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公开(公告)号:CN1942949B
公开(公告)日:2011-07-13
申请号:CN200580010959.2
申请日:2005-04-13
CPC classification number: G11B7/24094
Abstract: 光盘(10)具有:由浸渍有树脂的树脂浸渍纸及被树脂被覆的树脂被覆纸的任何一种构成的基板(11)、和记录层(13),树脂由聚碳酸酯、双酚A型环氧树脂、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物中的至少一种构成。另外,光盘(20)的制造方法具有:在记录层基材上形成轨道而制作记录层片的工序;和将树脂浸渍纸或树脂被覆纸与记录层片贴合,在基板(11)上设置由记录层片组成的记录层(13)的工序。
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公开(公告)号:CN1319061C
公开(公告)日:2007-05-30
申请号:CN03801387.8
申请日:2003-08-26
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/24094 , G11B7/24067 , G11B23/40
Abstract: 本发明涉及一种用作光盘驱动装置中记录媒质的光盘,其具有在设置于盘基板(110)一个面上的记录层上形成的透明保护膜(120)和在盘基板另一个面上形成的、具有与透明保护膜(120)的膜质量和膜结构相同的印刷标记膜(130)。印刷标记膜(130)是主要由聚碳酸酯制成的合成树脂膜,这与透明保护膜相类似,并通过丝网印刷等形成在盘基板上。由于光盘的相对面具有相同的膜质量和膜结构,这样可防止因光盘厚度方向上的结构不对称性所致的变形造成发生偏斜。通过在盘基板的另一个面上设置印刷标记膜,光盘具有显现其中记录的信息内容的功能。
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公开(公告)号:CN1942949A
公开(公告)日:2007-04-04
申请号:CN200580010959.2
申请日:2005-04-13
CPC classification number: G11B7/24094
Abstract: 光盘(10)具有:由浸渍有树脂的树脂浸渍纸及被树脂被覆的树脂被覆纸的任何一种构成的基板(11)、和记录层(13),树脂由聚碳酸酯、双酚A型环氧树脂、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物中的至少一种构成。另外,光盘(20)的制造方法具有:在记录层基材上形成轨道而制作记录层片的工序;和将树脂浸渍纸或树脂被覆纸与记录层片贴合,在基板(11)上设置由记录层片组成的记录层(13)的工序。
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公开(公告)号:CN1174401C
公开(公告)日:2004-11-03
申请号:CN01125154.9
申请日:2001-08-30
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/26 , B29C41/28 , B29C47/00 , B29C47/0021 , B29C65/4825 , B29C65/4835 , B29C65/4845 , B29C65/521 , B29C66/1122 , B29C66/345 , B29C66/452 , B29C66/71 , B29C66/73343 , B29C66/73921 , B29C66/81455 , B29C66/8322 , B29D17/005 , B29K2995/0032 , B29L2017/005 , G11B7/24 , G11B23/0092 , B29K2069/00
Abstract: 本发明提供了一种能够提高保护膜的厚度均匀性并抑制弯曲的光学记录介质。该介质的构型包括基材、在所述基材上形成的光学记录层、和在所述光学记录层上形成的透光保护膜,其中所述保护膜包括熔体铸塑制成的聚合物片材和用于将所述聚合物片材粘结到所述光学记录层上的粘合剂层。作为聚合物片材,可以使用聚碳酸酯片材、环状聚烯烃片材等。作为粘合剂层,可单独或混合或堆叠使用紫外线固化树脂、热固化树脂、环氧树脂基粘合剂或压敏粘合剂。
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公开(公告)号:CN1341927A
公开(公告)日:2002-03-27
申请号:CN01125154.9
申请日:2001-08-30
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/26 , B29C41/28 , B29C47/00 , B29C47/0021 , B29C65/4825 , B29C65/4835 , B29C65/4845 , B29C65/521 , B29C66/1122 , B29C66/345 , B29C66/452 , B29C66/71 , B29C66/73343 , B29C66/73921 , B29C66/81455 , B29C66/8322 , B29D17/005 , B29K2995/0032 , B29L2017/005 , G11B7/24 , G11B23/0092 , B29K2069/00
