一种排水装置、窑压检测系统及方法、窑炉和存储介质

    公开(公告)号:CN115682750A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202211300305.5

    申请日:2022-10-24

    IPC分类号: F27D21/00 F27D19/00

    摘要: 本发明公开了一种排水装置、窑压检测系统及方法、窑炉和存储介质,排水装置包括:第一管段,其一端与窑压检测系统的取压管段连接;连通器,其一端与第一管段的另一端连接,连通器的两端皆朝上设置;第二管段,其一端与连通器的另一端连接;注水结构,其一端与第二管段的另一端连接,另一端开口,且注水结构侧壁上设有排水管,排水管远离注水结构的一端的高度低于靠近注水结构的一端的高度,注水结构用于向第二管段中注水直至至少灌满连通器,以使得第一管段内的窑内压力与开口处的窑外压力隔离。本发明实施例的排水装置能够在不引起窑压波动的情况下自动排水,无需人工排水,结构简单,成本低。

    微调装置及喷涂设备
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115215556B

    公开(公告)日:2024-09-17

    申请号:CN202210633154.9

    申请日:2022-06-07

    IPC分类号: C03C17/00

    摘要: 本发明公开了一种微调装置及喷涂设备,微调装置包括安装组件、支撑组件及调节组件,安装组件包括相连的固定支架与多个连接梁,支撑组件包括多个支撑立柱,每一连接梁通过一个调节组件与一个支撑立柱可移动连接,调节组件包括调节件与转接件,调节件与转接件传动连接,连接梁跟随调节件的转动相对支撑立柱移动;喷涂设备包括上述的微调装置。本发明中,通过转动调节件,可使连接梁相对支撑立柱移动,支撑组件与安装组件于多个支撑立柱与连接梁的连接处进行连接,通过对不同的调节组件进行调节,可改变安装组件的位置以及安装组件的整体姿态,实现对气体分配机构姿态的调节,能够满足超薄浮法玻璃的喷涂工艺需求。