公开(公告)号：CN107935899B

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201710945782.X

申请日：2017-10-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  藤原敬之 ,  谷口良辅 ,  本田和也 ,  铃木贵大

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法。本发明提供具有式(1)的锍化合物，其中R1、R2和R3是可含有杂原子的C1‑C20一价烃基，p＝0‑5，q＝0‑5，并且r＝0‑4。通过光刻处理包含该锍化合物的抗蚀剂组合物，以形成具有改进的LWR和图案塌陷性的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN107935899A

公开(公告)日：2018-04-20

申请号：CN201710945782.X

申请日：2017-10-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  藤原敬之 ,  谷口良辅 ,  本田和也 ,  铃木贵大

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法。本发明提供具有式(1)的锍化合物，其中R1、R2和R3是可含有杂原子的C1-C20一价烃基，p＝0-5，q＝0-5，并且r＝0-4。通过光刻处理包含该锍化合物的抗蚀剂组合物，以形成具有改进的LWR和图案塌陷性的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN107365266A

公开(公告)日：2017-11-21

申请号：CN201710327721.7

申请日：2017-05-11

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  谷口良辅

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明为新型锍化合物及其制造方法、抗蚀剂组合物、以及图案形成方法。提供在远紫外线光刻和EUV光刻中给予析像性、LWR、MEF和CDU优异的抗蚀剂膜的抗蚀剂组合物、其中使用的锍化合物、和使用了该抗蚀剂组合物的图案形成方法。由下述式(1)表示的锍化合物。(式中，R1、R2和R3各自独立地表示可含有杂原子的碳数1～20的直链状、分支状或环状的1价烃基。p和q各自独立地表示0～5的整数。r表示0～4的整数)。