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公开(公告)号：CN116466547A
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202310304049.5
申请日：2023-03-21
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤传输的超分辨直写式光刻系统，包括激光模块，抑制模块，合束模块，样品台以及位移台；所述激光模块，用于产生多路并行的圆形实心直写光束；所述抑制路模块，用于产生多路并行的环形光束；所述合束模块，用于将每一路中圆形实心直写光束和环形光束的光斑中心重合，获得刻写光束；所述样品台布置在位移台上，用于固定待刻写的样品；所述位移台，根据预设移动路线，在刻写过程中带动样品台上的样品做水平位移；所述刻写光束聚焦到样品上，引发光刻胶聚合反应生成刻写图案。本发明还提供了一种超分辨直写式光刻方法。本发明提供的系统可以有效提高刻写过程的刻写效率和刻写分辨率。
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公开(公告)号：CN116300332A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310136507.9
申请日：2023-02-20
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种高通量光纤点阵成像直写系统，包括：光源、光纤调制器、光纤阵、准直镜、管镜一、管镜二、直写物镜、高精度位移台、控制单元；光源、光纤阵、准直镜、管镜一、管镜二、直写物镜依次同光轴布置，光纤阵中每一根单模光纤均配有光纤调制器；准直镜的后焦面和管镜一的前焦面重合，管镜一的准直端朝向准直镜，管镜二的准直端朝向直写物镜，管镜一和管镜二的成像面重合，管镜二的前焦面和直写物镜的入瞳重合，直写物镜的焦面与高精度位移台的上表面重合；控制单元用于控制光纤调制器和高精度位移台，实现设定图案的直写。本发明的结构简单、直写效率高、能直写任意图形。
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公开(公告)号：CN115996515A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202310277812.X
申请日：2023-03-21
Abstract: 本申请涉及一种电路板和转接器。电路板包括基板、接口组和连接器。基板包括堆叠设置的布线层、第一接地层和第二接地层；所述布线层包括上布线层和下布线层；所述第一接地层和所述第二接地层设置于所述上布线层和所述下布线层之间；所述第一接地层靠近所述上布线层设置；所述第二接地层靠近所述下布线层设置；所述第一接地层与所述第二接地层共用接地端；接口组设置于所述上布线层，用于与输入设备和输出设备连接；所述接口组包括多个与所述布线层电连接的信号接口；连接器设置于所述下布线层，用于与处理器连接；所述连接器与所述布线层电连接；所述信号接口通过所述布线层与所述连接器电连接。
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公开(公告)号：CN115808855A
公开(公告)日：2023-03-17
申请号：CN202310082103.6
申请日：2023-02-08
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于特种光纤的边缘抑制并行激光直写装置和方法，包括抑制光路、激发光路和光路单元；所述激发光路和抑制光路通过光路单元中的二向色镜合束形成激发‑抑制组合光斑，通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合，同时引入抑制光束阻止激发光的焦斑边缘位置的光刻胶聚合，从而使得直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制，刻写精度达到亚50nm精度级别。本发明提供一种使用特种光纤直接产生涡旋光方案替代空间光调制单元，可以极大简化系统结构和降低系统成本；同时提供一种通过多通道分光单元和光纤阵列组件产生光纤阵列并行直写方案，可以极大的提升系统刻写速度。
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公开(公告)号：CN114486892A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210063094.1
申请日：2022-01-20
Abstract: 本发明公开了一种基于声光偏转扫描的结构光照明显微成像装置及方法，该装置将激发光通过偏振分光器分成两个对称的光路，每个光路各过一个声光偏转模块进行光束的扫描，两光束再通过合束器进行合束，在样品面上进行干涉产生照明条纹。每个光路中的声光偏转模块由两个互相垂直放置的两个声光偏转器以及两个透镜所构成的4f系统组成，通过控制加载在两个声光偏转模块中的各自的两个声光偏转器的载波频率，可以改变每个声光偏转器对光束的在xy平面上的扫描位置，进而得到不同方向的干涉条纹。利用声光偏转器对光束进行扫描，相比于振镜扫描可以获得更快的扫描速度；此外，相对于振镜，声光偏转器具有更高的扫描稳定性，可以实现更稳定的照明条纹。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116540504B
