基于水润滑拉拔的多道次金属拉拔装置

    公开(公告)号:CN103331318B

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201310228889.4

    申请日:2013-06-08

    IPC分类号: B21C3/14 B21C3/02

    摘要: 本发明公开了一种基于水润滑拉拔的多道次金属拉拔装置,包括支架、固定在支架内部的拉拔腔、设置于拉拔腔内的密封圈、模具组和润滑室组、以及固定在支架上的盖板;模具组为超光滑纳米金刚石复合涂层模具;拉拔腔润滑剂入口与支架润滑剂入口的中心线对齐;密封圈、润滑室组和模具组沿着管线材拉拔方向依次放置在拉拔腔内,润滑室开口方向与拉拔腔润滑剂出入口对齐。本发明能够使管线材与模具组接触区在拉拔过程中完全浸入在润滑剂中,使金刚石薄膜优异的水润滑性能得到发挥,拉拔区域得到有效的润滑和冷却,从而延长模具使用寿命,提高加工表面质量以及表面光洁度、清洁度;同时水基润滑剂安全、无污染的特点也使得加工环境得到极大改善。

    多元掺杂热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法

    公开(公告)号:CN102586762B

    公开(公告)日:2015-08-19

    申请号:CN201210085095.2

    申请日:2012-03-27

    摘要: 本发明公开了一种多元掺杂热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法及用于其中的反应气体输送装置。所述方法以硅、碳化硅或氮化硅陶瓷、硬质合金、以及高熔点金属材料(钨、钽、钼、钛等)为衬底,以CVD法为沉积手段,在反应气体氢气和丙酮(或丙酮和甲醇)蒸汽中同时添加含Si、含Si和含N、含Si和含B或含Si、含N和含B的有机化合物,形成多元掺杂体系;反应得到了亚微米或纳米级金刚石薄膜涂层,涂层厚度可在10~50μm之间调节。该薄膜具有耐磨、耐腐蚀、绝缘电阻高(不掺硼场合)、表面光滑、摩擦系数小、易研磨抛光等特点,即兼有微米金刚石和纳米金刚石涂层的双重优点。

    碳化硅陶瓷和金刚石复合拉拔模具制备方法

    公开(公告)号:CN101318839B

    公开(公告)日:2011-06-29

    申请号:CN200810040138.9

    申请日:2008-07-03

    IPC分类号: B21C9/02 C04B41/85 B21C3/00

    摘要: 本发明涉及一种镀覆技术领域的碳化硅陶瓷和金刚石复合拉拔模具制备方法,以碳化硅陶瓷为衬底,进行多次常规金刚石涂层沉积→等离子体抛光→纳米金刚石涂层沉积→机械抛光,使陶瓷模具原先内孔表面缺陷砂眼消失,在CVD金刚石沉积-抛光循环过程,采用常规金刚石涂层与纳米金刚石涂层相结合,等离子体抛光与机械抛光相结合,在沉积常规涂层与纳米涂层之间插入等离子体抛光,使生长纳米涂层后更适应机械抛光。本发明制备的模具可替代传统硬质合金产品,不仅能大幅度延长传统模具和器件的使用寿命,提高生产效率,显著改善相关产品的质量,有效节约原材料,且对于大幅度减少钨、钴资源的消耗,有效解决硬质合金行业面临资源危机意义重大。

    特大孔径内孔金刚石平坦化涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN102140627A

    公开(公告)日:2011-08-03

    申请号:CN201110028847.7

    申请日:2011-01-27

    IPC分类号: C23C16/27 C23C16/44

    摘要: 一种金刚石涂层技术领域的特大孔径内孔金刚石平坦化涂层的制备方法,采用热丝化学气相沉积法在拉拔模的內孔表面依次进行直流正向偏流沉积、直流反向偏流沉积、直流还原沉积和优化沉积处理,得到特大孔径内孔金刚石平坦化涂层。本发明用三相整流的直流电源来替代单相交流电源,从而解決了大功率供电的三相平衡问题,同时既能保证金刚石涂层的质量,又能提高涂层的表面平整度,减少涂层抛光工作量,提高涂层模具的合格率和可靠性。

