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公开(公告)号：CN114371568A
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN202210055535.3
申请日：2022-01-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/1339
摘要： 本申请提供了一种显示面板及显示装置，该显示面板通过在所述第一基板的非显示区和所述第二基板的非显示区之间设置多个辅支撑柱；其中，所述第二基板靠近所述第一基板的一侧上设置有与所述辅支撑柱相对应的限位结构，所述限位结构靠近所述第一基板的一端为开口；所述辅支撑柱的一端与所述第一基板连接，所述辅支撑柱的另一端通过所述开口延伸至所述限位结构内部，形成榫‑卯结构。通过所述辅支撑柱与所述限位结构之间相互契合，实现了第一基板与第二基板之间的机械对合，大大降低了对位贴合工艺中对位难度，还可以消除真空对合设备带来的对位偏差，提升产品的显示效果，提升产品竞争力。
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公开(公告)号：CN110289367B
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN201910547593.6
申请日：2019-06-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了封装膜层、显示面板及制作方法。该封装膜层包括：封装基板；亲水膜层，亲水膜层设置在封装基板的一侧；疏水膜层，疏水膜层设置在封装基板远离亲水膜层的一侧，亲水膜层和疏水膜层均包括微介孔材料，疏水膜层的微介孔材料远离封装基板一侧的表面具有低表面能物质。亲水膜层可以很好的吸附封装膜层内部残留或产生的水氧，起到很好的干燥作用，疏水膜层可以很好的隔绝外部的水氧，由此，使得该封装膜层具有良好的隔绝水氧的作用，提升应用该封装膜层的有机发光显示面板的使用寿命以及显示品质。
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公开(公告)号：CN114415476B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202210056141.X
申请日：2022-01-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本公开涉及半导体技术领域，公开了一种标准片及其制备方法、机差校准方法；该标准片包括基板、第一图案层以及第二图案层；基板具有相对设置的第一面和第二面；第一图案层设于基板的第一面；第二图案层设于基板的第二面，第一图案层在基板上的正投影与第二图案层在基板上的正投影重合。在将标准片进行正面测试时，第一图案层位于测试侧，对第一图案层进行测试；在将标准片进行翻转测试时，第二图案层位于测试侧，对第二图案层进行测试；因此，可以避免光线的散射对TP测试设备校准造成的影响。
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公开(公告)号：CN114371568B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202210055535.3
申请日：2022-01-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/1339
摘要： 本申请提供了一种显示面板及显示装置，该显示面板通过在所述第一基板的非显示区和所述第二基板的非显示区之间设置多个辅支撑柱；其中，所述第二基板靠近所述第一基板的一侧上设置有与所述辅支撑柱相对应的限位结构，所述限位结构靠近所述第一基板的一端为开口；所述辅支撑柱的一端与所述第一基板连接，所述辅支撑柱的另一端通过所述开口延伸至所述限位结构内部，形成榫‑卯结构。通过所述辅支撑柱与所述限位结构之间相互契合，实现了第一基板与第二基板之间的机械对合，大大降低了对位贴合工艺中对位难度，还可以消除真空对合设备带来的对位偏差，提升产品的显示效果，提升产品竞争力。
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公开(公告)号：CN109295422A
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201811326464.6
申请日：2018-11-08
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 本发明涉及一种蒸镀装置和蒸镀方法，所述蒸镀装置包括容器、蒸镀基台、蒸镀材料收容器和抽取设备。所述容器具有容纳腔，所述容器的壁上设有开孔。所述蒸镀基台设置在所述容纳腔内。所述蒸镀材料收容器具有用于收容蒸镀材料的收容空间，所述收容空间与所述容纳腔连通，所述蒸镀材料收容器用于加热蒸镀材料使蒸镀材料气化，以使气态蒸镀材料进入所述容纳腔并沉积在所述蒸镀基台上。所述抽取设备的入口通过所述开孔与所述容纳腔连通，出口与所述收容空间连通，所述抽取设备用于抽取所述容纳腔内未沉积的蒸镀材料并输送至所述收容空间内。根据本发明的实施例，可以减轻因蒸镀材料的减小导致蒸镀材料蒸发速率降低的程度。
