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公开(公告)号：CN113330821B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202080010367.5
申请日：2020-02-03
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: H05B6/68
Abstract: 微波处理装置具有容纳被加热物的加热室(1)、微波产生部(3，4)、供电部(5)、检测部(6)以及控制部(7)。微波产生部输出具有规定的频带内的频率的微波。供电部将微波辐射至加热室。检测部检测来自加热室的反射电力。控制部以在规定的频带中进行频率扫描的方式控制微波产生部。控制部还根据基于微波的频率、反射电力的量和从加热开始起的经过时间的反射电力的频率特性随时间的变化来控制微波产生部。根据本方式，能够一边对被加热物进行加热一边准确地识别烹调的进展。由此，能够适当地结束烹调。
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公开(公告)号：CN114208394A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080053599.9
申请日：2020-07-28
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 微波处理装置具备：收纳被加热物(2)的加热室(1)；产生微波的微波产生部(3)；向加热室(1)供给微波的供电部(5)；检测朝向微波产生部(3)的反射功率的检测部(6)；控制微波产生部(3)的控制部(7)；以及存储部(8)。存储部(8)将由检测部(6)检测出的反射功率的量与供给到加热室(1)的微波的频率和从加热开始起的经过时间一起存储。控制部(7)以遍及规定的频带进行频率扫描的方式控制微波产生部(3)，根据基于各频率的反射功率的值随时间的变化，判定为被加热物(2)处于沸腾状态。根据本公开，能够高精度地检测被加热物的沸腾状态，进行适当的烹调。
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公开(公告)号：CN113950868A
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202080038744.6
申请日：2020-07-28
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: H05B6/68
Abstract: 本公开的微波处理装置具备：加热室，其收纳被加热物；微波产生部，其产生规定频带中的频率的微波；放大部，其将由微波产生部产生的微波放大；供电部，其将由放大部放大后的微波供给到加热室；检测部，其检测来自供电部的反射功率；以及控制部。控制部选择规定频带中的多个频率，控制微波产生部产生所选择的频率的微波。控制部控制放大部变更微波的输出功率，将多个输出功率中的任意输出功率的微波供给到加热室。控制部基于针对多个输出功率中的第一输出功率以及第二输出功率的微波检测出的反射功率来测定反射波频率特性。
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公开(公告)号：CN116209109A
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202310246281.8
申请日：2019-09-05
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 一种RF能量放射装置，其具备用于载置加热对象物的腔室、RF信号产生部、RF放大部、放射元件、温度传感器和控制部。RF信号产生部振荡出RF信号。RF放大部放大RF信号并输出RF能量。放射元件向腔室内放射RF能量。温度传感器配置在RF放大部的附近。控制部控制RF放大部根据温度传感器的检测温度和多个阈值水平来调整RF能量的输出。根据本方式，能够提高装置的可靠性。
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公开(公告)号：CN113170542A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980077893.0
申请日：2019-10-25
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: H05B6/50
Abstract: 本发明的一个方式所涉及的高频加热装置具备加热室、电极、高频电源、至少一个匹配元件以及控制部。加热室收容加热对象物。高频电源对电极施加高频电压。匹配器包含具有可变匹配常数的至少一个匹配元件。控制部基于至少一个匹配元件的匹配常数的时间变化，使高频电源停止而结束加热。根据本方式，能够高效地对加热对象物进行加热。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112470550A
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201980048574.7
申请日：2019-09-05
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: H05B6/68
Abstract: RF能量放射装置具备用于载置加热对象物的腔室、RF信号产生部、RF放大部、放射元件、温度传感器和控制部。RF信号产生部振荡出RF信号。RF放大部放大RF信号并输出RF能量。放射元件向腔室内放射RF能量。温度传感器配置在RF放大部的附近。控制部控制RF放大部根据温度传感器的检测温度和多个阈值水平来调整RF能量的输出。根据本方式，能够提高装置的可靠性。
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公开(公告)号：CN112469945A
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201980048575.1
申请日：2019-07-25
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 高频加热装置(100)具有收纳负载(104)的加热室(103)、微波源(101)、至少一个放射部(102)、温度检测部(105)以及控制部(106)。微波源能够产生微波，并能够调整微波的频率和输出。至少一个放射部将微波向加热室内放射。温度检测部检测加热室内的温度。控制部控制微波源根据规定负载的温度推移的温度曲线和加热室内的温度，调整微波的输出。根据本方式，通过按照与烹调菜谱对应的温度曲线加热食材，能够使烹调的品质稳定化。
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公开(公告)号：CN104641527B
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201380045093.3
申请日：2013-08-29
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
CPC classification number: G05F1/12 , H02J3/14 , H02J3/46 , Y02B70/3225 , Y04S20/222 , Y10T307/406
Abstract: 功率管理系统包括：功率管理装置，其被配置为管理多个功率负载要使用的功率；以及大功率使用型功率负载。大功率使用型功率负载被定义为在以最大使用功率进行工作的情况下、使用功率超过容许功率和比该容许功率小的上限功率之间的差的功率负载。功率管理装置通过使用多个功率负载的总使用功率和上限功率来计算大功率使用型功率负载可利用的剩余可用功率，并且时时通知该剩余可用功率。大功率使用型功率负载在其使用功率等于或小于功率管理装置所通知的剩余可用功率的范围内开始工作。
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公开(公告)号：CN117412430A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202311456135.4
申请日：2019-07-25
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 一种高频加热装置，该高频加热装置(100)具有收纳负载(104)的加热室(103)、微波源(101)、至少一个放射部(102)、温度检测部(105)以及控制部(106)。微波源能够产生微波，并能够调整微波的频率和输出。至少一个放射部将微波向加热室内放射。温度检测部检测加热室内的温度。控制部控制微波源根据规定负载的温度推移的温度曲线和加热室内的温度，调整微波的输出。根据本方式，通过按照与烹调菜谱对应的温度曲线加热食材，能够使烹调的品质稳定化。
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公开(公告)号：CN112567889B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN201980053571.2
申请日：2019-09-11
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 微波加热装置具备容纳被加热物的加热室、生成微波的微波发生部以及同轴连接器。同轴连接器具有中心导体、绝缘体和外部导体。中心导体与微波发生部的输出端连接。在中心导体与绝缘体之间设置有气隙。根据本方式，能够抑制微波发生部与同轴连接器之间的焊接部处的因热应力导致的焊料裂纹的产生。
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