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公开(公告)号：CN103890657A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201280051359.0
申请日：2012-10-19
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种作为曝光大尺寸区域的大型光掩模且适合形成微细图案的构成的相移掩模及其制造方法。藉由构成为遮光膜以铬或铬化合物为主成分，相移膜以氧化铬乃至氮氧化铬为主成分，且在上述遮光区域中在遮光膜上层叠有相移膜，而获得容易制造且可转印微细图案的大型相移掩模。另外，在遮光膜与相移膜之间，构成为还具有包含铬化合物的抗反射膜，抑制遮光区域的反射率。
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公开(公告)号：CN115308949A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202211083759.1
申请日：2017-12-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1339 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种取向层与珠状间隔物的固定力较强的调光构件及调光构件的制造方法。本发明的调光构件(1)的特征在于，包括：第1层叠体(12)，其包含基材(21A)及取向层(23A)；第2层叠体(13)，其包含基材(21B)及取向层(23B)，并相对于上述第1层叠体(12)而被配置为使彼此的取向层相对；液晶层(14)，其被配置在上述第1层叠体(12)与上述第2层叠体(13)之间，且取向通过被设置于上述第1层叠体(12)及上述第2层叠体(13)中的至少一者的电极的驱动来控制；以及多个珠状间隔物(24)，其被配置在上述液晶层内；在上述第1层叠体(12)的取向层(23A)及上述第2层叠体(13)的取向层(23B)中的至少一者的取向层，形成有向上述液晶层(14)侧凸出的多个凸部(30)，上述珠状间隔物(24)的至少一部分被保持于上述凸部(30)。
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公开(公告)号：CN110083008A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201910135819.1
申请日：2012-10-19
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种作为曝光大尺寸区域的大型光掩模且适合形成微细图案的构成的相移掩模及其制造方法。藉由构成为遮光膜以铬或铬化合物为主成分，相移膜以氧化铬乃至氮氧化铬为主成分，且在上述遮光区域中在遮光膜上层叠有相移膜，而获得容易制造且可转印微细图案的大型相移掩模。另外，在遮光膜与相移膜之间，构成为还具有包含铬化合物的抗反射膜，抑制遮光区域的反射率。
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公开(公告)号：CN109298594A
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201811229615.6
申请日：2013-09-19
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。通过对再生玻璃基板的表面未进行以往的物理性研磨处理而进行使润湿性均匀化直至在呼气像检查中不出现原本图案痕迹的处理，能够以低成本获得缺陷少的再生玻璃基板。
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公开(公告)号：CN103998985A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201280062178.8
申请日：2012-12-21
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G03F1/32
Abstract: 本发明提供一种在用于液晶面板或EL面板的制造的大型光掩膜中，适合形成微细图案的半透明相移掩膜的结构、及其制造方法。进而，提供一种抑制在利用半透明相移掩膜对图案进行曝光时出现的侧峰的产生的结构。在形成在透明基板上的半透明相移区域的两侧邻接地配置有透过区域的图案中，藉由将半透明相移区域的光透光率设为4％至30％的范围，将宽度设为1μm至5μm的范围，而实现改善曝光强度分布的对比度、同时抑制侧峰产生的结构。
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