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公开(公告)号：CN107677953A
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201710914949.6
申请日：2017-09-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G01R31/28
摘要： 本发明实施例提供一种探针系统及其控制方法、点灯机，涉及显示技术领域，能够自动对每一个探针单元进行位置调整，以与待测试面板上的屏幕电极位置相对应，解决现有技术中人工对探针进行对位操作耗时较长且对位准确性较差的问题。包括：探针，探针在其所在的平面内以垂直于其长度方向排列设置有多个，其中，至少一个探针组成探针单元。感光元件，设置在探针单元上，感光元件朝向待测试面板的方向发射光信号并接收由待测试面板反射的光信号。控制模块，连接感光元件，用于根据感光元件接收的光信号的强度发出控制信号。驱动件，驱动件与控制模块相连接，用于根据控制模块发出的控制信号驱动探针单元移动。
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公开(公告)号：CN207764523U
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201820011162.9
申请日：2018-01-03
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1337 , G02F1/13
摘要： 本实用新型公开了一种摩擦设备，属于显示装置生产技术领域。摩擦设备包括用于承载待取向基板的载台以及用于对基板进行摩擦取向的第一摩擦辊，还包括用于消除基板上摩擦静电的静电消除装置。本实用新型实施例提出的摩擦设备，通过静电消除装置大大减少了基板表面的摩擦静电荷，避免了摩擦静电对基板的损伤，提高了基板良率和使用寿命。而且，本实用新型实施例提出的摩擦设备与离子风机式摩擦设备相比，不仅可以解决同工艺条件下电量不同的问题，而且在消除静电的同时不会产生额外电荷，静电防护更加高效，同时更节能、更环保。
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公开(公告)号：CN216870980U
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202123347605.2
申请日：2021-12-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1337
摘要： 本申请实施例提供了一种配向膜涂布系统。该配向膜涂布系统包括：检测装置、涂布装置和控制装置；检测装置用于检测待涂布的基板的表面平整度并得到第一检测值；涂布装置用于向已完成检测的基板涂布配向膜材料；控制装置分别与检测装置、涂布装置通信连接，用于根据第一检测值调整涂布装置向基板涂布配向膜材料的涂布量，以使配向膜材料均匀涂覆于基板。本申请实施例实现了检测装置与涂布装置建立一种检测‑涂布的联动关系，可以检测并获取基板的平整度数据并对涂布装置向每一块基板涂布配向膜的涂布量进行实时调整，从而确保配向膜的膜面扩散均一性，消除单批次内或批次间的基板的平整度差异性的影响，从而提升工厂产能和效率，优化产品品质。
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公开(公告)号：CN208689334U
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201821664765.5
申请日：2018-10-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1345 , G02F1/133
摘要： 本实用新型公开了一种柔性电路板及显示装置，柔性电路板包括绑定区和非绑定区，绑定区包括柔性基底，在柔性基底上设置有刚性层，在刚性层背离柔性基底的一面设置有多个柔性绝缘块；还包括多个金属块，每一个金属块与一个柔性绝缘块一一对应，金属块位于柔性绝缘块背离刚性层的一面、且与刚性层通过柔性绝缘块相绝缘，保证柔性电路板能够用于连接LCD显示屏与印刷电路板，而刚性层的存在不影响柔性电路板可挠变性；刚性层升温过程中几乎无膨胀，抑制了柔性基底形变产生，金属块与柔性基底并不直接接触，规避了因柔性基底膨胀产生的金属块的位置偏移，柔性绝缘块将整体膨胀量碎片化，减小单个金属块的偏移，即减少柔性电路板的引脚的位置偏移。
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