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202310807886.X
申请日：2023-07-04
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于连续谱光源的可变波长超分辨激光直写光刻系统，属于超精密光学成像与刻写技术领域，包括光源与刻写模块，其中光源为连续谱光源；光源与刻写模块之间还设有用于形成多个分光路的分光模块、设于相应分光路上的光束调节组件，以及用于将多个分光路汇合为刻写光束组合的合束模块；光束调节组件包括滤波模块，和能量调节模块或波相差调节模块中的一种或串联设置的两种组合。与现有技术相比，本发明提供一种多路单独滤波及调制的光源调制光路，可同时实现多通道不同波长的光束调制，多光束可互相配合，通过不同轴汇合或同轴重合方式，实现多通道超分辨光刻或基于边缘抑制的超分辨光刻。
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公开(公告)号：CN114442257B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202210087665.5
申请日：2022-01-25
Abstract: 本发明公开了一种大范围高精度光束焦面跟踪装置，入射光束首先依次经过所述二分之一波片、偏振分束镜和四分之一波片，形成第一光束；第一光束经过所述物镜聚焦在样品表面，而聚焦在样品表面的激光被样品表面反射，依次经过物镜与四分之一波片后，被偏振分束镜反射到另一侧，形成第二光束；第二光束经过非偏振分束镜分解为第三光束与第四光束；第三光束经过所述第一柱面镜和第二柱面镜后，入射到所述四象限探测器的探测面上；第四光束经过所述透镜和针孔后，入射到所述光电倍增管探测器的探测面上。本发明与现有焦面跟踪装置相比，既可以保证高精度，又极大的扩展了焦面跟踪的范围。
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公开(公告)号：CN117055302A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311111879.2
申请日：2023-08-31
Abstract: 本发明涉及一种激光直写装置及激光直写方法，包括线光输出单元、第一反射镜、转动单元和调制面，所述线光输出单元对所述第一反射镜入射线形光，所述第一反射镜将线形光反射至所述调制面上，所述第一反射镜通过所述转动单元相对所述线光输出单元和所述调制面转动设置。本发明采用线形光对光刻胶进行直写，仅需要第一反射镜依靠转动单元在单个平面内转动即可，既不需要平移，也不需要在其他平面内转动，第一反射镜所需活动自由度明显下降，对应的线形光在调制面上仅需要在一个维度上进行移动扫描即可，降低了直写过程所需自由度，简化了直写过程，直写效率较高。同时扫描过程的简化也使激光直写装置获得了简化，有利于整个激光直写装置的小型化。
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公开(公告)号：CN115996515B
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202310277812.X
申请日：2023-03-21
Abstract: 本申请涉及一种电路板和转接器。电路板包括基板、接口组和连接器。基板包括堆叠设置的布线层、第一接地层和第二接地层；所述布线层包括上布线层和下布线层；所述第一接地层和所述第二接地层设置于所述上布线层和所述下布线层之间；所述第一接地层靠近所述上布线层设置；所述第二接地层靠近所述下布线层设置；所述第一接地层与所述第二接地层共用接地端；接口组设置于所述上布线层，用于与输入设备和输出设备连接；所述接口组包括多个与所述布线层电连接的信号接口；连接器设置于所述下布线层，用于与处理器连接；所述连接器与所述布线层电连接；所述信号接口通过所述布线层与所述连接器电连接。
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公开(公告)号：CN114721233B
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202210643609.5
申请日：2022-06-09
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤器件的光场生成装置及单波长超分辨光刻系统，将单一飞秒光源输出光分为两路，其中一路通过元器件的色散将激光脉冲宽度展宽至皮秒量级，另一路通过引入色散补偿模块使激光脉冲宽度保持在飞秒量级。通过光纤模式选择耦合器的调制，将飞秒脉冲激光调制为高斯型激发光，并将皮秒脉冲激光调制为环形抑制光。通过输出的组合光斑和光刻胶的特性，使光刻的最小特征尺寸缩减到衍射极限以下。由于采用同一波长不同脉冲宽度的激光作为激发光和抑制光，避免了由于系统中元器件色差引起的光斑不重合等问题。本发明通过配合光刻胶特性实现突破衍射极限的高精度刻写，整个系统结构简单，抗外界干扰能力强。
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