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公开(公告)号：CN112028120B
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN201911396525.0
申请日：2019-12-30
Applicant: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
IPC: C01G25/02 , C03C17/245
Abstract: 本发明提供了一种用于镀制光学薄膜的ZrOx及其制备方法。其主要包括以下步骤：采用ZrO2和ZrH2粉体为原料，按一定的配比混合均匀后进行压块或造粒，然后在高温真空下进行固相合成，并在真空状态下冷却至室温，生成新的化合物ZrOx。该化合物熔点低于二氧化锆，材料在蒸发过程中保持稳定的化学组成，有利于镀膜过程的工艺控制。该材料镀制的光学膜层稳定性和一致性好，在近紫外到近红外波段均有较高的透过率，膜层致密、牢固，化学性质稳定，可作为优质的高折射率材料应用于光学膜系设计和批量的镀膜生产中。
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公开(公告)号：CN113213915B
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202110407171.6
申请日：2021-04-15
Applicant: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
IPC: C23C14/30 , C04B35/46 , C04B35/622
Abstract: 本发明提供了一种低温五氧化三钛晶体镀膜材料的制备方法。该制备方法包括：采用冷等静压成型的工艺，将混合原料压制成坯体并放于坩埚中；将坩埚放入炉体中，对炉体抽真空后，开始对炉体加热；采用分段加热的方式，通过控制每段的反应温度和反应时间，制备得到预设规格的低温五氧化三钛晶体颗粒；其中，结晶的反应温度低于五氧化三钛的熔点；将从坩埚倒出的低温五氧化三钛晶体颗粒加工成低温五氧化三钛晶体镀膜材料。通过该制备方法，实现在低于五氧化三钛熔点的温度下，“一次制备”高纯度的低温五氧化三钛晶体颗粒的目的；并且，基于该晶体，一方面大大降低了晶体的取出难度，另一方面避免了镀膜过程中的喷料现象。
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公开(公告)号：CN113200566A
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN202110407120.3
申请日：2021-04-15
Applicant: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
Abstract: 本发明提供了一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用，属于光学薄膜材料领域。该高折射率光学镀膜材料为钛酸镨，化学式为Pr5Ti5O17；并且，该钛酸镨是以TiO2、Pr6O11和Ti粉体为原料，通过固相合成反应制备得到的。采用本发明提供的制备方法所制备的该钛酸镨，在蒸发过程中保持稳定的化学组成，在预熔时可形成非常平整的蒸发表面，有利于镀膜过程的工艺控制。并且，采用本发明的钛酸镨镀制的光学膜层，在近紫外到近红外波段均有较高的透过率，同时，膜层致密、牢固，化学性质稳定，可作为优质的高折射率材料应用于光学膜系设计和批量的镀膜生产中。
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公开(公告)号：CN116282950A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310272065.0
申请日：2023-03-17
Applicant: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
IPC: C03C17/245 , C04B41/87 , C04B35/50 , C04B35/622
Abstract: 本发明提供的一种多元光学镀膜材料、制备方法及其应用，该光学镀膜材料由铌酸镧或铌酸镧铝组成(LaNbxAlyOz)；其中，x的取值为0.65～1.0，y的取值为0～0.22，z的取值为2.1～4。该光学镀膜材料密度为5.8‑6.1g/cm3，熔点为1800‑1900℃，具有密度高、闭合气孔率小等特点。使用该光学镀膜材料进行蒸镀，具有放气量小、蒸发工艺稳定、容易控制、镀膜坩埚中材料可以不用更新而保持膜层折射率稳定等优点。形成的光学薄膜强度稳定，没有开裂的现象，无斑点，在成膜的过程中均匀性好，在500nm的折射率为2.1‑2.20，折射率高。此外，该光学镀膜材料在空气中放置性质稳定，没有氧化变色的情况，光学镀膜材料透射波段宽，蒸发特性好，结构致密，吸收小，可用于硬介质光学薄膜的批量生产。
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公开(公告)号：CN113121224B
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202110408174.1
申请日：2021-04-15
Applicant: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
IPC: C04B35/495 , C04B35/622 , C04B35/64
Abstract: 本发明提供了一种环型高密度五氧化二钽镀膜材料的制备方法，主要包括以下步骤：(1)将五氧化二钽粉体原料装入环型模具中，采用冷等静压成型为环型坯体；(2)将得到的环型坯体机加工为环型氧化钽中间品；(3)将环型氧化钽中间品移入高温炉中进行烧结致密化，得到白色环型高密度五氧化二钽镀膜材料；(4)将白色环型高密度五氧化二钽镀膜材料在真空条件下进行高温处理，得到灰色或黑色环型高密度五氧化二钽镀膜材料。通过该制备方法制备五氧化二钽镀膜材料具有制备工艺简单，得到的五氧化二钽镀膜材料相对密度大于90％(理论密度按8.8g/cm3计算)，并且，镀膜过程稳定，避免镀膜过程中出现放气量大及喷溅等问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113200566B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202110407120.3
