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公开(公告)号:CN115038812A
公开(公告)日:2022-09-09
申请号:CN202180013674.3
申请日:2021-02-26
Applicant: 拓自达电线株式会社
Inventor: 平野正树
IPC: C23C24/04
Abstract: 在固相粒子沉积装置的喷嘴运行时,也高效回收飞散的固相粒子。附件(1)由与冷喷涂装置(100)的喷嘴(130)接合的接合部(2)以及开口部(3)构成,该开口部(3)与接合部(2)结合且含有与回收部(20)连结的至少1个开口(3a、3b),该回收部回收喷嘴(130)向基板(170)喷射的、与基板(170)上的成膜无关的固相粒子(30b)。
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公开(公告)号:CN117940609A
公开(公告)日:2024-04-26
申请号:CN202280059873.2
申请日:2022-09-28
Applicant: 拓自达电线株式会社
Inventor: 平野正树
Abstract: 在喷镀法中使用的成膜装置具备:喷枪,其包括喷嘴(2b);粉末供给部,其向上述喷枪供给成为成膜原料的粉末;以及气体供给部,其向喷枪供给工作气体。喷嘴(2b)具有:不锈钢管(23),其作为喷嘴管;陶瓷管(22),其与不锈钢管(23)的供工作气体流动的上游侧连接;喷嘴支架(21),其供陶瓷管(22)嵌插。喷嘴保持架(21)包括第1部分(21A),该第1部分(21A)沿工作气体在喷嘴保持架(21)内流动的第1方向延伸。该成膜装置还具备连接粉末供给部和第1部分(21A)的配管(5)。配管(5)的与第1部分(21A)连接的部分即配管(5A)沿与第1方向交叉的第2方向延伸。
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公开(公告)号:CN116917545A
公开(公告)日:2023-10-20
申请号:CN202280018150.8
申请日:2022-03-23
Applicant: 拓自达电线株式会社
Inventor: 平野正树
IPC: C23C24/04
Abstract: 提供能够在基材的表面高效地形成品质稳定的膜的掩模治具、成膜方法以及成膜装置。掩模治具(1)是在喷镀法中使用的掩模治具(1),该掩模治具(1)具备主体部(11)。主体部(11)包括第1面(11a)和第2面(11b)。第2面(11b)位于与第1面(11a)相反的一侧。在主体部(11)形成有自第1面(11a)到达第2面(11b)的贯通孔(13)。第2面(11b)包括相对于第1面(11a)的倾斜角度(θ1、θ2)为30°以上且小于90°的倾斜面(12a、12b)。第2面(11b)中的贯通孔(13)的开口端(13a)形成于倾斜面(12a、12b)。
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公开(公告)号:CN115038812B
公开(公告)日:2024-05-28
申请号:CN202180013674.3
申请日:2021-02-26
Applicant: 拓自达电线株式会社
Inventor: 平野正树
IPC: C23C24/04
Abstract: 在固相粒子沉积装置的喷嘴运行时,也高效回收飞散的固相粒子。附件(1)由与冷喷涂装置(100)的喷嘴(130)接合的接合部(2)以及开口部(3)构成,该开口部(3)与接合部(2)结合且含有与回收部(20)连结的至少1个开口(3a、3b),该回收部回收喷嘴(130)向基板(170)喷射的、与基板(170)上的成膜无关的固相粒子(30b)。
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公开(公告)号:CN118785962A
公开(公告)日:2024-10-15
申请号:CN202380023460.3
申请日:2023-02-13
Applicant: 拓自达电线株式会社
Inventor: 平野正树
Abstract: 粉体投入用部件(1)具备第1部件(10)和第2部件(15),该第1部件(10)包括底部(11)和外框(12)。底部(11)形成有底部孔(11CV)。外框(12)自底部(11)的外周沿与底部(11)交叉的第1方向延伸。第2部件(15)以被外框(12)包围的方式安装于底部(11)。第2部件(15)包括在俯视时具有宽度的前端部(15A)。前端部(15A)具有沿第1方向延伸且形成有第1空洞(15CV)的筒形状的部分。
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