一种旋转靶用磁路组件
    11.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207176066U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201721135273.2

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本实用新型公开了一种旋转靶用磁路组件,包括上端部、靶材、磁路组件、下端部,所述的旋转靶用磁路组件包括靶材制成的筒体;在所述的筒体内部设置磁路组件,其特征在于,在所述的磁路组件中设置冷却水通道;所述的冷却水通道连接上端部的进水口组件以及连接下端部的靶端组件;可以将冷却水通过冷却水通道连接上端部的进水口组件以及连接下端部的靶端组件;实现在旋转靶用磁路组件上实现的冷却水的接入以及循环使用。

    一种旋转接触式加热装置
    12.
    实用新型

    公开(公告)号:CN205566676U

    公开(公告)日:2016-09-07

    申请号:CN201620215893.6

    申请日:2016-03-21

    Abstract: 本实用新型公开了一种旋转接触式加热装置,包括电源和加热电路和加热丝,加热丝连接有两根铜导线,一根导线连接在正极,另外一根连接到负极,其中,所述加热电路连接有电机,所述加热丝上端设置第一匀热盘,在加热丝的下端设置第二匀热盘,所述第一匀热盘和第二匀热盘通过固定连接成一体,所述第二匀热盘与加热主体连接在一起。与现有技术相比,本装置通过中空轴内部连接导线,外部连接电刷的方式,使加热与旋转组合到一起,可以获得更高的温度。

    一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备

    公开(公告)号:CN205556779U

    公开(公告)日:2016-09-07

    申请号:CN201620215895.5

    申请日:2016-03-21

    Abstract: 本实用新型公开了一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备,包括有放卷室和收卷室,其中,在放卷室和收卷室之间设置有加热组件,所述加热组件包括有热屏蔽固定杆,在热屏蔽固定杆上设置放卷夹持辊和收卷夹持辊,在放卷夹持辊和收卷夹持辊设置加热丝。所述支撑管为可升降的。在放卷夹持辊上端设置工艺进气装置,在放卷夹持辊下端设置排气装置。在放卷夹持辊左端设置放卷热屏蔽组件,在收卷夹持辊右端设置收卷热屏蔽组件。在收卷轴转动密封装置的左侧设置水冷辊转动密封装置。

    一种升降转动定位装置
    14.
    实用新型

    公开(公告)号:CN205556760U

    公开(公告)日:2016-09-07

    申请号:CN201620216457.0

    申请日:2016-03-21

    Abstract: 本实用新型公开了一种升降转动定位装置,包括有四个支撑架以及位于支撑架上的上面板,上面板中设置有腔体,腔体包括有上盖,腔体的一端设置有支撑管,支撑管通过焊接板组件与上盖相连,支撑管的上端设置有轴套,其中,在轴套上设置有卡环法兰,卡环法兰上设置有定位块,定位块中设置有定位孔,在焊接板组件上设置一个定位螺栓,所述定位螺栓与定位孔相匹配。与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:与现行设备相比,增加上盖转动定位装置以后,设备操作过程安全、灵活,可控程度高。

    一种等离子体增强化学气相沉积设备的射频信号引入结构

    公开(公告)号:CN207176073U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201721135325.6

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本实用新型公开了一种等离子体增强化学气相沉积设备的射频信号引入结构,包括双层水冷腔体、同轴电缆接头、屏蔽罩,屏蔽罩设置在双层水冷腔体的上方;同轴电缆接头设置在屏蔽罩上,在屏蔽罩与双层水冷腔体之间设置一焊接法兰;焊接法兰的上方设置第一绝缘法兰;第一绝缘法兰上方设置一接线法兰,接线法兰上中心设置一中心圆孔,在其的上方开设一凹槽,设置一进气管;在其两侧各设置一电刷;设置在凹槽内;电刷的一端抵住进气管的外侧;电刷的另一端抵住凹槽的两侧;进气管向下依次穿过第一绝缘法兰、焊接法兰和双层水冷腔体;在进气管与第一绝缘法兰、焊接法兰和双层水冷腔体之间设置一绝缘套;解决了射频信号引入失效的问题。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种手动可同步调节高度和角度的圆靶挡板结构

