真正做到在体低损伤的无透镜成像。
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公开(公告)号：CN112326672A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202011232223.2
申请日：2020-11-06
IPC: G01N21/88 , G01N21/958 , G01N21/01
Abstract: 本发明公开了一种基于多色并行移频照明的快速成像系统，包括光源、显微物镜、管镜、多色图像探测器阵列、控制模块和数据处理模块，光源包括垂直照明光源和两组以上倾斜照明光源；同一组倾斜照明光源的照明波长相同，不同组倾斜照明光源的照明波长不同；垂直照明光源的照明波长与任一组倾斜照明光源的照明波长不同，或与其中一组倾斜照明光源的照明波长相同。本发明利用照明光场的波长差异性，通过控制模块并行施加多色倾斜照明光场，利用多色图像探测器阵列快速并行采集各照明波长下被观测样品的远场像；借助数据处理模块，结合移频重构算法获取被观测样品宽频段空间频谱信息，重构恢复被观测样品的像，快速提升整个显微系统的成像速度。
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