掩模治具、成膜方法以及成膜装置

    公开(公告)号:CN117203368A

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202280030763.3

    申请日:2022-03-30

    Inventor: 平野正树

    Abstract: 能够在基材的表面高效地形成品质稳定的膜的掩模治具(1)具备主体部(11)和掩模罩(12)。主体部(11)包括第1面(11s1)和位于与第1面(11s1)相反的一侧的第2面(11s2)。掩模罩(12)以与主体部(11)重叠的方式配置于主体部(11)的第2面(11s2)侧,包括第3面(12s1)和位于与第3面(12s1)相反的一侧的第4面(12s2)。掩模罩(12)由酰亚胺系树脂形成。

    喷雾器喷嘴、成膜装置以及成膜方法

    公开(公告)号:CN110603104A

    公开(公告)日:2019-12-20

    申请号:CN201880030617.4

    申请日:2018-02-22

    Inventor: 平野正树

    Abstract: 实现一种能容易地控制成膜区域的喷雾器喷嘴等。喷雾器喷嘴(10)具备:喷嘴主体(1,2,3);喷嘴头端部(4),其与喷嘴主体(1,2,3)的头端进行连结;至少1个轨道变更部(6),其配置于喷嘴头端部(4)中的载气通道内且使膜材料的轨道变更。

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