公开(公告)号：CN104620176A

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201380047359.8

申请日：2013-09-19

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 木下一树 ,  二岛悟 ,  青木阳祐 ,  板仓敬二郎

IPC: G03F1/68 ,  B09B5/00 ,  C03C15/00 ,  C03C17/22 ,  G03F1/60 ,  G03F1/72

CPC classification number: B09B5/00 ,  C03C15/00 ,  C03C2218/33 ,  G03F1/60 ,  G03F1/68 ,  G03F1/72

Abstract: 本发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。通过对再生玻璃基板的表面未进行以往的物理性研磨处理而进行使润湿性均匀化直至在呼气像检查中不出现原本图案痕迹的处理，能够以低成本获得缺陷少的再生玻璃基板。

公开(公告)号：CN109298594A

公开(公告)日：2019-02-01

申请号：CN201811229615.6

申请日：2013-09-19

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 木下一树 ,  二岛悟 ,  青木阳祐 ,  板仓敬二郎

IPC: G03F1/60 ,  B09B5/00 ,  C03C15/00

Abstract: 本发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。通过对再生玻璃基板的表面未进行以往的物理性研磨处理而进行使润湿性均匀化直至在呼气像检查中不出现原本图案痕迹的处理，能够以低成本获得缺陷少的再生玻璃基板。

公开(公告)号：CN104620176B

公开(公告)日：2019-02-26

申请号：CN201380047359.8

申请日：2013-09-19

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 木下一树 ,  二岛悟 ,  青木阳祐 ,  板仓敬二郎

IPC: G03F1/68 ,  B09B5/00 ,  C03C15/00 ,  C03C17/22 ,  G03F1/60 ,  G03F1/72

Abstract: 本发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。通过对再生玻璃基板的表面未进行以往的物理性研磨处理而进行使润湿性均匀化直至在呼气像检查中不出现原本图案痕迹的处理，能够以低成本获得缺陷少的再生玻璃基板。

公开(公告)号：CN109298594B

公开(公告)日：2021-12-24

申请号：CN201811229615.6

申请日：2013-09-19

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 木下一树 ,  二岛悟 ,  青木阳祐 ,  板仓敬二郎

IPC: G03F1/60 ,  B09B5/00 ,  C03C15/00

Abstract: 本发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。通过对再生玻璃基板的表面未进行以往的物理性研磨处理而进行使润湿性均匀化直至在呼气像检查中不出现原本图案痕迹的处理，能够以低成本获得缺陷少的再生玻璃基板。