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公开(公告)号:CN117203368A
公开(公告)日:2023-12-08
申请号:CN202280030763.3
申请日:2022-03-30
Applicant: 拓自达电线株式会社
Inventor: 平野正树
IPC: C23C24/04
Abstract: 能够在基材的表面高效地形成品质稳定的膜的掩模治具(1)具备主体部(11)和掩模罩(12)。主体部(11)包括第1面(11s1)和位于与第1面(11s1)相反的一侧的第2面(11s2)。掩模罩(12)以与主体部(11)重叠的方式配置于主体部(11)的第2面(11s2)侧,包括第3面(12s1)和位于与第3面(12s1)相反的一侧的第4面(12s2)。掩模罩(12)由酰亚胺系树脂形成。
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公开(公告)号:CN108698059A
公开(公告)日:2018-10-23
申请号:CN201780014477.7
申请日:2017-03-17
Applicant: 拓自达电线株式会社
Inventor: 平野正树
CPC classification number: B05B7/20 , B05B7/1486 , B05B7/1626 , C23C4/12 , C23C24/04
Abstract: 实现易于在狭小区域成膜的、喷雾器喷嘴、成膜装置、及成膜方法。喷雾器喷嘴1具备:载气的通道沿着该载气的流向而缩小的气体入口部(2)、载气的通道沿着该载气的流向而扩大的通路扩大部(3)、形成有将所述载气的通道与外部空间连通的一个或多个开口(4a)的开口形成部(4)、以及、所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小的气体出口部(5)。
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