氮化铝陶瓷基片自动磨洗设备

    公开(公告)号:CN220863571U

    公开(公告)日:2024-04-30

    申请号:CN202322419986.3

    申请日:2023-09-06

    Abstract: 本申请涉及氮化铝陶瓷基片自动磨洗设备,设备主体开设有第一滑槽和第二滑槽,第一辊刷件与第一滑槽滑动配合,第四驱动气缸设于设备主体上,第四驱动气缸与第一辊刷件相连,第二辊刷件与第二滑槽滑动配合,第五驱动气缸设于设备主体上,第五驱动气缸与第二辊刷件相连,清洗组件设于设备主体上,第一限位门设于第一驱动气缸,第二限位门设于第二驱动气缸;在设备主体驱动氮化铝陶瓷基片移动至第一位置时,清洗组件开启,第四驱动气缸驱动第一辊刷件往复移动,第五驱动气缸驱动第二辊刷件往复移动。上述方案能够解决陶瓷基板在清洗后会附有杂质,杂质会影响激光对氮化铝陶瓷基板划线的槽深精度的把控,从而导致划线效果不佳。

    一种氮化铝合成炉用反应舟及氮化铝合成炉

    公开(公告)号:CN217947683U

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN202221667444.7

    申请日:2022-06-29

    Abstract: 本申请涉及一种氮化铝合成炉用反应舟及氮化铝合成炉,包括壳体和进气部,壳体底部中心位置处开设有进气口,进气部具有进气通道,进气通道的一端为开口端,另一端为密封封闭端,进气部的侧壁开设有多个进气孔,开口端与进气口连接且连通,且进气部位于壳体内,进气部与壳体之间形成容料空间,容料空间与进气通道通过进气孔连通。上述方案通过改变反应舟的结构,保证碳热还原反应过程中氮气与氮化铝前驱体颗粒的接触面积大、且接触充分,从而能够减少氮气的使用量以及缩短反应时间,以降低氮化铝合成炉的功耗,氮气使用量较现有技术下降40%,设备功耗下降20%,进而使得通过氮化铝合成炉合成氮化铝粉体的经济性好。

    氮化铝陶瓷基片辊刷清洗装置

    公开(公告)号:CN220837120U

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202322419970.2

    申请日:2023-09-06

    Abstract: 本申请涉及氮化铝陶瓷基片辊刷清洗装置,辊刷件与滑槽滑动配合,第四驱动气缸设于设备主体上,第四驱动气缸与辊刷件相连,清洗组件设于设备主体上,第一驱动气缸和第二驱动气缸设于设备主体上,第一限位门和烘干器设于第一驱动气缸相背的两侧,第二限位门与第二驱动气缸相连;在氮化铝陶瓷基片移动至第一位置时,第一驱动气缸驱动第一限位门移动至与氮化铝陶瓷基片限位配合,第四驱动气缸驱动辊刷件往复移动;在氮化铝陶瓷基片移动至第二位置时,烘干器随第一限位门移动而邻近氮化铝陶瓷基片,烘干器开启。上述方案能够解决陶瓷基板在清洗后会附有杂质,杂质会影响激光对氮化铝陶瓷基板划线的槽深精度的把控,从而导致划线效果不佳。

    一种防偏移的流延膜带清洁装置

    公开(公告)号:CN217569810U

    公开(公告)日:2022-10-14

    申请号:CN202221085146.7

    申请日:2022-05-06

    Inventor: 袁振侠 蒋敏 王潇

    Abstract: 本申请涉及一种防偏移的流延膜带清洁装置,基架的一端侧设置有放带辊,另一端侧设置有收带装置,收带装置包括基座、托架和收带辊,基座与基架均固定设置于地面,基座具有驱动齿轮,托架具有齿条,驱动齿轮与齿条配合,且驱动齿轮通过齿条驱动托架移动,收带辊设置于托架,自放带辊向着收带辊的方向上,且放带辊与收带辊之间依次设置有第一张紧模组、第一清洁装置、偏移检测装置和第二张紧模组,且均位于基架上,偏移检测装置通过控制装置与驱动齿轮电连接。上述方案能够在完成流延膜带清洁的同时,防止出现流延膜带在收卷时左右移动及单向偏离的跑偏现象,解决清洁后的流延膜带在收卷时容易偏移的问题。

    一种氮化铝陶瓷烧结炉上下料专用机构

    公开(公告)号:CN217478384U

    公开(公告)日:2022-09-23

    申请号:CN202220813627.9

    申请日:2022-04-08

    Abstract: 本申请涉及一种氮化铝陶瓷烧结炉上下料专用机构,上下料专用机构用于将料盒推入或拉出氮化铝陶瓷烧结炉,氮化铝陶瓷烧结炉固定设置在基座上,本体部位于基座上,本体部的侧面设置有至少两个第一定位部,基座设置有至少两个第二定位部,第一定位部与第二定位部能够定位配合;托架的一端设置于本体部,托架设置有驱动料盒移动的输送部,输送部设置有与料盒定位配合的定位凸起,在第二方向上,料盒与凸起定位配合,第二方向垂直于料盒的移动方向。上述方案能够使得烧结炉在上下料的过程中上下料专用机构与烧结炉的定位准确,从而使得上下料专用机构能够便捷快速地与烧结炉的炉口对准,以使料盒能够准确地放置到烧结座上。

