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公开(公告)号：CN1941159B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200610143173.4
申请日：2006-09-04
IPC分类号： G11C5/06
CPC分类号： G11C5/025 , G11C7/10 , G11C7/1006
摘要： 本发明提供一种能够简化到达存储器的布线、能够防止面积增加和长距离布线所引起的性能下降并能够实现存储器的高速存取的共有存储器装置。处理模块(21)的输入输出端口(211)、各存储器接口(222、232)、各存储体(221-1～221-n、231-1～231-n)通过在Y方向(第1方向)及X方向(第2方向)上以矩阵状(栅格状)方式布线的连接布线连接到多个存储器宏(221、231)的配置区域(的上层)。对连接布线，多层布线指令信息布线(指令地址布线)和数据布线(写数据线和读数据线，或共用布线)。
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公开(公告)号：CN1942949B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200580010959.2
申请日：2005-04-13
CPC分类号： G11B7/24094
摘要： 光盘(10)具有：由浸渍有树脂的树脂浸渍纸及被树脂被覆的树脂被覆纸的任何一种构成的基板(11)、和记录层(13)，树脂由聚碳酸酯、双酚A型环氧树脂、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物中的至少一种构成。另外，光盘(20)的制造方法具有：在记录层基材上形成轨道而制作记录层片的工序；和将树脂浸渍纸或树脂被覆纸与记录层片贴合，在基板(11)上设置由记录层片组成的记录层(13)的工序。
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公开(公告)号：CN101326501A
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：CN200780000633.0
申请日：2007-01-11
IPC分类号： G06F12/10
CPC分类号： G06F12/1475 , G06F12/1081
摘要： 提供一种存取技术，在从周边设备对处理器的存储器进行存取中，可以追求高效率并实现安全性。地址变换单元(14)包括地址变换表，该地址变换表用于将有效地址变换为物理地址。地址变换表在处理器单元(10)的存储器中将分配给各个周边设备(30)的区域的有效地址、和被提供了对该有效地址的存取许可的存取源识别信息相关联地存储。在从周边设备(30)被存取时，地址变换单元(14)以存取请求分组中所包含的、可唯一地识别该周边设备(30)的设备识别信息，和地址变换表中的、与由该地址请求分组所指定的有效地址对应的存取源识别信息一致作为条件，决定对于该有效地址的存取许可。
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公开(公告)号：CN101204851A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200710160039.X
申请日：2007-12-21
申请人： 索尼株式会社
IPC分类号： B29C67/00
CPC分类号： G03F7/2022 , B22F3/008 , B29C64/135 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02 , B33Y70/00
摘要： 提供了一种通过以光照射可光固化树脂顺序形成硬化层形成所希望形状的模型的光学建模装置。该装置包括发出用于在树脂上绘制的光束的第一光源，在树脂上扫描来自第一光源的光束扫描设备，发出一次照射树脂的一个固定区域的光的第二光源，和空间调制来自第二光源的光以便对树脂的指定区域进行全面曝光的空间光调制器。来自扫描设备的光束和来自空间光调制器的光形成每个硬化层。
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公开(公告)号：CN1433008A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN03101057.1
申请日：2003-01-09
CPC分类号： G11B7/2542 , G11B7/24056 , G11B7/2534 , G11B7/256 , G11B7/259 , Y10T428/28 , Y10T428/2891
摘要： 一种用于光盘的保护膜，该保护膜包括设置在透光底膜一个面上的丙烯酸粘合剂层，其中由式[1]表示的透射率的变化(X)为10％或更小，并且由构成丙烯酸粘合剂层的丙烯酸粘合剂上卤素离子的洗脱量及碱性离子的量均为10ppm或更小；以及使用所述保护膜的光盘。该保护膜用于保护光盘的信息记录层，并使光盘的记录和恢复功能不受负面影响。X(％)＝[(Ta－Tb)/Ta]×100－－－[1](Ta：405nm的光通过保护膜的初始透射率，Tb：当保护膜在80℃下在RH为85％的条件下放置1000小时后，405nm的光通过所述保护膜的透射率)。
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公开(公告)号：CN101714371A
