电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备

    公开(公告)号:CN101379439A

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:CN200780004085.9

    申请日:2007-01-30

    Abstract: 提供抑制构件表面引起不良图像的尺寸的擦伤,而不依靠提高机械强度并能够长时间形成良好图像的电子照相感光构件,以及具有该感光构件的处理盒和电子照相设备。在具有支承体和感光层的电子照相感光构件中,该感光构件具有包含多个彼此独立的凹陷部的表面,凹陷部各自具有0.1μm以上至10μm以下的长轴径Rpc和0.1μm以上至10μm以下的短轴径Lpc以及0.1μm以上至10μm以下的各凹陷部的最深部分与其开口之间的距离Rdv;和,其中将所述表面沿感光构件旋转方向等分为4个区域,然后沿与该感光构件旋转方向垂直方向等分为25个区域,从而得到总计100-点区域A,和在其每一点区域,设置每边为50μm的正方形区域B,其一边平行于该旋转方向,并将区域B各自通过499条平行于感光构件旋转方向的直线等分为500个区域,在这些线中的400条线至499条线穿过该各区域B中的凹陷部。

    电摄影感光体、成像处理盒及电摄影装置

    公开(公告)号:CN100445877C

    公开(公告)日:2008-12-24

    申请号:CN03813868.9

    申请日:2003-06-26

    Abstract: 本发明提供一种电摄影感光体,所述电摄影感光体无需增强转印电流就能够长期维持高转印效率,得到良好的图像,特别是即使将其用于彩色电摄影装置,也可以无需增强转印电流就能够长期维持高转印效率,得到良好的图像。另外,还提供一种含有所述电摄影感光体的成像处理盒及电摄影装置。所述电摄影感光体在支撑体上具有感光层,其特征为,该电摄影感光体的表面层中含有二有机聚硅氧烷,该二有机聚硅氧烷包含特定的重复结构单元α及β,重均分子量为1000~1000000,该二有机聚硅氧烷在该表面层中的含量相对于该表面层总质量为0.01~20质量%(其中,该表面层含有含氟原子树脂粒子的情况除外)。

    电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备

    公开(公告)号:CN101379439B

    公开(公告)日:2011-08-10

    申请号:CN200780004085.9

    申请日:2007-01-30

    Abstract: 提供抑制构件表面引起不良图像的尺寸的擦伤,而不依靠提高机械强度并能够长时间形成良好图像的电子照相感光构件,以及具有该感光构件的处理盒和电子照相设备。在具有支承体和感光层的电子照相感光构件中,该感光构件具有包含多个彼此独立的凹陷部的表面,凹陷部各自具有0.1μm以上至10μm以下的长轴径Rpc和0.1μm以上至10μm以下的短轴径Lpc以及0.1μm以上至10μm以下的各凹陷部的最深部分与其开口之间的距离Rdv;和,其中将所述表面沿感光构件旋转方向等分为4个区域,然后沿与该感光构件旋转方向垂直方向等分为25个区域,从而得到总计100-点区域A,和在其每一点区域,设置每边为50μm的正方形区域B,其一边平行于该旋转方向,并将区域B各自通过499条平行于感光构件旋转方向的直线等分为500个区域,在这些线中的400条线至499条线穿过该各区域B中的凹陷部。

    电子照相感光构件、处理盒及电子照相设备

    公开(公告)号:CN101646979A

    公开(公告)日:2010-02-10

    申请号:CN200880010322.7

    申请日:2008-03-27

    Abstract: 本发明提供电子照相感光构件,和包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备,所述电子照相感光构件能够保持所述感光构件表面的高水平平滑性,并且在长期耐久期间能够改进清洁性能,以及能够抑制刮板震动和翘起的发生,能够实现良好的图像再现性。所述电子照相感光构件包括在支承体上设置的感光层。所述感光构件表面层包含含硅化合物或含氟化合物。所述电子照相感光构件中表面层的表面具有多个独立的凹陷部。所述凹陷部满足以下要求:Rdv为不小于0.1μm至不大于10.0μm,Rdv与Rpc的比,即,Rdv/Rpc为大于0.3至不大于7.0,其中Rpc表示所述凹陷部的长轴径;Rdv表示深度,所述深度表示在凹陷部中最深部与其开口表面之间的距离。

Patent Agency Ranking