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公开(公告)号：CN1798794A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200480015571.7
申请日：2004-06-04
Applicant: 日立化成工业株式会社 , 玛库斯德姆有限公司
Abstract: 本发明的目的是提供可以有效地去除钯的精制方法以及使用该法的电致发光材料和电致发光元件。本发明涉及一种电致发光材料的精制方法，其中用含有磷的材料对作为杂质含有钯的电致发光材料进行处理，将钯除去。
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公开(公告)号：CN102321234A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201110215046.1
申请日：2006-05-18
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: C08G61/00 , C09K11/06 , C09K2211/1416 , C09K2211/1466 , C09K2211/1475 , H01L51/0036 , H01L51/0043 , H01L51/0077 , H01L51/0085 , H01L51/5012
Abstract: 本发明以提供可缩短反应时间的共轭聚合物的制造方法为目的。本发明的共轭聚合物的制造方法，其特征为，其是通过铃木偶合制造共轭聚合物的方法，该方法使用微波照射，且一面调节温度一面断续的进行该微波照射。共轭聚合物优选为作为有机电子材料使用的聚合物，更优选为作为电致发光材料使用的聚合物。所述电致发光材料可以用于电致发光元件。
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公开(公告)号：CN102311533A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110215049.5
申请日：2006-05-18
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: C08G61/00 , C09K11/06 , C09K2211/1416 , C09K2211/1466 , C09K2211/1475 , H01L51/0036 , H01L51/0043 , H01L51/0077 , H01L51/0085 , H01L51/5012
Abstract: 本发明以提供可缩短反应时间的共轭聚合物的制造方法为目的。本发明的共轭聚合物的制造方法，其特征为，其是通过铃木偶合制造共轭聚合物的方法，该方法使用微波照射，且在聚四氟乙烯制反应容器内进行反应。共轭聚合物优选为作为有机电子材料使用的聚合物，更优选为作为电致发光材料使用的聚合物。所述电致发光材料可以用于电致发光元件。
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公开(公告)号：CN100512582C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200480038418.6
申请日：2004-12-22
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: H05B33/14 , C09K11/06 , C09K2211/1007 , C09K2211/1011 , H01L51/5012 , H01L51/5016
Abstract: 本发明涉及一种发光系统，其中，第一化学物质变为具有与第一化学物质不同的化学结构的第二化学物质并发光。优选本发明涉及第二化学物质在发光后恢复为第一化学物质的所述发光系统。由此，本发明提供廉价、安全、高效发光的基于新型发光机制的发光系统、发光方法以及发光物质。
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公开(公告)号：CN1898995A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200480038418.6
申请日：2004-12-22
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: H05B33/14 , C09K11/06 , C09K2211/1007 , C09K2211/1011 , H01L51/5012 , H01L51/5016
Abstract: 本发明涉及一种发光系统，其中，第一化学物质变为具有与第一化学物质不同的化学结构的第二化学物质并发光。优选本发明涉及第二化学物质在发光后恢复为第一化学物质的所述发光系统。由此，本发明提供廉价、安全、高效发光的基于新型发光机制的发光系统、发光方法以及发光物质。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1798795A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200480015574.0
申请日：2004-06-04
Applicant: 日立化成工业株式会社 , 玛库斯德姆有限公司
Abstract: 本发明的目的是提供可以有效地去除钯、磷的精制方法以及使用该法的电致发光材料和电致发光元件。本发明涉及一种电致发光材料的精制方法，其中用氧化剂对作为杂质含有钯或/和磷的电致发光材料进行处理之后，再用柱进行处理，将钯或/和磷除去。
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公开(公告)号：CN100516121C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200480015571.7
申请日：2004-06-04
Applicant: 日立化成工业株式会社 , 玛库斯德姆有限公司
Abstract: 本发明的目的是提供可以有效地去除钯的精制方法以及使用该法的电致发光材料和电致发光元件。本发明涉及一种电致发光材料的精制方法，其中用含有磷的材料对作为杂质含有钯的电致发光材料进行处理，将钯除去。
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公开(公告)号：CN101203538A
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200580035298.9
申请日：2005-10-14
Applicant: 日立化成工业株式会社 , 玛库斯德姆有限公司
Inventor： 森下芳伊 , 野村理行 , 津田义博 , 田井诚司 , 马太·L.·梅洛可三世 , 法夏·J.·摩塔米帝 , 王里升 , 梁永超
IPC: C08G61/10
CPC classification number: C07D249/20 , C07D209/88 , C07D409/14 , C08G61/122 , C08G61/124 , C08G61/125 , C08G61/126 , C08G73/18 , C08G73/22 , Y10S428/917
Abstract: 本发明发现包含苯并三唑重复单元及其衍生物的高量子产率的发光单体、低聚物以及聚合物，并且将它们用于光学装置及用于这些装置中的元件，包括电致发光装置、发光装置、光致发光装置、有机发光二极管(OLEDs)、OLED显示器、传感器等。
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公开(公告)号：CN1777628A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：CN200480010475.3
申请日：2004-04-16
Applicant: 日立化成工业株式会社 , 玛库斯德姆有限公司
CPC classification number: H01L51/0043 , C08G73/0688 , C09K11/06 , C09K2211/1416 , C09K2211/1466 , H01L51/0035 , H01L51/5012 , H05B33/14
Abstract: 本发明涉及一种聚喹啉共聚物，其中含有可具有取代基的喹啉单体单元和可具有取代基的苯并三唑单体单元。本发明还提供了稳定性出色的发光聚合物材料。
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公开(公告)号：CN1777627A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：CN200480010467.9
申请日：2004-04-16
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: H05B33/14 , C08G73/0688 , C09K11/06 , C09K2211/1416 , C09K2211/1466 , H01L51/0043 , H01L51/0052 , H01L51/0059 , H01L51/0061 , H01L51/0062 , H01L51/007 , H01L51/0072 , H01L51/5012 , H01L2251/308
Abstract: 一种聚喹啉共聚物，含有可以具有取代基的喹啉单体单元以及可以具有取代基的支链结构的单体单元。根据本发明可以提供稳定性出色的发光聚合物材料。
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