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公开(公告)号：CN114208394A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080053599.9
申请日：2020-07-28
申请人： 松下知识产权经营株式会社
摘要： 微波处理装置具备：收纳被加热物(2)的加热室(1)；产生微波的微波产生部(3)；向加热室(1)供给微波的供电部(5)；检测朝向微波产生部(3)的反射功率的检测部(6)；控制微波产生部(3)的控制部(7)；以及存储部(8)。存储部(8)将由检测部(6)检测出的反射功率的量与供给到加热室(1)的微波的频率和从加热开始起的经过时间一起存储。控制部(7)以遍及规定的频带进行频率扫描的方式控制微波产生部(3)，根据基于各频率的反射功率的值随时间的变化，判定为被加热物(2)处于沸腾状态。根据本公开，能够高精度地检测被加热物的沸腾状态，进行适当的烹调。
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公开(公告)号：CN113950868A
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202080038744.6
申请日：2020-07-28
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： H05B6/68
摘要： 本公开的微波处理装置具备：加热室，其收纳被加热物；微波产生部，其产生规定频带中的频率的微波；放大部，其将由微波产生部产生的微波放大；供电部，其将由放大部放大后的微波供给到加热室；检测部，其检测来自供电部的反射功率；以及控制部。控制部选择规定频带中的多个频率，控制微波产生部产生所选择的频率的微波。控制部控制放大部变更微波的输出功率，将多个输出功率中的任意输出功率的微波供给到加热室。控制部基于针对多个输出功率中的第一输出功率以及第二输出功率的微波检测出的反射功率来测定反射波频率特性。
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公开(公告)号：CN113170541B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN201980077787.2
申请日：2019-11-29
申请人： 松下知识产权经营株式会社
摘要： 本发明所涉及的高频加热装置具备第一电极(11)、第二电极(12)、高频电源(30)、位置调整部(20)、检测部(50)以及控制部(60)。第二电极(12)与第一电极对置地配置。高频电源(30)向第一电极供给高频电力。位置调整部(20)调整第一电极(11)与第二电极(12)之间的距离。检测部(50)检测从第一电极(11)朝向高频电源(30)的反射电力。控制部(60)基于反射电力来控制位置调整部(20)。根据本方式，能够高效地对加热对象物进行加热。
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公开(公告)号：CN113170541A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980077787.2
申请日：2019-11-29
申请人： 松下知识产权经营株式会社
摘要： 本发明所涉及的高频加热装置具备第一电极(11)、第二电极(12)、高频电源(30)、位置调整部(20)、检测部(50)以及控制部(60)。第二电极(12)与第一电极对置地配置。高频电源(30)向第一电极供给高频电力。位置调整部(20)调整第一电极(11)与第二电极(12)之间的距离。检测部(50)检测从第一电极(11)朝向高频电源(30)的反射电力。控制部(60)基于反射电力来控制位置调整部(20)。根据本方式，能够高效地对加热对象物进行加热。
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公开(公告)号：CN113950868B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202080038744.6
申请日：2020-07-28
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： H05B6/68
摘要： 本公开的微波处理装置具备：加热室，其收纳被加热物；微波产生部，其产生规定频带中的频率的微波；放大部，其将由微波产生部产生的微波放大；供电部，其将由放大部放大后的微波供给到加热室；检测部，其检测来自供电部的反射功率；以及控制部。控制部选择规定频带中的多个频率，控制微波产生部产生所选择的频率的微波。控制部控制放大部变更微波的输出功率，将多个输出功率中的任意输出功率的微波供给到加热室。控制部基于针对多个输出功率中的第一输出功率以及第二输出功率的微波检测出的反射功率来测定反射波频率特性。
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公开(公告)号：CN113170542B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN201980077893.0
申请日：2019-10-25
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： H05B6/50
摘要： 本发明的一个方式所涉及的高频加热装置具备加热室、电极、高频电源、至少一个匹配元件以及控制部。加热室收容加热对象物。高频电源对电极施加高频电压。匹配器包含具有可变匹配常数的至少一个匹配元件。控制部基于至少一个匹配元件的匹配常数的时间变化，使高频电源停止而结束加热。根据本方式，能够高效地对加热对象物进行加热。
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公开(公告)号：CN112534965B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN201980050098.2
申请日：2019-08-01
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： H05B6/54
摘要： 高频加热装置(1A)具有平板状的第1电极(11)、平板状的多个第2电极(12)、高频电源(20)、匹配部(30)、控制部(40)和电场调整部(50)。多个第2电极(12)与第1电极(11)相对配置。高频电源(20)对第1电极(11)施加高频电压。匹配部(30)配置在第1电极(11)和高频电源(20)之间，取得与高频电源(20)的阻抗匹配。控制部(40)控制高频电源(20)。电场调整部(50)对第1电极(11)与多个第2电极(12)之间形成的多个区域中的电场强度分别独立地进行调整。根据本方式，能够降低加热不均。
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公开(公告)号：CN112470550B
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN201980048574.7
申请日：2019-09-05
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： H05B6/68
摘要： RF能量放射装置具备用于载置加热对象物的腔室、RF信号产生部、RF放大部、放射元件、温度传感器和控制部。RF信号产生部振荡出RF信号。RF放大部放大RF信号并输出RF能量。放射元件向腔室内放射RF能量。温度传感器配置在RF放大部的附近。控制部控制RF放大部根据温度传感器的检测温度和多个阈值水平来调整RF能量的输出。根据本方式，能够提高装置的可靠性。
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公开(公告)号：CN113812212A
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN202080033851.X
申请日：2020-07-28
申请人： 松下知识产权经营株式会社
摘要： 本公开的微波处理装置具备：加热室(1)，其容纳被加热物(2)；微波产生部(3)；加热部(7)；供电部(4)；检测部(5)；以及控制部(6)。微波产生部(3)产生微波。加热部(7)具有微波以外的加热源，对加热室(1)的内部进行加热。供电部(4)将微波供给至加热室。检测部(5)检测来自供电部(4)的反射电力。控制部(6)对加热部(7)和微波产生部(3)进行控制。控制部(6)在通过加热部(7)加热时，使微波产生部(3)产生使具有能够由检测部(5)检测出的水平的反射电力返回那样的输出功率的微波。根据本公开，通过掌握烹调的进展，能够适当地烹调被加热物。
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公开(公告)号：CN113330821A
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN202080010367.5
申请日：2020-02-03
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： H05B6/68
摘要： 微波处理装置具有容纳被加热物的加热室(1)、微波产生部(3，4)、供电部(5)、检测部(6)以及控制部(7)。微波产生部输出具有规定的频带内的频率的微波。供电部将微波辐射至加热室。检测部检测来自加热室的反射电力。控制部以在规定的频带中进行频率扫描的方式控制微波产生部。控制部还根据基于微波的频率、反射电力的量和从加热开始起的经过时间的反射电力的频率特性随时间的变化来控制微波产生部。根据本方式，能够一边对被加热物进行加热一边准确地识别烹调的进展。由此，能够适当地结束烹调。
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