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200910179414.4
申请日：2009-10-09
申请人： 索尼株式会社
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C45/263 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0017 , G11B7/1374 , G11B7/1387 , G11B7/261 , G11B7/263 , G11B2007/13727
摘要： 本发明涉及制造母盘的方法以及制造光盘的方法。一种制造母盘的方法包括以下步骤：在母盘形成衬底上形成无机抗蚀剂层，在无机抗蚀剂层的表面形成含有高折射率材料的保护薄膜以形成无机抗蚀剂母盘，其中高折射率材料的折射率n满足n≥曝光光学系统的NA，并且高折射率材料混合在光透过材料中；使用曝光光学系统从保护薄膜上方在无机抗蚀剂母盘上执行NA＞1的近场曝光；将保护薄膜从经受了曝光的无机抗蚀剂母盘上分离；通过对分离了保护薄膜的无机抗蚀剂母盘的显影，形成包括曝光部分和未曝光部分的突起/凹陷图案。
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公开(公告)号：CN100399441C
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200610079176.6
申请日：2006-05-12
申请人： 索尼株式会社
摘要： 本发明提供了一种光学记录介质，被来自光源的光作为近场光使用数值孔径超过1的聚焦透镜进行照射来执行记录和/或再生，其中，折射率高于透光材料部分的高折射率材料部分与透光材料部分混合得到的复合层设置在光学记录介质的光入射侧的表面上。由于复合层的平均折射率较高，因而可以使由表面层的折射率控制的数值孔径变大，从而获得高分辨率和抵抗与透镜等接触的耐久性。
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公开(公告)号：CN1277264C
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN03101057.1
申请日：2003-01-09
IPC分类号： G11B7/24
CPC分类号： G11B7/2542 , G11B7/24056 , G11B7/2534 , G11B7/256 , G11B7/259 , Y10T428/28 , Y10T428/2891
摘要： 一种用于光盘的保护膜，该保护膜包括设置在透光底膜一个面上的丙烯酸粘合剂层，其中由式[1]表示的透射率的变化(X)为10%或更小，并且由构成丙烯酸粘合剂层的丙烯酸粘合剂上卤素离子的洗脱量及碱性离子的量均为10ppm或更小；以及使用所述保护膜的光盘。该保护膜用于保护光盘的信息记录层，并使光盘的记录和恢复功能不受负面影响。X(%)＝[(Ta-Tb)/Ta]×100——-[1](Ta：405nm的光通过保护膜的初始透射率，Tb：当保护膜在80℃下在RH为85%的条件下放置1000小时后，405nm的光通过所述保护膜的透射率)。
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公开(公告)号：CN1733855A
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN200510091438.6
申请日：2005-08-10
IPC分类号： C09D201/00 , C08J7/04 , C08J5/18
CPC分类号： G11B7/26 , G11B7/24056 , G11B7/252 , G11B7/2542 , G11B7/256
摘要： 本发明涉及含有电离放射线固化性化合物为主要成分的涂布剂和溶剂的涂层用组合物，把涂层用组合物中的涂布剂的浓度a(重量％)在以下的条件下，0＜a≤60，涂布剂的浓度a与涂层用组合物的表面张力b(达因/厘米)满足以下关系b≤(－a/15)+26的涂层用组合物，涂布在保护膜11的表面上固化形成硬涂层12。这样的硬涂层12即使是在保护膜11的表面上存在凸部或异物的场合，也可遮盖住这些凸部或异物具有高的表面平滑性。
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公开(公告)号：CN1191578C
公开(公告)日：2005-03-02
申请号：CN00800893.0
申请日：2000-01-18
申请人： 索尼株式会社
CPC分类号： B29C59/026 , B29C59/04 , B29C2035/0827 , B29L2017/003 , G11B7/24 , G11B7/26 , Y10S428/90
摘要： 本发明涉及具有多层信号记录层的盘状多层记录媒体，其中在每个信号记录层上载有信息信号。在制备记录媒体中，将冲压薄板而得到的第一基片粘结到注入模压合成树脂材料得到的第二基片上，其中薄板是通过依次把信号记录模式从第一压模转录到该薄板上并在信号表面上形成半透明膜而获得的。通过把形成在注入模压设备上所提供的第二压模上的信号记录模式转录到第二基片来制备第二基片。将反射膜形成在具有转录的第二基片的信号表面上。第一和第二基片在它们的信号记录层上通过透明粘结层互相粘结一起。
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