真空电弧蒸镀方法及装置
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1205353C

    公开(公告)日:2005-06-08

    申请号:CN02160651.X

    申请日:2002-11-30

    CPC classification number: H01J37/32055 C23C14/325 H01J2237/022

    Abstract: 为防止因磁过滤器的磁场作用而使得膜形成特性的降低,为使得真空电弧蒸镀均匀,本发明中提供多个磁铁,该磁铁包括最靠近管的另一端的等离子体喷射孔的端磁铁以及规定磁铁。最靠近管的另一端的等离子体喷射孔的端磁铁倾斜于等离子体喷射孔的等离子体喷射平面。另外,至少一个规定磁铁倾斜于等离子体喷射平面。此外,至少一个磁场产生线圈是由多个电磁线圈形成的,该电磁线圈相对于管的横截面以不同的角度倾斜。根据由磁过滤器所产生的偏转磁场的设置和控制,有选择地对一个电磁线圈通电。

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