液体供给装置
    13.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1076225C

    公开(公告)日:2001-12-19

    申请号:CN95107249.8

    申请日:1995-06-27

    Abstract: 一种流体供给装置,具有流体吸入口23和排出孔27,在转子25和收容该转子25的固定部件19之间形成的流体输送部,与转子连接的轴10,使该轴10和上述固定部件之间产生相对性旋转运动和摆动运动用的旋转摆动脉冲马达,其驱动源即旋转摆动控制部,具有无脉动的连续流量特性、不易受温度、粘度等条件影响的定流量特性,还能实现供给流量的超高精度化、超微小流量化。

    真空泵
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1143166A

    公开(公告)日:1997-02-19

    申请号:CN95106202.6

    申请日:1995-04-27

    CPC classification number: F04C29/0085 F04C2240/402 F04D19/046

    Abstract: 本发明的目的是在排气速度保持不变的情况下提高高真空泵的性能。通过两个不同外径且外圆周面上分别开有螺旋槽8、9的转子6、7的组合,并把高真空泵装设在小直径转子7的轴2上,以提高高真空泵的性能和控制稳定性。

    液体供给装置
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1118717A

    公开(公告)日:1996-03-20

    申请号:CN95107249.8

    申请日:1995-06-27

    Abstract: 一种流体供给装置,具有流体吸入口23和排出孔27,在转子25和收容该转子25的固定部件19之间形成的流体输送部,与转子连接的轴10,使该轴10和上述固定部件之间产生相对性旋转运动和摆动运动用的旋转摆动脉冲马达,其驱动源即旋转摆动控制部,具有无脉动的连续流量特性,不易受温度、粘度等条件影响的定流量特性,还能实现供给流量的超高精度化、超微小流量化。

    流体供给装置
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1109817A

    公开(公告)日:1995-10-11

    申请号:CN94117827.7

    申请日:1994-12-01

    Abstract: 本发明涉及以必须高精度控制流体排出量的注射成型机及描绘装置等为对象的流体供给装置,由流体吸入口和流体供给泵,驱动此供给泵的机构,设置在此供给泵和流体注射部间的微型泵以及具备为对此微型泵的排出量进行调整的泵旋转角控制功能的微型泵驱动机构组成,具有成型精度高、材料损失减少、生产效率提高、设备简化以及小型紧凑等优点。

    流体涂布方法
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100450645C

    公开(公告)日:2009-01-14

    申请号:CN02157055.8

    申请日:2002-12-19

    CPC classification number: B05C11/1034 B05C5/0225

    Abstract: 本发明提供一种流体涂布方法和流体涂布装置,在向保持间距配置的2个面间供给流体,同时通过传动装置的驱动改变所述2个面间的间距,把被填充在所述2个面间的流体间歇地排出的流体涂布方法中,通过叠加有高频成分和直流成分的输入信号,驱动所述传动装置,通过改变所述2个面间的间距,把被填充在所述2个面间的流体间歇地排出,进行流体的涂布。

    流体排出装置和流体排出方法

    公开(公告)号:CN100384545C

    公开(公告)日:2008-04-30

    申请号:CN03164954.8

    申请日:2003-09-30

    Abstract: 一种流体排出方法,包括从流体供给装置向由两个部件的两个相对的表面形成的间隙供给流体,同时保持两个部件沿间隙方向彼此相对移动;利用通过改变间隙造成的压力改变而间歇地排出流体,根据流体供给装置的压力和流量特性控制每滴的流体排出量;和设定间隙最小值h0,在h0>hx时执行间歇排出,其中当h0在0<h0<hx的范围内时,每滴的间歇排出量与最小值h0成比例,当h0>hx时,每滴的间歇排出量恒定且独立于最小值h0,当h0在0<h0<hx的范围内时,相对于h0的每滴的间歇排出量由曲线表示,且在接近最小值h0=0的一部分处第一直线与曲线相切,当h0>hx时,每滴的间歇排出量是恒定的且由第二直线表示,第一直线和第二直线之间的交点定义为h0=hx。

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