申请日：2021-04-15
Applicant: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
Abstract: 本发明提供了一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用，属于光学薄膜材料领域。该高折射率光学镀膜材料为钛酸镨，化学式为Pr5Ti5O17；并且，该钛酸镨是以TiO2、Pr6O11和Ti粉体为原料，通过固相合成反应制备得到的。采用本发明提供的制备方法所制备的该钛酸镨，在蒸发过程中保持稳定的化学组成，在预熔时可形成非常平整的蒸发表面，有利于镀膜过程的工艺控制。并且，采用本发明的钛酸镨镀制的光学膜层，在近紫外到近红外波段均有较高的透过率，同时，膜层致密、牢固，化学性质稳定，可作为优质的高折射率材料应用于光学膜系设计和批量的镀膜生产中。
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公开(公告)号：CN113213915A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN202110407171.6
申请日：2021-04-15
Applicant: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
IPC: C04B35/46 , C04B35/622 , C23C14/30
Abstract: 本发明提供了一种低温五氧化三钛晶体镀膜材料的制备方法。该制备方法包括：采用冷等静压成型的工艺，将混合原料压制成坯体并放于坩埚中；将坩埚放入炉体中，对炉体抽真空后，开始对炉体加热；采用分段加热的方式，通过控制每段的反应温度和反应时间，制备得到预设规格的低温五氧化三钛晶体颗粒；其中，结晶的反应温度低于五氧化三钛的熔点；将从坩埚倒出的低温五氧化三钛晶体颗粒加工成低温五氧化三钛晶体镀膜材料。通过该制备方法，实现在低于五氧化三钛熔点的温度下，“一次制备”高纯度的低温五氧化三钛晶体颗粒的目的；并且，基于该晶体，一方面大大降低了晶体的取出难度，另一方面避免了镀膜过程中的喷料现象。
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公开(公告)号：CN109369180B
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN201811508783.9
申请日：2018-12-11
Applicant: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
IPC: C04B35/48 , C04B35/622 , C04B35/626 , C04B35/645
Abstract: 本发明公开了属于陶瓷靶材技术领域的一种高密度HfO2靶材的制备方法。本发明利用碱性溶剂对HfO2粉体预处理，将预处理后粉体置于马弗炉、热压炉中烧结，然后粉碎、过筛，再置于热压炉中进行三段式热压烧结，最后随炉冷却，得到HfO2靶材；所得HfO2靶材外观呈均匀灰色，相对密度达到85％～95％，具有高强度、不易开裂的特点，适用于溅射制备光学薄膜。
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公开(公告)号：CN112028120A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201911396525.0
申请日：2019-12-30
Applicant: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
IPC: C01G25/02 , C03C17/245
Abstract: 本发明提供了一种用于镀制光学薄膜的ZrOx及其制备方法。其主要包括以下步骤：采用ZrO2和ZrH2粉体为原料，按一定的配比混合均匀后进行压块或造粒，然后在高温真空下进行固相合成，并在真空状态下冷却至室温，生成新的化合物ZrOx。该化合物熔点低于二氧化锆，材料在蒸发过程中保持稳定的化学组成，有利于镀膜过程的工艺控制。该材料镀制的光学膜层稳定性和一致性好，在近紫外到近红外波段均有较高的透过率，膜层致密、牢固，化学性质稳定，可作为优质的高折射率材料应用于光学膜系设计和批量的镀膜生产中。
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公开(公告)号：CN116855901A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202310813301.5
申请日：2023-07-04
Applicant: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
IPC: C23C14/34 , B22F3/14 , B22F3/10 , B22F5/00 , H01L31/0445 , H01L31/18 , H01L31/032
Abstract: 本发明提供一种薄膜太阳能电池用合金靶材及其制备方法，制备方法包括：钼酸钠粉体或钼酸钾粉体在300‑400℃下进行煅烧预处理，获得预处理粉体；将高纯Mo粉体与预处理粉体混合均匀后，装入石墨模具中进行冷压，获得成型坯体；成型坯体在真空热压炉内进行两阶段真空热压烧结并随炉冷却，得到烧结坯体；将烧结坯体进行无水外形加工，再置于真空炉内，在400～700℃下进行真空退火处理，以及表面精磨加工，获得合金靶材。本发明通过上述制备步骤获得具有组织均匀性好、密度高、碱金属Na或K含量均匀稳定的薄膜太阳能电池用高品质MoNa(K)合金靶材，该材料可直接用于磁控溅射镀膜制备MoNa(K)膜层，其中Na(K)将向光电转换CIGS膜层中扩散渗透，以提高电池的光电转换效率。
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