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公开(公告)号：CN116457709A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202180075305.7
申请日：2021-08-10
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: G02B5/30
Abstract: 提供制造收缩应力为相同程度的光学膜时的拉伸温度的高温化受到抑制且能够得到光学性能优异的光学膜的光学膜制造用膜、使用这种光学膜制造用膜得到的光学膜的制造方法和光学膜。本发明是光学膜制造用膜，其包含具有含硅基团和乙烯单元的聚乙烯醇，前述含硅基团为硅烷醇基或者能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团，前述聚乙烯醇中的前述含硅基团相对于全部结构单元的含量为0.01摩尔％以上且1.0摩尔％以下，前述乙烯单元的含量为0.5摩尔％以上且10摩尔％以下。
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公开(公告)号：CN115768822A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202180047230.1
申请日：2021-06-23
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: C08J5/18
Abstract: 本发明提供即便在厚度薄的情况下也能够抑制在制造光学膜时的溶胀工序中产生溶胀褶皱的PVA膜、以及使用这种PVA膜的光学膜的制造方法。对于本发明的聚乙烯醇膜，根据在水/甲醇混合溶剂中(体积比率：2/8)进行的小角X射线散射测定求出的结晶长周期Ds与根据在浸渍于前述混合溶剂之前进行的小角X射线散射测定求出的结晶长周期Da满足下式。0.15≤(Ds‑Da)/Da＜0.3。
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公开(公告)号：CN107635791B
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201680034753.1
申请日：2016-06-14
Applicant: 株式会社可乐丽
Abstract: 单层的液压转印用基膜，其中，相对于聚乙烯醇100质量份，包含平均粒径为2~14μm且长宽比为4~60的片状或针状的填料1.5~15质量份；以及，液压转印用基膜的制造方法，其具备使用制膜原液进行制膜的工序，所述制膜原液中，相对于聚乙烯醇100质量份，包含平均粒径为2~14μm且长宽比为4~60的片状或针状的填料1.5~15质量份。由此，能够提供从卷中抽出时不易断裂的液压转印用基膜及其制造方法。
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公开(公告)号：CN104185559A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201380014947.1
申请日：2013-03-06
Applicant: 株式会社可乐丽
CPC classification number: B26D1/245 , B26D1/02 , B26D2001/0053 , B44C1/1733
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种从卷中抽出时难以断裂的液压转印用基膜及其制造方法。其解决方法在于：液压转印用基膜1，沿厚度方向测定裁切剖面3的表面粗糙度时，在最大峰高度（Rp）为5μm以上的情况下，赋予该最大峰高度（Rp）的位置5位于距离厚度方向的单侧为20~80%的位置，在最大峰高度（Rp）不足5μm的情况下，算术平均高度（Ra）为2μm以下；一种液压转印用基膜的制造方法，其包括使用剪切刀片来裁切膜的工序，上刀片的刀尖角度为30~90°，上刀片与下刀片的重叠量为0.1~0.8mm，夹角为2~100°，上刀片没有驱动；以及，一种液压转印用基膜的制造方法，其包括使用剃刀刀片进行裁切的工序，剃刀刀片的刀尖的最大高度（Rz）不足1μm。
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公开(公告)号：CN103847412A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201310634762.2
申请日：2013-12-03
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: B44C1/175
Abstract: 本发明涉及液压转印用基膜。提供一种能形成能充分防止漂浮在液面上时的卷曲、转印效率优异的液压转印用膜的液压转印用基膜及其制造方法。本发明是含有聚乙烯醇和含仲烷基的表面活性剂的液压转印用基膜以及液压转印用基膜的制造方法，该方法包括使用含有聚乙烯醇和含仲烷基的表面活性剂的制膜原液进行制膜的工序。液压转印用基膜中，相对于100质量份的聚乙烯醇，优选含有0.05～4质量份的含仲烷基的表面活性剂，此外，至少一个面的算数平均粗糙度(Ra)优选为400nm以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102789022A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201210272712.X