    公开(公告)号:CN207176064U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201721135272.8

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本实用新型公开了一种手动可同步调节高度和角度的圆靶挡板结构,其特征在于,包括圆靶、圆靶转向夹持机构、法兰、焊接波纹管组件、支撑管、密封结构、挡板;挡板调节机构;挡板设置在圆靶的上方,在圆靶的下方设置圆靶转向夹持机构;圆靶转向夹持机构的中间连接一焊接波纹管组件;焊接波纹管组件的下端连接支撑管;支撑管伸入设置在法兰上的密封结构;圆靶转向夹持机构的右侧夹持挡板调节机构;挡板调节机构随圆靶、圆靶转向夹持机构一起角度和高度同步调节;实现了在圆靶挡板结构中的挡板结构在高度和角度可以同步进行调节,进一步提升了圆靶镀膜的工艺连续性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极

    公开(公告)号:CN205556769U

    公开(公告)日:2016-09-07

    申请号:CN201620216458.5

    申请日:2016-03-21

    Abstract: 本实用新型公开了一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极,包括进水管以及设置在进水管外部的磁路组件,其中,在进水管上端设置一个进水轴,所述进水轴与水接头相连接,进水轴与进水管相通,在进水轴的上端设置一个旋转气缸。所述旋转气缸与进水轴通过设置联动法兰实现传动。与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本专利提供了一种磁路可以转动的旋转阴极,磁路方向转变时,靶原子轰击的方向相应改变,就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构,可以简化镀膜设备并节省设备空间。

    一种带气路且结构精简的小型圆形平面靶

    公开(公告)号:CN205556768U

    公开(公告)日:2016-09-07

    申请号:CN201620215908.9

    申请日:2016-03-21

    Abstract: 本实用新型公开了一种带气路且结构精简的小型圆形平面靶,包括波纹管和设置在波纹管上方的过渡法兰,过渡法兰外侧设置有安装法兰,安装法兰外侧设置阳极罩,阳极罩内部设置阴极主体部件,其中,在波纹管内侧纵向设置一个进气管,所述进气管的末端伸入过渡法兰的凹槽中,在所述安装法兰的左侧和右侧分别设置一个倾斜气孔,所述倾斜气孔与进气管相通,所述倾斜气孔与阳极罩内侧与阴极主体部件外侧形成的缝隙相连通。与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:提供了一种磁路可以转动的旋转阴极,磁路方向转变时,靶原子轰击的方向相应改变,就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构,可以简化镀膜设备并节省设备空间。

    一种真空镀膜室用双层防护观察窗

    公开(公告)号:CN207176069U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201721135271.3

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本实用新型公开了一种真空镀膜室用双层防护观察窗,其特征在于,所述的真空镀膜室用双层防护观察窗包括第一法兰、外层观察窗、内层观察窗、第二法兰,挡板;第一法兰与第二法兰之间依次设置外层观察窗、内层观察窗;在内层观察窗的右侧设置挡板;挡板为转动挡板;采用了挡板挡住真空镀膜室出现镀膜的颗粒物,延长镀膜的颗粒物污染观察室的时间;同时,在厚的观察室的里面设置一层较薄的观察室;这样,实现只要更换较薄的观察室就可以了,减少成本支出。

    一种小弧源磁路结构
    20.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207217214U

    公开(公告)日:2018-04-10

    申请号:CN201721135249.9

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本实用新型公开了一种小弧源磁路结构,包括磁铁组件,主轴、密封组件、同步轮、平键、定位套环、主轴高度调节机构;磁铁组件的下方连接一主轴;主轴穿入密封组件;同步轮;其特征在于,主轴上设置第一键槽;第一键槽内设置一平键;平键嵌入到第一键槽和同步轮上开设的第二键槽组成的凹槽中;同步轮的下方设置一定位套环;在定位套环的下方设置一主轴高度调节机构;通过在主轴上设置一主轴高度调节机构,进行在磁路结构的远、近状态下的调节,在不影响小弧源磁路结构的转动的状况下,形成小弧源磁路结构高低调节,克服了单一的固定式的磁路结构无法调节磁路的远、近方向的技术问题,满足了镀膜产品对于磁路结构的要求。

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