    碳化硅陶瓷和金刚石复合拉拔模具制备方法

    公开(公告)号:CN101318839A

    公开(公告)日:2008-12-10

    申请号:CN200810040138.9

    申请日:2008-07-03

    IPC分类号: C04B41/85 B21C3/00

    摘要: 本发明涉及一种镀覆技术领域的碳化硅陶瓷和金刚石复合拉拔模具制备方法,以碳化硅陶瓷为衬底,进行多次常规金刚石涂层沉积→等离子体抛光→纳米金刚石涂层沉积→机械抛光,使陶瓷模具原先内孔表面缺陷砂眼消失,在CVD金刚石沉积-抛光循环过程,采用常规金刚石涂层与纳米金刚石涂层相结合,等离子体抛光与机械抛光相结合,在沉积常规涂层与纳米涂层之间插入等离子体抛光,使生长纳米涂层后更适应机械抛光。本发明制备的模具可替代传统硬质合金产品,不仅能大幅度延长传统模具和器件的使用寿命,提高生产效率,显著改善相关产品的质量,有效节约原材料,且对于大幅度减少钨、钴资源的消耗,有效解决硬质合金行业面临资源危机意义重大。

    特大孔径内孔金刚石平坦化涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN102140627B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN201110028847.7

    申请日:2011-01-27

    IPC分类号: C23C16/27 C23C16/44

    摘要: 一种金刚石涂层技术领域的特大孔径内孔金刚石平坦化涂层的制备方法,采用热丝化学气相沉积法在拉拔模的內孔表面依次进行直流正向偏流沉积、直流反向偏流沉积、直流还原沉积和优化沉积处理,得到特大孔径内孔金刚石平坦化涂层。本发明用三相整流的直流电源来替代单相交流电源,从而解決了大功率供电的三相平衡问题,同时既能保证金刚石涂层的质量,又能提高涂层的表面平整度,减少涂层抛光工作量,提高涂层模具的合格率和可靠性。

    化学气相沉积制备掺硼导电金刚石薄膜方法

    公开(公告)号:CN101476113B

    公开(公告)日:2011-07-27

    申请号:CN200910045950.5

    申请日:2009-01-22

    IPC分类号: C23C16/22

    摘要: 本发明涉及一种薄膜技术领域的化学气相沉积制备掺硼导电金刚石薄膜方法,将硼酸三甲酯按预定的B/C比溶解于丙酮,并放置于始终保持0℃的鼓泡瓶中,以控制碳源和硼源的流量。部分氢气流量作为载气,用鼓泡法将液体蒸气带出。本发明不会发生硼酸三甲酯掺硼分解出硼酸,对流量计、针形阀和管道的堵塞,制成的薄膜电阻率低(10-3Ω.·cm),金刚石成份占绝对优势,质量好。掺硼制备过程安全无毒,没有硼源对大气等污染问题。

    化学气相沉积制备掺硼导电金刚石薄膜方法

    公开(公告)号:CN101476113A

    公开(公告)日:2009-07-08

    申请号:CN200910045950.5

    申请日:2009-01-22

    IPC分类号: C23C16/22

    摘要: 本发明涉及一种薄膜技术领域的化学气相沉积制备掺硼导电金刚石薄膜方法,将硼酸三甲酯按预定的B/C比溶解于丙酮,并放置于始终保持0℃的鼓泡瓶中,以控制碳源和硼源的流量。部分氢气流量作为载气,用鼓泡法将液体蒸气带出。本发明不会发生硼酸三甲酯掺硼分解出硼酸,对流量计、针形阀和管道的堵塞,制成的薄膜电阻率低(10-3Ω.·cm),金刚石成份占绝对优势,质量好。掺硼制备过程安全无毒,没有硼源对大气等污染问题。