公开(公告)号：CN107207736A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201680003699.4

申请日：2016-09-23

Applicant: 株式会社LG化学 ,  株式会社LG生活健康

Inventor： 尹正爱 ,  金秀静 ,  李鲜和 ,  沈愚先 ,  尹圣琇 ,  朱昶奂 ,  金贞雅 ,  姜来圭

IPC: C08G81/00 ,  C08F293/00 ,  A61K8/02 ,  A61K8/06 ,  A61K8/72 ,  A61K9/107 ,  A61K9/51

CPC classification number: A61K8/02 ,  A61K8/06 ,  A61K8/72 ,  A61K9/107 ,  A61K9/51 ,  C08F26/10 ,  C08F293/00 ,  C08F293/005 ,  C08F2438/01 ,  C08G12/06 ,  C08G65/34 ,  C08G81/00

Abstract: 本申请涉及两亲性聚合物及其制备方法。此外，本申请涉及包含由两亲性聚合物包封的药物的胶束和包含其的组合物。根据本申请的两亲性聚合物具有优异的药物包封特性和在水溶液中良好的分散特性。

公开(公告)号：CN111065673B

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN201880059063.0

申请日：2018-09-14

Applicant: 株式会社LG化学 ,  株式会社LG生活健康

Inventor： 尹正爱 ,  金秀静 ,  权秀智 ,  尹圣琇 ,  赵允振 ,  金世勋 ,  朴美爱 ,  车暻温

IPC: C08K5/19 ,  C08F16/12 ,  C11D1/38 ,  C08F2/44 ,  C08F12/08 ,  C08F18/04 ,  C11D3/00 ,  C11D17/00 ,  C08F20/18 ,  C08F20/56

Abstract: 本申请涉及可聚合组合物、聚合物胶囊和织物柔软剂组合物。本申请的织物柔软剂组合物包含其中在其表面上引入有阳离子基团的聚合物胶囊，使得可以抑制芳香剂的提早释放并且可以根据聚合物胶囊的壳材料在特定时间通过轻摩擦的破裂而产生芳香。此外，本申请的聚合物胶囊具有高的对纤维的粘附性并且在洗涤期间不附着至纤维而使排放的芳香剂最少化，使得即使使用少量的芳香剂也可以提供足够的芳香。

公开(公告)号：CN107207736B

公开(公告)日：2021-04-02

申请号：CN201680003699.4

申请日：2016-09-23

Applicant: 株式会社LG化学 ,  株式会社LG生活健康

Inventor： 尹正爱 ,  金秀静 ,  李鲜和 ,  沈愚先 ,  尹圣琇 ,  朱昶奂 ,  金贞雅 ,  姜来圭

IPC: C08G81/00 ,  C08F293/00 ,  A61K8/02 ,  A61K8/06 ,  A61K8/72 ,  A61K9/107 ,  A61K9/51

Abstract: 本申请涉及两亲性聚合物及其制备方法。此外，本申请涉及包含由两亲性聚合物包封的药物的胶束和包含其的组合物。根据本申请的两亲性聚合物具有优异的药物包封特性和在水溶液中良好的分散特性。

公开(公告)号：CN106999404B

公开(公告)日：2021-07-02

申请号：CN201580068118.0

申请日：2015-12-15

Applicant: 株式会社LG生活健康

Inventor： 蔡海锡 ,  崔基焕 ,  金庆燮 ,  金秀静 ,  尹正爱 ,  尹圣琇 ,  洪详贤

IPC: A61K8/72 ,  A61K8/81 ,  A61Q1/10 ,  A61Q19/00

Abstract: 本申请涉及皮肤外用剂组合物、化妆材料组合物或睫毛膏组合物。本申请中能够提供皮肤外用剂组合物、化妆材料组合物或睫毛膏组合物，其使用对极性和非极性溶剂表现出低溶解度、对上述溶剂具有低扩散特性、适合成膜的功能高分子。使用上述高分子的组合物对如皮脂、汗液和泪液等多种溶剂能够显示出耐性，从而能够有效地保持化妆等的持续性。

公开(公告)号：CN106999404A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580068118.0