申请日：2008-08-08
Applicant: 株式会社可乐丽
CPC classification number: B29C41/26 , B29C55/06 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , C08J5/18 , C08J2329/04 , G02B5/3025
Abstract: 本发明提供一种对于制造皱折少的偏光薄膜极为有用的聚乙烯醇薄膜和由该聚乙烯醇薄膜制得的偏光薄膜。上述聚乙烯醇薄膜为以聚乙烯醇系树脂为主原料的光学薄膜，其特征为在薄膜的膜宽方向全体的光学轴的倾斜度相对于薄膜长度方向而言为45~135°。而且，上述的聚乙烯醇薄膜的临界延伸倍率可大于6.0且在8.0以下，其膨胀拉伸率可约为100~124%。
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公开(公告)号：CN116438230A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202180075870.3
申请日：2021-08-10
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: C08J5/18
Abstract: 提供具有良好的生产率且能够得到光学性能优异的光学膜的光学膜制造用膜、以及使用这种光学膜制造用膜进行的光学膜的制造方法。本发明为光学膜制造用膜，其为包含聚乙烯醇的光学膜制造用膜，在以前述聚乙烯醇的浓度成为12质量％的方式溶解有前述光学膜制造用膜的水溶液的动态粘度测定中，复数粘度η*1(30)与复数粘度η*1(80)之比Rt(η*1(30)/η*1(80))为4.5以上且50以下。[复数粘度η*1(30)是30℃的前述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度，复数粘度η*1(80)是80℃的前述水溶液的根据动态粘弹性测定而得到的角频率为1rad/秒时的复数粘度]。
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公开(公告)号：CN115594934A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211488893.X
申请日：2016-01-14
Applicant: 株式会社可乐丽(JP)
IPC: C08L29/04 , C08J5/18 , G02B1/04 , G02B5/30 , G02F1/1335
Abstract: 本发明涉及膜。本发明提供可容易地制造光学特性和降收缩方面优异的光学膜的膜，以及使用了其的光学膜的制造方法。膜，其包含含羟甲基的乙烯醇系聚合物且软化点为63℃以下，所述含羟甲基的乙烯醇系聚合物包含乙烯醇单元和下述式（1）所示的结构单元；以及，光学膜的制造方法，其具备使用该膜进行单轴拉伸的工序。
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公开(公告)号：CN114450329A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202080070727.0
申请日：2020-09-24
Applicant: 株式会社可乐丽
Abstract: 提供具有良好的生产率、能够得到与使用具有相同聚合度的未改性PVA的情况相比光学性能和耐湿热性更优异的光学膜的光学膜制造用膜，使用这种光学膜制造用膜得到的光学膜的制造方法和光学膜。本发明是光学膜制造用膜，其包含具有含硅基团的聚乙烯醇，上述含硅基团为硅烷醇基或者能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团，上述聚乙烯醇的粘均聚合度为1,000以上且6,000以下、皂化度为98.7摩尔%以上，并且，上述含硅基团相对于全部结构单元的含量为0.01摩尔%以上且1.0摩尔%以下。
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公开(公告)号：CN104185559B
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201380014947.1
申请日：2013-03-06
Applicant: 株式会社可乐丽
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种从卷中抽出时难以断裂的液压转印用基膜及其制造方法。其解决方法在于：液压转印用基膜1，沿厚度方向测定裁切剖面3的表面粗糙度时，在最大峰高度（Rp）为5μm以上的情况下，赋予该最大峰高度（Rp）的位置5位于距离厚度方向的单侧为20~80%的位置，在最大峰高度（Rp）不足5μm的情况下，算术平均高度（Ra）为2μm以下；一种液压转印用基膜的制造方法，其包括使用剪切刀片来裁切膜的工序，上刀片的刀尖角度为30~90°，上刀片与下刀片的重叠量为0.1~0.8mm，夹角为2~100°，上刀片没有驱动；以及，一种液压转印用基膜的制造方法，其包括使用剃刀刀片进行裁切的工序，剃刀刀片的刀尖的最大高度（Rz）不足1μm。
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