Abstract: 本发明提供了一种能够提高保护膜的厚度均匀性并抑制弯曲的光学记录介质。该介质的构型包括基材、在所述基材上形成的光学记录层、和在所述光学记录层上形成的透光保护膜,其中所述保护膜包括熔体铸塑制成的聚合物片材和用于将所述聚合物片材粘结到所述光学记录层上的粘合剂层。作为聚合物片材,可以使用聚碳酸酯片材、环状聚烯烃片材等。作为粘合剂层,可单独或混合或堆叠使用紫外线固化树脂、热固化树脂、环氧树脂基粘合剂或压敏粘合剂。
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公开(公告)号:CN101714371A
公开(公告)日:2010-05-26
申请号:CN200910179414.4
申请日:2009-10-09
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: G03F7/0002 , B29C45/263 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0017 , G11B7/1374 , G11B7/1387 , G11B7/261 , G11B7/263 , G11B2007/13727
Abstract: 本发明涉及制造母盘的方法以及制造光盘的方法。一种制造母盘的方法包括以下步骤:在母盘形成衬底上形成无机抗蚀剂层,在无机抗蚀剂层的表面形成含有高折射率材料的保护薄膜以形成无机抗蚀剂母盘,其中高折射率材料的折射率n满足n≥曝光光学系统的NA,并且高折射率材料混合在光透过材料中;使用曝光光学系统从保护薄膜上方在无机抗蚀剂母盘上执行NA>1的近场曝光;将保护薄膜从经受了曝光的无机抗蚀剂母盘上分离;通过对分离了保护薄膜的无机抗蚀剂母盘的显影,形成包括曝光部分和未曝光部分的突起/凹陷图案。
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公开(公告)号:CN1191578C
公开(公告)日:2005-03-02
申请号:CN00800893.0
申请日:2000-01-18
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: B29C59/026 , B29C59/04 , B29C2035/0827 , B29L2017/003 , G11B7/24 , G11B7/26 , Y10S428/90
Abstract: 本发明涉及具有多层信号记录层的盘状多层记录媒体,其中在每个信号记录层上载有信息信号。在制备记录媒体中,将冲压薄板而得到的第一基片粘结到注入模压合成树脂材料得到的第二基片上,其中薄板是通过依次把信号记录模式从第一压模转录到该薄板上并在信号表面上形成半透明膜而获得的。通过把形成在注入模压设备上所提供的第二压模上的信号记录模式转录到第二基片来制备第二基片。将反射膜形成在具有转录的第二基片的信号表面上。第一和第二基片在它们的信号记录层上通过透明粘结层互相粘结一起。
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公开(公告)号:CN1335614A
公开(公告)日:2002-02-13
申请号:CN01123362.1
申请日:2001-07-19
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/26 , Y10S428/914 , Y10S430/146 , Y10T428/31678
Abstract: 多层光学记录媒体生产方法,能消除分离压模的困难,并在柔性薄膜上形成半透明膜,包括:在一表面上形成用于第一光学记录层凹凸图案的基片上形成第一光学记录层,形成在其一表面上有凹凸图案的丙烯酸树脂转移基片,在转移基片凹凸图案上形成第二光学记录层,用粘结层将柔性膜粘在第二记录层上部,将第二记录层和转移基片在分界处分开,从而将第二记录层转到柔性膜上,将第一和第二记录层相互面对地粘结在一起。
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公开(公告)号:CN101714371B
公开(公告)日:2012-02-29
申请号:CN200910179414.4
申请日:2009-10-09
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: G03F7/0002 , B29C45/263 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0017 , G11B7/1374 , G11B7/1387 , G11B7/261 , G11B7/263 , G11B2007/13727
Abstract: 本发明涉及制造母盘的方法以及制造光盘的方法。一种制造母盘的方法包括以下步骤:在母盘形成衬底上形成无机抗蚀剂层,在无机抗蚀剂层的表面形成含有高折射率材料的保护薄膜以形成无机抗蚀剂母盘,其中高折射率材料的折射率n满足n≥曝光光学系统的NA,并且高折射率材料混合在光透过材料中;使用曝光光学系统从保护薄膜上方在无机抗蚀剂母盘上执行NA>1的近场曝光;将保护薄膜从经受了曝光的无机抗蚀剂母盘上分离;通过对分离了保护薄膜的无机抗蚀剂母盘的显影,形成包括曝光部分和未曝光部分的突起/凹陷图案。
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