申请日：2015-12-15

Applicant: 株式会社LG生活健康

Inventor： 蔡海锡 ,  崔基焕 ,  金庆燮 ,  金秀静 ,  尹正爱 ,  尹圣琇 ,  洪详贤

IPC: A61K8/72 ,  A61K8/81 ,  A61Q1/10 ,  A61Q19/00

CPC classification number: A61K8/72 ,  A61K8/8152 ,  A61Q1/10 ,  A61Q19/00

Abstract: 本申请涉及皮肤外用剂组合物、化妆材料组合物或睫毛膏组合物。本申请中能够提供皮肤外用剂组合物、化妆材料组合物或睫毛膏组合物，其使用对极性和非极性溶剂表现出低溶解度、对上述溶剂具有低扩散特性、适合成膜的功能高分子。使用上述高分子的组合物对如皮脂、汗液和泪液等多种溶剂能够显示出耐性，从而能够有效地保持化妆等的持续性。

公开(公告)号：CN111164146B

公开(公告)日：2022-08-16

申请号：CN201880064036.2

申请日：2018-10-29

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 具世真 ,  李美宿 ,  姜那那 ,  李应彰 ,  尹圣琇 ,  朴鲁振 ,  李济权 ,  崔银英 ,  柳亨周 ,  许允衡

IPC: C08L33/14 ,  C08F220/30 ,  C08F220/32 ,  C08F212/14 ,  C08F230/02 ,  B32B27/28 ,  H01L21/027 ,  H01L21/324

Abstract: 本申请涉及钉扎组合物、包含其的层合体及其生产方法。本申请的钉扎组合物可以赋予包含嵌段共聚物的自组装结构的聚合物膜定向性和定位选择特性。本申请的钉扎组合物表现出优异的反应选择性，由此其可以形成具有高配向程度的垂直层状体结构。此外，本申请的钉扎组合物可以适合于应用于低温过程。

公开(公告)号：CN110799589B

公开(公告)日：2021-12-28

申请号：CN201880042317.8

申请日：2018-07-16

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 崔银英 ,  朴鲁振 ,  李济权 ,  许允衡 ,  尹圣琇

IPC: C08L33/14 ,  C08F20/28 ,  C08L33/06 ,  C08F20/32 ,  C08F20/34 ,  C08F12/16 ,  C08L25/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16

Abstract: 本申请涉及中性层组合物。本申请可以提供能够形成可以有效地控制各种嵌段共聚物的取向特性的中性层的中性层组合物。

公开(公告)号：CN109906237B

公开(公告)日：2021-08-03

申请号：CN201780068358.X

申请日：2017-11-29

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴鲁振 ,  金廷根 ,  李济权 ,  尹圣琇 ,  具世真 ,  李美宿 ,  崔银英 ,  柳亨周

IPC: C08F220/18 ,  C08F212/04 ,  C08F212/14 ,  C08F220/44 ,  C08F220/38 ,  C08J5/22 ,  H01L21/027 ,  H01L21/311 ,  G03F1/00

Abstract: 本申请可以提供嵌段共聚物及其用途。本申请的嵌段共聚物具有优异的自组装特性或相分离特性，其也可以被自由地赋予所需要的各种功能。

公开(公告)号：CN107636873B

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN201680031429.4

申请日：2016-10-26

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 尹正爱 ,  宋祈锡 ,  权起暎 ,  尹圣琇 ,  池汉娜 ,  梁斗景

IPC: H01M4/62 ,  H01M4/38 ,  H01M4/587 ,  H01M4/133 ,  H01M10/052

Abstract: 本发明涉及一种锂‑硫二次电池正极用粘合剂以及含有所述粘合剂的组合物。本发明的粘合剂使正极活性材料对电解质具有优异的抵抗性。

公开(公告)号：CN107077066B9

公开(公告)日：2021-05-14

申请号：CN201580059713.8

申请日：2015-09-30

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 具世真 ,  李美宿 ,  柳亨周 ,  金廷根 ,  尹圣琇 ,  朴鲁振 ,  李济权 ,  崔银英

IPC: G03F7/00 ,  C07C43/215 ,  C07C43/225 ,  C07C217/84 ,  C07D209/48 ,  C07F7/18 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/30 ,  C08F293/00 ,  C08F297/00 ,  C08F299/00 ,  C08J5/18 ,  C08L53/00 ,  C08L55/00

Abstract: 提供了制造图案化基底的方法。该方法可以应用于装置如电子器件或集成电路的制造过程，或者应用于另一些用途例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、LCD、薄膜磁头或有机发光二极管；并且该方法可用于在用来制造离散磁道介质如集成电路、位元图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器的表面上构造图案。