    氮化铝粉体合成用连续炉
    16.
    实用新型

    公开(公告)号:CN222181823U

    公开(公告)日:2024-12-17

    申请号:CN202420240444.1

    申请日:2024-01-31

    Abstract: 一种氮化铝粉体合成用连续炉包括缓冲段、升温段、反应段、冷却段,所述缓冲段的出料端与升温段的进料端相邻,升温段的出料端与反应段的进料端相邻,反应段的出料端与冷却段的进料端相邻,所述缓冲段设有第一氮气进口、第一氮气出口,所述第一氮气进口设置在靠近进料口的密封阀的一侧,第一氮气出口设置在靠近升温段的一侧;所述冷却段设有第二氮气进口、第二氮气出口,所述第二氮气进口设置在靠近出料口的密封阀的一侧,第二氮气出口设置在靠近反应段的一侧;所述升温段靠近缓冲段的一侧设有混合气出口,氮气和一氧化碳的混合气体从混合气出口排出。

    氮化铝陶瓷基片自动化划线设备

    公开(公告)号:CN220805916U

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202322209051.2

    申请日:2023-08-16

    Abstract: 本申请涉及氮化铝陶瓷基片自动化划线设备,设备主体开设有内腔,两个储料机构一者、上料机构和两个储料机构另一者依次设于内腔中,上料储料机构包括第一支架、抬升板、圆柱齿条和第一驱动电机,第一驱动电机设于第一支架上,圆柱齿条的一端与第一驱动电机的驱动端啮合配合,圆柱齿条的另一端与抬升板相连,第一支架的周缘均布设置有四个限位柱,且形成承载空间,第一对射传感器组设于两个第一支架一者上,第二对射传感器组设于两个第一支架另一者上。上述方案能够解决相关技术中人工上下料导致加工效率较低,工作人员在取出加工后的氮化铝陶瓷基板不可避免地呼吸到浮粉,上述过程不仅导致氮化铝陶瓷基板的加工效率低的问题。

    一种生瓷带料渣清理装置
    18.
    实用新型

    公开(公告)号:CN217573384U

    公开(公告)日:2022-10-14

    申请号:CN202220813470.X

    申请日:2022-04-07

    Abstract: 本申请涉及一种生瓷带料渣清理装置,支撑架架设在流延机上,生瓷带在流延机上的移动方向为第一方向,在第一方向上,冷风装置、静电消除条和高压气吹装置依次设置于支撑架,抽吸罩设置于支撑架,且罩设高压气吹装置,抽吸罩开口和冷风装置的出风口均与生瓷带相对设置,在第一方向上,抽吸罩开口的第一侧与高压气吹装置的出风口之间的距离为15cm至35cm,抽吸罩背离生瓷带的一侧开设有抽吸口,风机与抽吸口相连,高压气吹装置的吹气方向为第二方向,第一方向与第二方向的向量夹角值为钝角。上述方案能够有效清除粘附在生瓷带及其切割边沿上的料渣及灰尘,避免料渣及灰尘影响生瓷带的品质,提高生瓷带的品质,进而提高生瓷带的成品率。

    氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备

    公开(公告)号:CN220836781U

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202322389328.4

    申请日:2023-09-01

    Abstract: 本申请涉及氮化铝陶瓷基片辊刷清洗设备,辊刷件与设备主体滚动相连,清洗组件设于设备主体上,清洗组件和辊刷件依次设置,第一驱动气缸和第二驱动气缸依次设于设备主体上,第一限位门和烘干器设于第一驱动气缸的驱动端相背的两侧,第二限位门与第二驱动气缸相连,在设备主体驱动氮化铝陶瓷基片移动至第一位置时,清洗组件开启,辊刷件转动;在设备主体驱动氮化铝陶瓷基片移动至第二位置时,第二驱动气缸驱动第二限位门移动至与氮化铝陶瓷基片限位配合,第一驱动气缸驱动第一限位门移动,烘干器开启。上述方案能够解决陶瓷基板在清洗后会附有杂质,而在划线过程中,杂质会影响激光对氮化铝陶瓷基板划线的槽深精度的把控,从而导致划线效果不佳。

    连续式ALN划线片清洗设备
    20.
    实用新型

    公开(公告)号:CN220635588U

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202322282240.2

    申请日:2023-08-23

    Abstract: 本申请涉及连续式ALN划线片清洗设备,基座开设有第一内腔,第一清洗箱为两个,两个第一清洗箱中一者和另一者、第二清洗箱、第三清洗箱和吹扫机构依次设于基座上、且均位于第一内腔中,抓取机构可移动地设于第一内腔中,上料机构与两个第一清洗箱中一者相对设置,下料机构与吹扫机构相对设置,基座依次设置有多个超声振荡器,多个超声振荡器与两个第一清洗箱中、第二清洗箱和第三清洗箱一一对应。能够解决相关操作中,ALN划线片表面会附着的浮粉在经历清洗时会漂浮在清洗介质上,从而导致ALN划线片从清洗介质中取出会再次附着,酸洗多次后会出现酸性减弱而导致清洗效果变差,更换酸洗清洗介质时需要停止清洗操作,从而影响清洗效率。

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